[發明專利]量子點修飾方法在審
| 申請號： | 202110606729.3 | 申請日： | 2021-05-31 |
| 公開（公告）號： | CN113403061A | 公開（公告）日： | 2021-09-17 |
| 發明（設計）人： | 王子琪;王士攀 | 申請（專利權）人： | 廣東聚華印刷顯示技術有限公司 |
| 主分類號： | C09K11/02 | 分類號： | C09K11/02;C09K11/56;C09K11/62;C09K11/66;C09K11/88 |
| 代理公司： | 深圳市世紀恒程知識產權代理事務所 44287 | 代理人： | 王徑武 |
| 地址： | 510000 廣東省廣州市*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 量子 修飾 方法 | ||
1.一種量子點修飾方法，其特征在于，所述量子點修飾方法包括以下步驟：
確定介電常數小于或者等于預設數值的第一溶劑與介電常數大于所述預設數值的第二溶劑；
根據配體、所述第一溶劑與所述第二溶劑得到介電常數為2～10的目標配體溶液；
將所述目標配體溶液與待修飾量子點溶液混合反應，得到目標量子點溶液。
2.如權利要求1所述的量子點修飾方法，其特征在于，所述根據配體、所述第一溶劑與所述第二溶劑得到介電常數為2～10的目標配體溶液的步驟包括：
將所述第一溶劑與所述第二溶劑混合，得到介電常數為2～10的混合溶劑；
將所述配體與所述混合溶劑混合，得到所述介電常數為2～10的目標配體溶液。
3.如權利要求1所述的量子點修飾方法，其特征在于，所述根據配體、所述第一溶劑與所述第二溶劑得到介電常數為2～10的目標配體溶液的步驟包括：
將所述配體與所述第二溶劑混合，得到配體溶液；
將所述配體溶液與所述第一溶劑混合，得到所述介電常數為2～10的目標配體溶液。
4.如權利要求3所述的量子點修飾方法，其特征在于，所述配體溶液的質量濃度為1～40mg/ml，所述目標配體溶液的質量濃度為1～10mg/ml。
5.如權利要求1所述的量子點修飾方法，其特征在于，所述配體包括R-CHNH2COOH、PEA-X、R-CH2-X、鹵化物胺鹽和有機胺中的一種或多種，所述R為烷基鏈，所述X為單價鹵素陰離子。
6.如權利要求1所述的量子點修飾方法，其特征在于，所述第一溶劑包括辛烷、正己烷、庚烷、甲苯、氯苯、間二甲苯、鄰二甲苯和對二甲苯中的一種或多種，所述第二溶劑包括乙醇、丙酮、甲醇、正己醇和二甲基甲酰胺中的一種或多種。
7.如權利要求1所述的量子點修飾方法，其特征在于，所述將所述目標配體溶液與待修飾量子點溶液混合反應的步驟包括：
將所述目標配體溶液與所述待修飾量子點溶液以1:100～30:100的體積比混合反應。
8.如權利要求1所述的量子點修飾方法，其特征在于，所述預設數值為5，所述確定介電常數小于或者等于預設數值的第一溶劑與介電常數大于所述預設數值的第二溶劑的步驟包括：
確定介電常數小于或者等于5的所述第一溶劑與介電常數大于5的所述第二溶劑。
9.如權利要求1所述的量子點修飾方法，其特征在于，所述第一溶劑與所述第二溶劑的體積比為2:1。
10.如權利要求1所述的量子點修飾方法，其特征在于，所述目標配體溶液的介電常數為4～5。
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