[發明專利]多通道高精度靜態稀釋系統有效
| 申請號: | 202110605984.6 | 申請日: | 2021-06-02 |
| 公開(公告)號: | CN113405887B | 公開(公告)日: | 2022-12-09 |
| 發明(設計)人: | 不公告發明人 | 申請(專利權)人: | 北京高斯匹克技術有限公司 |
| 主分類號: | G01N1/38 | 分類號: | G01N1/38 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 102200 北京市昌平區*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 通道 高精度 靜態 稀釋 系統 | ||
1.一種多通道高精度靜態稀釋系統,其特征在于包括固定稀釋比模塊(A),任意稀釋比模塊(B),靜態稀釋氣并聯存儲模塊(C),靜態稀釋氣串聯存儲模塊(D),六通道并聯氣體存儲模塊(E);
各個模塊具體特征為:
(1)固定稀釋比模塊(A):包括定量模塊(8)、第一樣品氣輸入端(2)、第一稀釋氣輸入端(1)、第一加濕器(14)、第一排空口(4)、第一六通閥(5),樣品氣由第一樣氣輸入控制模塊(11)輸入,中間流經第一樣氣質控模塊(7)后連接第一六通閥(5),稀釋氣經過第一稀釋氣輸入控制模塊(10)輸入,中間分流為兩路,一路通過第一干燥氣體輸入控制閥(12)、第一干燥氣輸入單向閥(15)進入第一稀釋氣質控模塊(6),另一路經過第一濕氣輸入控制閥(13)、第一加濕器(14)、第一濕氣輸入單向閥(16)進入第一稀釋氣質控模塊(6),第一稀釋氣質控模塊(6)、定量模塊(8)、第一排空口(4)、固定稀釋比模塊輸出端(3)分別與第一六通閥(5)連接;
(2)任意稀釋比模塊(B):樣品氣分流輸出端(18)經過樣氣分流控制模塊(23)與限流控制模塊(31)連接,第二樣品氣輸入端(19)經過第二樣氣輸入控制模塊(24)與限流控制模塊(31)連接,限流控制模塊(31)通過第二樣氣質控模塊(26)、緩沖腔(27)與樣氣輸入切換閥(35)連接,第二稀釋氣輸入端(17)連接第二稀釋氣輸入控制模塊(22),稀釋氣通過第二干燥氣體輸入控制閥(28)和第二干燥氣輸入單向閥(33)或者通過第二濕氣輸入控制閥(29)、第二加濕器(30)和第二濕氣輸入單向閥(32)進入第二稀釋氣質控模塊(25),第二稀釋氣質控模塊(25)連接稀釋氣輸入切換閥(34),稀釋氣輸入切換閥(34)分別連接任意稀釋比輸出端(20)和樣氣輸入切換閥(35),樣氣輸入切換閥(35)連接第二排空口(21);
(3)靜態稀釋氣并聯存儲模塊(C):靜態稀釋氣通過靜態稀釋氣并聯氣體輸入端(36)分別進入并聯的第一氣罐(50)、第二氣罐(51)進行氣體存儲或輸出,靜態稀釋氣分別通過第一靜態稀釋氣恒流輸出端(38)、第一靜態稀釋氣直通輸出端(39)、第三排空口(40)、第一罐清潔真空泵(37)輸出;
(4)靜態稀釋氣串聯存儲模塊(D):靜態稀釋氣通過串聯的第三氣罐(67)、第四氣罐(68)進行氣體存儲或輸出,靜態稀釋氣分別通過第二罐清潔真空泵(56)、第二靜態稀釋氣恒流輸出端(57)、第二靜態稀釋氣直通輸出端(58)、第四排空口(59)輸出;
(5)六通道并聯氣體存儲模塊(E)利用六路并聯的氣罐進行氣體存儲;
固定稀釋比控制模塊(A)的固定稀釋比模塊輸出端(3)和靜態稀釋氣并聯存儲模塊(C)中的靜態稀釋氣并聯氣體輸入端(36)、靜態稀釋氣串聯存儲模塊(D)中的靜態稀釋氣串聯氣體輸入端(55)、靜態稀釋氣六通道存儲模塊(E)中的六通道并聯氣體輸入端(69)進行連接,或任意稀釋比控制模塊(B)中任意稀釋比輸出端(20)和靜態稀釋氣并聯存儲模塊(C)中的靜態稀釋氣并聯氣體輸入端(36)、靜態稀釋氣串聯存儲模塊(D)中的靜態稀釋氣串聯氣體輸入端(55)、靜態稀釋氣六通道存儲模塊(E)中的六通道并聯氣體輸入端(69)進行連接;
通過以上模塊,基本涵蓋了全部氣體分析系統所需要的氣體配置要求,采用以上兩種稀釋模塊和三種存儲模塊進行組合,實現不同稀釋及存儲要求所需要的應用條件,固定稀釋比模塊利用高精度體積校準方法和一路大流量稀釋氣,對被稀釋氣進行高精度的稀釋,采用對單點位稀釋氣校準和補償,通過改變不同氣罐體積和定量環體積實現最高精度多濃度的稀釋過程,此過程無理論死體積,稀釋誤差來源于系統操作過程中的控制閥切換帶來的氣流擾動和稀釋氣輸入精度,在內標或質控使用時,使用固定稀釋比模塊和任意存儲模塊進行連接;在使用外標時,使用固定稀釋比模塊和六通道并聯存儲模塊進行連接;任意稀釋比進行配置氣體時,使用結合三種存儲模塊進行任意組合。
2.根據權利要求1所述的系統,其任意稀釋比模塊利用一路大流量稀釋氣和一路小流量樣品氣進行分時進氣方式,采用對稀釋氣單點校準和補償,對樣品氣體的多點校準和補償實現任意稀釋比,通過緩沖腔、分流、限流的方式保證樣品系統擾動最小。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于北京高斯匹克技術有限公司,未經北京高斯匹克技術有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110605984.6/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





