[發(fā)明專利]一種材質(zhì)光滑均勻的玻璃缺陷檢測(cè)裝置及方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110604088.8 | 申請(qǐng)日: | 2021-05-31 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113340915A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-09-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉哲;任義烽;姚國(guó)年 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 西京學(xué)院 |
| 主分類號(hào): | G01N21/95 | 分類號(hào): | G01N21/95;G01N21/956;G01N21/958;G06T7/00;G06T7/12;G06T7/187;G06T5/00 |
| 代理公司: | 北京眾合誠(chéng)成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11246 | 代理人: | 龔燮英 |
| 地址: | 710100 *** | 國(guó)省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 材質(zhì) 光滑 均勻 玻璃 缺陷 檢測(cè) 裝置 方法 | ||
1.一種材質(zhì)光滑均勻的玻璃缺陷檢測(cè)裝置,其特征在于,包括:
工作臺(tái),所述工作臺(tái)勻速運(yùn)動(dòng),用于放置待檢測(cè)玻璃;
線陣相機(jī),用于采集被檢測(cè)玻璃的圖像;
同軸線性光源,四個(gè)同軸線性光源平行于工作臺(tái)設(shè)置,分別位于以線陣相機(jī)為中心的虛擬正方形的四個(gè)邊上;
圖像處理主機(jī),與線陣相機(jī)連接,用于缺陷圖像的預(yù)處理和缺陷提取;
所述同軸線性光源位于線陣相機(jī)和工作臺(tái)之間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種材質(zhì)光滑均勻的玻璃缺陷檢測(cè)裝置,其特征在于,所述四個(gè)同軸線性光源平行于工作臺(tái)設(shè)置,分別位于以線陣相機(jī)為中心的虛擬正方形的四個(gè)邊上,每個(gè)同軸線性光源距工作臺(tái)的高度是50cm,距中心點(diǎn)的距離是50cm,并保持同軸線性光源與工作臺(tái)嚴(yán)格平行,光源入射角度為45度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種材質(zhì)光滑均勻的玻璃缺陷檢測(cè)裝置,其特征在于,所述同軸線性光源位于線陣相機(jī)和工作臺(tái)之間,線陣相機(jī)距工作臺(tái)70cm。
4.一種材質(zhì)光滑均勻的玻璃缺陷機(jī)器視覺(jué)檢測(cè)方法,其特征在于,包括以下步驟:
1)圖像非均勻校正
選取沒(méi)有缺陷的光滑均勻玻璃成像,設(shè)成像的圖像大小為M×N,在像素(x,y)處,該像素的灰度值為I(x,y),該圖像所有像素的平均灰度值為:
則在像素(x,y)處的成像增益系數(shù)為:
將待測(cè)玻璃進(jìn)行成像,設(shè)成像的圖像大小為M×N,像素(x,y)處的灰度值為H(x,y),則非均勻性校正后的圖像像素值為
K(x,y)=λ(x,y)H(x,y);
2)采用引導(dǎo)濾波算法對(duì)圖像進(jìn)行降噪;
3)圖像增強(qiáng)
設(shè)I(x,y)為圖像中像素(x,y)的灰度值,局部區(qū)域定義為:以(x,y)為中心,窗口的大小為(2n+1)×(2n+1)的區(qū)域,其中n為整數(shù);
局部區(qū)域的平均值,即低頻部分,用下式計(jì)算:
局部方差為:
設(shè)f(x,y)為I(x,y)對(duì)應(yīng)像素增強(qiáng)后的像素值,則f(x,y)可表示為:
f(x,y)=M(x,y)+γ[I(x,y)-M(x,y)]
式中γ為增強(qiáng)系數(shù);
4)圖像分割
采用區(qū)域生長(zhǎng)法進(jìn)行玻璃缺陷圖像的分割,對(duì)分割圖像每一個(gè)子區(qū)域指定一個(gè)種子點(diǎn)作為生長(zhǎng)的起始點(diǎn),將種子點(diǎn)周?chē)I(lǐng)域的像素點(diǎn)和種子點(diǎn)進(jìn)行對(duì)比,將具有灰度值相近的點(diǎn)合并起來(lái)繼續(xù)向外生長(zhǎng),直到?jīng)]有滿足條件的像素被包括進(jìn)來(lái)為止。
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





