[發明專利]曝光裝置、平面顯示器之制造方法、以及元件制造方法

在審

• 申請號: 202110601500.0
• 申請日: 2016-09-29
• 公開（公告）號: CN113359395A
• 公開（公告）日: 2021-09-07
• 發明（設計）人: 白戶章仁
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G01D5/38
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 侯天印;郝博

1.一種曝光裝置，對在彼此正交之第1方向及第2方向移動之移動體所保持之物體，在前述移動體往前述第1方向之移動中經由光學系統照射照明光，其具有：

第1被測量部，根據前述移動體往前述第1方向之移動而被測量；

第1測量部，根據前述移動體往前述第1方向之移動，一邊相對前述第1被測量部往前述第1方向相對移動一邊測量前述第1被測量部；

多個第2被測量部，根據前述移動體往前述第2方向之移動而被測量，配置于在前述第1方向彼此不同之位置；以及

多個第2測量部，對應前述多個第2被測量部之各個設置，且根據前述物體往前述第2方向之移動，一邊相對前述第2被測量部往前述第2方向相對移動一邊測量前述第2被測量部。

2.如權利要求1所述的曝光裝置，其中，根據前述第1測量部之輸出與前述第2測量部之輸出，求出前述移動體在前述第1方向及前述第2方向之位置信息。

3.如權利要求1或2所述的曝光裝置，其中，前述第1測量部與前述第2測量部一體移動；

基于前述移動體往前述第1方向之移動，根據相對前述第1被測量部在前述相對移動時之前述第1測量部及前述第2測量部之輸出求出前述第1方向之位置信息；

基于前述移動體往前述第2方向之移動，根據相對前述第2被測量部在前述相對移動時之前述第1測量部及前述第2測量部之輸出求出前述第2方向之位置信息。

4.如權利要求3所述的曝光裝置，其中，前述第1被測量部，包含在前述第1方向上多個格子區域彼此分離配置之第1格子構件；

前述第1測量部，包含對前述第1格子構件照射測量光束之讀頭；

前述第2被測量部，包含在前述第2方向上多個格子區域彼此分離配置之第2格子構件；

前述第2測量部，包含對前述第2格子構件照射測量光束之讀頭。

5.如權利要求1至4中任一項所述的曝光裝置，其中，前述第1被測量部設于前述移動體上。

6.如權利要求1至5中任一項所述的曝光裝置，其中，前述第2被測量部設于保持前述光學系統之保持構件。

7.如權利要求1至6中任一項所述的曝光裝置，其中，前述多個第2被測量部，配置于在前述第1方向彼此分離之位置。

8.如權利要求1至7中任一項所述的曝光裝置，其中，前述光學系統，具備多個透鏡模組，該多個透鏡模組分別包含對基板照射前述照明光之在前述第2方向排列配置之多個投影透鏡；

前述多個透鏡模組，在前述第1方向分離配置；

前述多個第2被測量部，配置成在前述第1方向之位置重疊于前述多個透鏡模組之各個。

9.如權利要求1至7中任一項所述的曝光裝置，其具有測量形成于前述基板上之標記之標記測量系統；

前述光學系統包含對基板照射前述照明光之投影光學系統；

前述多個第2被測量部，配置成在前述第1方向之位置重疊于前述標記測量系統與前述投影光學系統之各個。

10.如權利要求9所述的曝光裝置，其中，前述多個第2被測量部中對應前述標記測量系統之第2被測量部，構成為在前述第2方向之長度較對應前述投影光學系統之第2測量部短。

11.如權利要求9或10所述的曝光裝置，其中，前述標記測量系統，設成在前述第2方向分離設有多個且能變更在前述第2方向之至少兩個標記測量系統之相對間隔。