[發明專利]曝光裝置、平面顯示器之制造方法、以及元件制造方法

在審

• 申請號: 202110601500.0
• 申請日: 2016-09-29
• 公開（公告）號: CN113359395A
• 公開（公告）日: 2021-09-07
• 發明（設計）人: 白戶章仁
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G01D5/38
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 侯天印;郝博

一種液晶曝光裝置，對沿著XY平面移動之基板保持具(34)所保持之基板(P)，在基板保持具(34)往X軸方向之移動中經由光學系統(16)照射照明光，其具有：標尺(52)，根據基板保持具往X軸方向之移動而被測量；讀頭(66x、66y)，根據基板保持具往X軸方向之移動，一邊相對標尺(52)往X軸方向相對移動一邊測量標尺(52)；多個標尺(56)，根據基板保持具往Y軸方向之移動而被測量，配置于在X軸方向彼此不同之位置；以及多個讀頭(64x、64y)，對應標尺(56)之各個設置，且根據基板往Y軸方向之移動，一邊相對標尺(56)往Y軸方向相對移動一邊測量標尺(56)。

本申請是申請日為2016年09月29日，申請號為201680057154.1，發明名稱為“曝光裝置、平面顯示器之制造方法、以及元件制造方法”的專利申請的分案申請。

技術領域

本發明關于曝光裝置、平面顯示器之制造方法、以及元件制造方法。

背景技術

以往，在制造液晶顯示元件、半導體元件(集成電路等)等之電子元件(微型元件)之微影制程中，使用步進掃描方式之曝光裝置(所謂掃描步進機(亦稱為掃描機))等，其一邊使光罩(photomask)或標線片(以下總稱為「光罩」)與玻璃板或晶圓(以下總稱為「基板」)沿著既定掃描方向(SCAN方向)同步移動，一邊使用能量光束將形成在光罩之圖案轉印至基板上。

作為此種曝光裝置，已知有使用基板載臺裝置所具有之棒反射鏡(長條之鏡)求出曝光對象基板在水平面內之位置信息的光干涉儀系統者(參照例如專利文獻1)。

此處，在使用光干涉儀系統求出基板之位置信息之情形，無法忽視所謂空氣波動之影響。又，上述空氣波動之影響，雖能借助使用編碼器系統來減低，但因近年基板之大型化，難以準備能涵蓋基板全移動范圍的標尺。

現有技術文獻

[專利文獻1]美國專利申請公開第2010/0266961號說明書

發明內容

根據本發明之第1態樣，提供一種曝光裝置，對在彼此正交之第1方向及第2方向移動之移動體所保持之物體，在移動體往第1方向之移動中經由光學系統照射照明光，其具有：第1被測量部，根據移動體往第1方向之移動而被測量；第1測量部，根據移動體往第1方向之移動，一邊相對第1被測量部往第1方向相對移動一邊測量第1被測量部；多個第2被測量部，根據移動體往第2方向之移動而被測量，配置于在第1方向彼此不同之位置；以及多個第2測量部，對應多個第2被測量部之各個設置，且根據物體往第2方向之移動，一邊相對第2被測量部往第2方向相對移動一邊測量第2被測量部。

根據本發明之第2態樣，提供一種曝光裝置，對在彼此正交之第1方向及第2方向移動之移動體所保持之物體，在移動體往第1方向之移動中經由光學系統照射照明光，其具有：多個被測量部，根據移動體往第2方向之移動而被測量，配置于在第1方向彼此不同之位置，以取得移動體在第2方向之位置信息；以及多個測量部，對應多個被測量部之各個設置，且根據物體往第2方向之移動，一邊相對被測量部往第2方向相對移動一邊測量被測量部。

根據本發明之第3態樣，提供一種曝光裝置，在對被保持成能在包含彼此正交之第1方向及第2方向之面內往第1及第2方向移動之物體往第1方向之移動中，經由光學系統對物體照射照明光，其具有：多個被測量部，根據物體往第2方向之移動而被測量，配置于在第1方向彼此不同之位置，以取得物體在第2方向之位置信息；以及多個測量部，對應多個被測量部之各個設置，且根據物體往第2方向之移動，一邊相對被測量部往第2方向相對移動一邊測量被測量部。