[發(fā)明專利]掩膜版、陣列基板的制作方法和顯示裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110592220.8
• 申請日: 2021-05-28
• 公開（公告）號: CN113327938A
• 公開（公告）日: 2021-08-31
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 范文志;李陽;蔡偉民;施文峰;李瑤;朱超
• 申請（專利權(quán)）人: 合肥維信諾科技有限公司
• 主分類號: H01L27/12
• 分類號: H01L27/12;H01L21/77;H01L27/32;G03F1/24
• 代理公司: 北京華進(jìn)京聯(lián)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11606
• 代理人: 吳迪

1.一種掩膜版，用于制作陣列基板(300)，所述陣列基板(300)包括多個第一連接孔(310)和多個第二連接孔(320)，所述第一連接孔(310)周圍的走線面積小于所述第二連接孔(320)周圍的走線面積，其特征在于，所述掩膜版包括：

掩膜版主體(100)，所述掩膜版主體(100)開設(shè)有多個第一通光孔(110)和多個第二通光孔(120)，所述第一通光孔(110)對應(yīng)所述第一連接孔(310)，所述第二通光孔(120)對應(yīng)所述第二連接孔(320)，曝光時所述第一通光孔(110)的輻射通量大于所述第二通光孔(120)的輻射通量。

2.如權(quán)利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第一通光孔(110)的橫截面積大于所述第二通光孔(120)的橫截面積。

3.如權(quán)利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第一通光孔(110)的透光率大于所述第二通光孔(120)的透光率。

4.如權(quán)利要求3所述的掩膜版，其特征在于，所述第二通光孔(120)設(shè)置有半透光層(122)。

5.如權(quán)利要求1所述的掩膜版，其特征在于，在所述掩膜版主體(100)的出光側(cè)，所述第一通光孔(110)的周圍設(shè)置有反光層(210)。

6.如權(quán)利要求5所述的掩膜版，其特征在于，沿所述第一通光孔(110)周圍到所述第一通光孔(110)中心的方向，所述反光層(210)的高度逐級遞減。

7.如權(quán)利要求5所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜版還包括透明襯底(200)，所述透明襯底(200)和所述掩膜版主體(100)層疊設(shè)置，所述反光層(210)設(shè)置于所述透明襯底(200)遠(yuǎn)離所述掩膜版主體(100)的表面，所述反光層(210)在所述掩膜版主體(100)的正投影圍繞所述第一通光孔(110)的中心設(shè)置。

8.如權(quán)利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述陣列基板(300)包括顯示區(qū)(330)和非顯示區(qū)(340)，所述非顯示區(qū)(340)圍繞所述顯示區(qū)(330)設(shè)置，所述非顯示區(qū)(340)的走線面積小于所述顯示區(qū)(330)的走線面積，所述多個第一連接孔(310)設(shè)置于所述顯示區(qū)(330)靠近所述非顯示區(qū)(340)的邊緣，所述多個第二連接孔(320)設(shè)置于所述顯示區(qū)(330)的中部，所述多個第一連接孔(310)圍繞所述多個第二連接孔(320)設(shè)置；

所述多個第一通光孔(110)設(shè)置于所述掩膜版主體(100)的邊緣，所述多個第二通光孔(120)設(shè)置于所述掩膜版的中部，所述多個第一通光孔(110)圍繞所述多個第二通光孔(120)設(shè)置。

9.一種陣列基板(300)的制作方法，其特征在于，包括：

提供掩膜版(10)，所述掩膜版(10)包括掩膜版主體(100)，所述掩膜版主體(100)設(shè)置有多個第一通光孔(110)和多個第二通光孔(120)，曝光時，所述第一通光孔(110)的輻射通量大于所述第二通光孔(120)的輻射通量；

通過所述掩膜版(10)在所述陣列基板(300)形成多個第一連接孔(310)的圖案和多個第二連接孔(320)的圖案，所述多個第一通光孔(110)對應(yīng)所述多個第一連接孔(310)的圖案，所述多個第二通光孔(120)對應(yīng)所述多個第二連接孔(320)的圖案；

基于所述多個第一連接孔(310)的圖案和所述多個第二連接孔(320)的圖案在所述陣列基板(300)形成所述多個第一連接孔(310)和所述多個第二連接孔(320)，所述多個第一連接孔(310)周圍的走線面積小于所述多個第二連接孔(320)周圍的走線面積。

10.一種顯示裝置，其特征在于，包括陣列基板(300)，所述陣列基板(300)采用權(quán)利要求9所述的制作方法制作。