[發明專利]阿美替尼二甲磺酸鹽、晶型及其制備方法和應用在審
| 申請號： | 202110592093.1 | 申請日： | 2021-05-28 |
| 公開（公告）號： | CN115403563A | 公開（公告）日： | 2022-11-29 |
| 發明（設計）人： | 連小剛;劉夢瑜;林青;魏娜;趙海霞 | 申請（專利權）人： | 江蘇豪森藥業集團有限公司 |
| 主分類號： | C07D403/04 | 分類號： | C07D403/04;C07C309/04;C07C303/32;A61K31/506;A61P35/00 |
| 代理公司： | 北京戈程知識產權代理有限公司 11314 | 代理人： | 程偉 |
| 地址： | 222047 *** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 阿美替尼 二甲 磺酸鹽 及其 制備 方法 應用 | ||
1.式I所示的阿美替尼二甲磺酸鹽，
2.根據權利要求1所述的阿美替尼二甲磺酸鹽，其特征在于，為晶型或無定形。
3.根據權利要求2所述的阿美替尼二甲磺酸鹽晶型，其特征在于，
晶型包括晶型A、晶型B、晶型C、晶型D、晶型E、晶型F、晶型G、晶型H、晶型I和晶型J，其中，
晶型A的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為6.1±0.2°處具有衍射峰，或者在8.5±0.2°處具有衍射峰，或者在17.0±0.2°處具有衍射峰，或者在21.9±0.2°處具有衍射峰，或者在23.2±0.2°處具有衍射峰，或者在24.6±0.2°處具有衍射峰，或者在25.6±0.2°處具有衍射峰，或者在11.1±0.2°處具有衍射峰，或者在14.0±0.2°處具有衍射峰，或者在16.0±0.2°處具有衍射峰，優選包含上述衍射衍射峰中的任意2～5處，或者3～5處，或者3～6處，或者3～8處，或者5～8處，或者6～8處；更優選包含其中任意6處、7處或8處；
優選地，晶型A的X-射線粉末衍射圖譜至少包含位于2θ為6.1±0.2°、8.5±0.2°、17.0±0.2°中的一處或多處衍射峰，優選包含其中2處，更優選包含3處；任選的，進一步還可以包含2θ°為21.9±0.2°、23.2±0.2°、24.6±0.2°、25.6±0.2°和11.1±0.2°中的至少一處，優選包含其中2處、3處、4處或5處；
例如，晶型A的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為以下位置處有衍射峰：
6.1±0.2°、8.5±0.2°、17.0±0.2°、21.9±0.2°、23.2±0.2°和24.6±0.2°處；
或者，8.5±0.2°、17.0±0.2°、21.9±0.2°、23.2±0.2°、24.6±0.2°和25.6±0.2°處；
或者，6.1±0.2°、17.0±0.2°、23.2±0.2°、24.6±0.2°、25.6±0.2°和11.1±0.2°處；
更優選地，晶型A的X-射線粉末衍射圖譜任選還包含位于2θ為14.0±0.2°、16.0±0.2°、27.0±0.2°、30.3±0.2°和34.1±0.2°中的一處或多出衍射峰；優選至少包含其中任意2-3處，或者4-5處；進一步優選，包含其中任意2處、3處、4處、5處；
例如，晶型A的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為以下位置處有衍射峰：
6.1±0.2°、17.0±0.2°、23.2±0.2°、24.6±0.2°、25.6±0.2°、11.1±0.2°、14.0±0.2°和16.0±0.2°處；
或者，6.1±0.2°、8.5±0.2°、17.0±0.2°、21.9±0.2°、23.2±0.2°、24.6±0.2°、14.0±0.2°和16.0±0.2°處；
或者，8.5±0.2°、17.0±0.2°、21.9±0.2°、23.2±0.2°、24.6±0.2°、25.6±0.2°14.0±0.2°和16.0±0.2°處；
進一步優選地，晶型A的X-射線粉末衍射圖譜包含位于2θ為6.1±0.2°、8.5±0.2°、17.0±0.2°、21.9±0.2°、23.2±0.2°、24.6±0.2°、25.6±0.2°、11.1±0.2°、14.0±0.2°、16.0±0.2°、27.0±0.2°、30.3±0.2°和34.1±0.2°中的一處或多處衍射峰；優選的，包含其中任選的4處、5處、6處、8處或10處有衍射峰；
例如，晶型A的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為以下位置處有衍射峰：
6.1±0.2°、8.5±0.2°、17.0±0.2°和21.9±0.2°處；
或者，6.1±0.2°、8.5±0.2°、17.0±0.2°、21.9±0.2°和23.2±0.2°處；
或者，8.5±0.2°、17.0±0.2°、21.9±0.2°、23.2±0.2°、24.6±0.2°和25.6±0.2°處；
或者，6.1±0.2°、8.5±0.2°、23.2±0.2°、24.6±0.2°、25.6±0.2°、11.1±0.2°、16.0±0.2°和27.0±0.2°處；
或者，6.1±0.2°、8.5±0.2°、17.0±0.2°、21.9±0.2°、23.2±0.2°、24.6±0.2°、25.6±0.2°、11.1±0.2°、14.0±0.2°和16.0±0.2°處；
更進一步優選地，晶型A的X-射線粉末衍射圖譜基本如圖1所示；
晶型B的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為6.6±0.2°處具有衍射峰，或者在8.5±0.2°處具有衍射峰，或者在9.5±0.2°處具有衍射峰，或者在12.4±0.2°處具有衍射峰，或者在16.9±0.2°處具有衍射峰，或者在19.7±0.2°處具有衍射峰，或者在22.1±0.2°處具有衍射峰，或者在25.0±0.2°處具有衍射峰，或者在13.1±0.2°處具有衍射峰，或者在13.9±0.2°處具有衍射峰，優選包含上述衍射衍射峰中的任意2～5處，或者3～5處，或者3～6處，或者3～8處，更優選包含其中任意4處、6處或8處；
優選地，晶型B的X-射線粉末衍射圖譜至少包含位于2θ為6.6±0.2°、8.5±0.2°和9.5±0.2°中的一處或多處衍射峰，優選包含其中2處，更優選包含3處；任選的，進一步還可以包含2θ°為12.4±0.2°、16.9±0.2°、19.7±0.2°、22.1±0.2°和25.0±0.2°中的至少一處，優選包含其中2處、3處、4處或5處；
例如，晶型B的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為以下位置處有衍射峰：
6.6±0.2°、8.5±0.2°、9.5±0.2°、12.4±0.2°、16.9±0.2°和19.7±0.2°處；
或者，6.6±0.2°、8.5±0.2°、16.9±0.2°、19.7±0.2°、22.1±0.2°和25.0±0.2°處；
或者，8.5±0.2°、9.5±0.2°、12.4±0.2°、19.7±0.2°、22.1±0.2°和25.0±0.2°處；
更優選地，晶型A的X-射線粉末衍射圖譜任選還包含在2θ為13.1±0.2°、13.9±0.2°、14.7±0.2°、15.8±0.2°、18.1±0.2°、20.8±0.2°、22.6±0.2°和23.4±0.2°中的一處或多出衍射峰；優選至少包含其中任意2-3處，或者4-5處，或者6-7處；進一步優選，包含其中任意2處、3處、4處、5處、6處、7處；
例如，晶型A的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為以下位置處有衍射峰：
6.6±0.2°、8.5±0.2°、9.5±0.2°、12.4±0.2°、16.9±0.2°、19.7±0.2°、3.1±0.2°和13.9±0.2°處；
或者，6.6±0.2°、8.5±0.2°、16.9±0.2°、19.7±0.2°、22.1±0.2°、25.0±0.2°、14.7±0.2°、15.8±0.2°、處；
或者，8.5±0.2°、9.5±0.2°、12.4±0.2°、19.7±0.2°、22.1±0.2°、25.0±0.2°、15.8±0.2°和18.1±0.2°處；
進一步優選地，晶型B的X-射線粉末衍射圖譜包含位于2θ為6.6±0.2°、8.5±0.2°、9.5±0.2°、12.4±0.2°、16.9±0.2°、19.7±0.2°、22.1±0.2°、25.0±0.2°、13.1±0.2°、13.9±0.2°、14.7±0.2°、15.8±0.2°、18.1±0.2°、20.8±0.2°、22.6±0.2°和23.4±0.2°中的一處或多處衍射峰；優選的，包含其中任選的4處、5處、6處、8處或10處有衍射峰；
例如，晶型B的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為以下位置處有衍射峰：
6.6±0.2°、8.5±0.2°、9.5±0.2°和12.4±0.2°處；
或者，6.6±0.2°、8.5±0.2°、9.5±0.2°、12.4±0.2°和16.9±0.2處；
或者，8.5±0.2°、9.5±0.2°、19.7±0.2、22.1±0.2、25.0±0.2和13.1±0.2°處；
或者，6.6±0.2°、8.5±0.2°、9.5±0.2°、12.4±0.2°、16.9±0.2、19.7±0.2、22.1±0.2和25.0±0.2°處；
或者，9.5±0.2°、12.4±0.2°、16.9±0.2、19.7±0.2、22.1±0.2、25.0±0.2、13.1±0.2°、13.9±0.2°、22.6±0.2°和23.4±0.2°處；
更進一步優選地，晶型B的X-射線粉末衍射圖譜基本如圖2所示；
晶型C的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為7.0±0.2°處具有衍射峰，或者在8.7±0.2°處具有衍射峰，或者在11.2±0.2°處具有衍射峰，或者在13.5±0.2°處具有衍射峰，或者在19.8±0.2°處具有衍射峰，或者在22.0±0.2°處具有衍射峰，或者在22.6±0.2°處具有衍射峰，或者在23.7±0.2°處具有衍射峰，或者在8.2±0.2°處具有衍射峰，或者在10.0±0.2°處具有衍射峰，優選包含上述衍射衍射峰中的任意2～5處，或者3～5處，或者3～6處，或者3～8處，或者5～8處，或者6～8處；更優選包含其中任意6處、7處或8處；
優選地，晶型C的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為7.0±0.2°、8.7±0.2°、11.2±0.2°中的一處或多處衍射峰，優選包含其中2處，更優選包含3處；任選的，進一步還包含在2θ°為13.5±0.2°、19.8±0.2°、22.0±0.2°、22.6±0.2°和23.7±0.2°中的至少一處，優選包含其中2處、3處、4處或5處；
例如，晶型C的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為以下位置處有衍射峰：7.0±0.2°、8.7±0.2°、11.2±0.2°、13.5±0.2°、19.8±0.2°和22.0±0.2°處；或者，7.0±0.2°、8.7±0.2°、19.8±0.2°、22.0±0.2°、22.6±0.2°和23.7±0.2°處；或者，7.0±0.2°、11.2±0.2°、13.5±0.2°、19.8±0.2°、22.6±0.2°和23.7±0.2°處；
更優選地，晶型C的X-射線粉末衍射圖譜還包含在2θ為8.2±0.2°、10.0±0.2°、12.0±0.2°、14.7±0.2°、16.6±0.2°、17.2±0.2°、17.5±0.2°、18.3±0.2°、18.7±0.2°、和24.7±0.2°中的一處或多出衍射峰；優選至少包含其中任意2-3處，或者4-5處，或者6-7處，或者8-10處；進一步優選，包含其中任意2處、3處、4處、5處、6處、7處、8處、9處、10處；
例如，晶型C的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為以下位置處有衍射峰：7.0±0.2°、8.7±0.2°、11.2±0.2°、13.5±0.2°、19.8±0.2°、22.0±0.2°8.2±0.2°和10.0±0.2°處；
或者，7.0±0.2°、8.7±0.2°、19.8±0.2°、22.0±0.2°、22.6±0.2°、23.7±0.2°、12.0±0.2°和14.7±0.2°、處；
或者，7.0±0.2°、11.2±0.2°、13.5±0.2°、19.8±0.2°、22.6±0.2°、23.7±0.2°12.0±0.2°和14.7±0.2°處；
進一步優選地，晶型C的X-射線粉末衍射圖譜包含位于2θ為7.0±0.2°、8.7±0.2°、11.2±0.2°、13.5±0.2°、19.8±0.2°、22.0±0.2°、22.6±0.2°、23.7±0.2°、8.2±0.2°、10.0±0.2°、12.0±0.2°、14.7±0.2°、16.6±0.2°、17.2±0.2°、17.5±0.2°、18.3±0.2°、18.7±0.2°、和24.7±0.2°中的一處或多處衍射峰；優選的，包含其中任選的4處、5處、6處、8處、10處或12處有衍射峰；
例如，晶型C的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為以下位置處有衍射峰：
7.0±0.2°、8.7±0.2°、11.2±0.2°和13.5±0.2處；
或者，7.0±0.2°、8.7±0.2°、11.2±0.2°、13.5±0.2°和19.8±0.2°處；
或者，8.7±0.2°、11.2±0.2°、13.5±0.2°、19.8±0.2°、22.0±0.2°、22.6±0.2°和23.7±0.2°處；
或者，7.0±0.2°、8.7±0.2°、11.2±0.2°、13.5±0.2°、19.8±0.2°、22.0±0.2°、22.6±0.2°、23.7±0.2°和8.2±0.2°處；
或者，7.0±0.2°、8.7±0.2°、11.2±0.2°、13.5±0.2°、19.8±0.2°、22.0±0.2°、22.6±0.2°、23.7±0.2°、8.2±0.2°和10.0±0.2°處；
或者，7.0±0.2°、8.7±0.2°、11.2±0.2°、13.5±0.2°、19.8±0.2°、22.0±0.2°、22.6±0.2°、23.7±0.2°、8.2±0.2°、10.0±0.2°、12.0±0.2°和14.7±0.2°處；
更進一步優選地，晶型C的X-射線粉末衍射圖譜基本如圖3所示；
晶型D的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為7.1±0.2°處具有衍射峰，或者在8.8±0.2°處具有衍射峰，或者在11.3±0.2°處具有衍射峰，或者在13.6±0.2°處具有衍射峰，或者在14.8±0.2°處具有衍射峰，或者在17.6±0.2°處具有衍射峰，或者在20.0±0.2°處具有衍射峰，或者在22.0±0.2°處具有衍射峰，或者在8.1±0.2°處具有衍射峰，或者在12.1±0.2°處具有衍射峰，或者5-8處，或者6-8處；更優選包含其中任意6處、7處或8處；
優選地，晶型D的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為7.1±0.2°、8.8±0.2°、11.3±0.2°中的一處或多處衍射峰，優選包含其中2處，更優選包含3處；任選的，進一步還包含在2θ°為13.6±0.2°、14.8±0.2°、17.6±0.2°、20.0±0.2°和22.0±0.2°中的至少一處，優選包含其中2處、3處、4處或5處；
例如，晶型D的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為以下位置處有衍射峰：
7.1±0.2°、8.8±0.2°、11.3±0.2°、13.6±0.2°、14.8±0.2°和17.6±0.2°處；
或者，7.1±0.2°、8.8±0.2°、14.8±0.2°、17.6±0.2°、20.0±0.2°和22.0±0.2°處；
或者，8.8±0.2°、11.3±0.2°、14.8±0.2°、17.6±0.2°、20.0±0.2°和22.0±0.2°處；
更優選地，晶型D的X-射線粉末衍射圖譜還包含在2θ為8.1±0.2°、8.3±0.2°、12.1±0.2°、15.4±0.2°、15.8±0.2°、16.7±0.2°、19.7±0.2°、22.6±0.2°、23.0±0.2°、和23.7±0.2°中的一處或多出衍射峰；優選至少包含其中任意2-3處，或者4-5處，或者6-7處；進一步優選，包含其中任意2處、3處、4處、5處、6處、7處；
例如，晶型D的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為以下位置處有衍射峰：
7.1±0.2°、8.8±0.2°、11.3±0.2°、13.6±0.2°、14.8±0.2°、17.6±0.2°、8.1±0.2°和12.1±0.2°處；
或者，7.1±0.2°、8.8±0.2°、14.8±0.2°、17.6±0.2°、20.0±0.2°、22.0±0.2°、12.1±0.2°和15.4±0.2°處；
或者，8.8±0.2°、11.3±0.2°、14.8±0.2°、17.6±0.2°、20.0±0.2°、22.0±0.2°、12.1±0.2°和15.4±0.2°處；
進一步優選地，晶型D的X-射線粉末衍射圖譜包含位于2θ為7.1±0.2°、8.8±0.2°、11.3±0.2°、13.6±0.2°、14.8±0.2°、17.6±0.2°、20.0±0.2°、22.0±0.2°、8.1±0.2°、8.3±0.2°、12.1±0.2°、15.4±0.2°、15.8±0.2°、16.7±0.2°、19.7±0.2°、22.6±0.2°、23.0±0.2°和23.7±0.2°中的一處或多處衍射峰；優選的，包含其中任選的4處、5處、6處、8處、10處或12處有衍射峰；
例如，晶型D的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為以下位置處有衍射峰：
7.1±0.2°、8.8±0.2°、11.3±0.2°和13.6±0.2°處；
或者，7.1±0.2°、8.8±0.2°、11.3±0.2°、13.6±0.2°和17.6±0.2°處；
或者，8.8±0.2°、11.3±0.2°、13.6±0.2°、14.8±0.2°、17.6±0.2°和20.0±0.2°處；
或者，7.1±0.2°、8.8±0.2°、11.3±0.2°、13.6±0.2°、14.8±0.2°、17.6±0.2°和22.0±0.2°處；
或者，11.3±0.2°、13.6±0.2°、14.8±0.2°、17.6±0.2°、20.0±0.2°、22.0±0.2°、8.1±0.2°和12.1±0.2°處；
或者，7.1±0.2°、8.8±0.2°、11.3±0.2°、13.6±0.2°、14.8±0.2°、17.6±0.2°、20.0±0.2°、22.0±0.2°、15.4±0.2°和15.8±0.2°處；
或者，7.1±0.2°、8.8±0.2°、11.3±0.2°、13.6±0.2°、14.8±0.2°、17.6±0.2°、20.0±0.2°、22.0±0.2°、8.1±0.2°、12.1±0.2°、15.4±0.2°和15.8±0.2°處；
更進一步優選地，晶型D的X-射線粉末衍射圖譜基本如圖4所示；
晶型E的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為5.1±0.2°處具有衍射峰，或者在6.8±0.2°處具有衍射峰，或者在7.8±0.2°處具有衍射峰，或者在10.2±0.2°處具有衍射峰；或者在15.2±0.2°處具有衍射峰，或者在16.2±0.2°處具有衍射峰，或者在25.5±0.2°處具有衍射峰，或者在28.1±0.2°處具有衍射峰，或者在13.0±0.2°處具有衍射峰，或者在17.4±0.2°處具有衍射峰，優選包含上述衍射衍射峰中的任意2～5處，或者3～5處，或者3～6處，或者3～8處，或者5～8處，或者6～8處；更優選包含其中任意6處、7處或8處；
優選地，晶型E的X-射線粉末衍射圖譜包含在2θ為5.1±0.2°、6.8±0.2°、7.8±0.2°中的一處或多處衍射峰，優選包含其中2處，更優選包含3處；任選的，進一步還可以包含2θ為還包含在2θ°為10.2±0.2°、15.2±0.2°、16.2±0.2°、25.5±0.2°和28.1±0.2°中的至少一處，優選包含其中2處、3處、4處或5處；
例如，晶型E的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為以下位置處有衍射峰：
5.1±0.2°、6.8±0.2°、7.8±0.2°、10.2±0.2°、15.2±0.2°和16.2±0.2°處；
或者，5.1±0.2°、6.8±0.2°、15.2±0.2°、16.2±0.2°、25.5±0.2°和28.1±0.2°處；
或者，6.8±0.2°、7.8±0.2°、15.2±0.2°、16.2±0.2°、25.5±0.2°和28.1±0.2°處；
更優選地，晶型E的X-射線粉末衍射圖譜還包含在2θ為13.0±0.2°、17.4±0.2°、18.6±0.2°、22.3±0.2°、23.6±0.2°、20.8±0.2°和24.2±0.2°中的一處或多出衍射峰；優選至少包含其中任意2-3處，或者4-5處，或者6-7處；進一步優選，包含其中任意2處、3處、4處、5處、6處、7處；
例如，晶型E的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為以下位置處有衍射峰：
5.1±0.2°、6.8±0.2°、7.8±0.2°、10.2±0.2°、15.2±0.2°、16.2±0.2°、13.0±0.2°和17.4±0.2°處；
或者，5.1±0.2°、6.8±0.2°、155.2±0.2°、16.2±0.2°、25.5±0.2°、28.1±0.2°、13.0±0.2°和17.4±0.2°處；
或者，6.8±0.2°、7.8±0.2°、15.2±0.2°、16.2±0.2°、25.5±0.2°、28.1±0.2°、13.0±0.2°和17.4±0.2°處；
進一步優選地，晶型E的X-射線粉末衍射圖譜包含位于2θ為5.1±0.2°、6.8±0.2°、7.8±0.2°、10.2±0.2°、15.2±0.2°、16.2±0.2°、25.5±0.2°、28.1±0.2°、13.0±0.2°、17.4±0.2°、18.6±0.2°、22.3±0.2°、23.6±0.2°、20.8±0.2°和24.2±0.2°中的一處或多處衍射峰；優選的，包含其中任選的4處、5處、6處、8處或10處有衍射峰；
例如，晶型E的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為以下位置處有衍射峰：
5.1±0.2°、6.8±0.2°、7.8±0.2°和10.2±0.2°處；
5.1±0.2°、6.8±0.2°、7.8±0.2°、10.2±0.2°和15.2±0.2°處；
6.8±0.2°、7.8±0.2°、16.2±0.2°、25.5±0.2°、28.1±0.2°和13.0±0.2處；
6.8±0.2°、7.8±0.2°、10.2±0.2°、15.2±0.2°、16.2±0.2°、25.5±0.2°、28.1±0.2°和18.6±0.2°處；
5.1±0.2°、6.8±0.2°、7.8±0.2°、10.2±0.2°、15.2±0.2°、16.2±0.2°、25.5±0.2°、28.1±0.2°、13.0±0.2°和17.4±0.2°處；
更進一步優選地，晶型E的X-射線粉末衍射圖譜基本如圖5所示；
晶型F的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為6.4±0.2°處具有衍射峰，或者在8.0±0.2°處具有衍射峰，或者在9.2±0.2°處具有衍射峰，或者在9.5±0.2°處具有衍射峰，或者在12.0±0.2°處具有衍射峰，或者在16.1±0.2°處具有衍射峰，或者在19.3±0.2°處具有衍射峰，或者在20.2±0.2°處具有衍射峰，或者在8.6±0.2°處具有衍射峰，或者在13.6±0.2°處具有衍射峰優選包含上述衍射衍射峰中的任意2-5處，或者3-5處，或者3-6處，或者3-8處，或者5-8處，或者6-8處；更優選包含其中任意6處、7處或8處；
優選地，晶型F的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為6.4±0.2°、8.0±0.2°、9.2±0.2°中的一處或多處衍射峰，優選包含其中2處，更優選包含3處；任選的，進一步還包含在2θ°為9.5±0.2°、12.0±0.2°、16.1±0.2°、19.3±0.2°和20.2±0.2°中的至少一處，優選包含其中2處、3處、4處或5處；
例如，晶型F的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為以下位置處有衍射峰：
6.4±0.2°、8.0±0.2°、9.2±0.2°、12.0±0.2°、16.1±0.2°和19.3±0.2°處；
或者，6.4±0.2°、8.0±0.2°、9.5±0.2°、16.1±0.2°、19.3±0.2°和20.2±0.2°處；
或者，8.0±0.2°、9.2±0.2°、12.0±0.2°、16.1±0.2°、19.3±0.2°和20.2±0.2°處；
更優選地，晶型F的X-射線粉末衍射圖譜還包含在2θ為8.6±0.2°、13.6±0.2°、14.5±0.2°、18.5±0.2°、21.0±0.2°、22.6±0.2°、24.3±0.2°和25.2±0.2°中的一處或多處衍射峰；優選的，包含其中任選的4處、5處、6處、8處或10處有衍射峰；
例如，晶型F的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為以下位置處有衍射峰：
6.4±0.2°、8.0±0.2°、9.2±0.2°、12.0±0.2°、16.1±0.2°、19.3±0.2°、8.6±0.2°和13.6±0.2°處；
或者，6.4±0.2°、8.0±0.2°、9.5±0.2°、16.1±0.2°、19.3±0.2°、20.2±0.2°、8.6±0.2°和13.6±0.2°處；
或者，8.0±0.2°、9.2±0.2°、12.0±0.2°、16.1±0.2°、19.3±0.2°、20.2±0.2°、8.6±0.2°和13.6±0.2°處；
進一步優選地，晶型F的X-射線粉末衍射圖譜包含在2θ為6.4±0.2°、8.0±0.2°、9.2±0.2°、9.5±0.2°、12.0±0.2°、16.1±0.2°、19.3±0.2°、20.2±0.2°、8.6±0.2°、13.6±0.2°、14.5±0.2°、18.5±0.2°、21.0±0.2°、22.6±0.2°、24.3±0.2°和25.2±0.2°中的一處或多處衍射峰；優選的，包含其中任選的4處、5處、6處、8處或10處有衍射峰；
例如，晶型F的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為以下位置處有衍射峰：
6.4±0.2°、8.0±0.2°、9.2±0.2°和9.5±0.2°處；
或者，8.0±0.2°、9.2±0.2°、9.5±0.2°、12.0±0.2°和16.1±0.2°處；
或者，6.4±0.2°、8.0±0.2°、9.2±0.2°、16.1±0.2°、19.3±0.2°和20.2±0.2°處；
或者，6.4±0.2°、8.0±0.2°、9.2±0.2°、9.5±0.2°、12.0±0.2°、16.1±0.2°、19.3±0.2°和25.2±0.2°處；
或者，6.4±0.2°、8.0±0.2°、9.2±0.2°、9.5±0.2°、12.0±0.2°、16.1±0.2°、19.3±0.2°、20.2±0.2°、8.6±0.2°和13.6±0.2°處；
更進一步優選地，晶型F的X-射線粉末衍射圖譜基本如圖6所示；
晶型G的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為5.5±0.2°處具有衍射峰，或者在6.5±0.2°處具有衍射峰，或者在10.2±0.2°處具有衍射峰，或者在11.9±0.2°處具有衍射峰，或者在15.4±0.2°處具有衍射峰，或者在18.6±0.2°處具有衍射峰，或者在19.2±0.2°處具有衍射峰，或者在22.2±0.2°處具有衍射峰，或者在11.0±0.2°處具有衍射峰，或者在12.5±0.2°處具有衍射峰，優選包含上述衍射衍射峰中的任意2-5處，或者3-5處，或者3-6處，或者3-8處，或者5-8處，或者6-8處；更優選包含其中任意6處、7處或8處；
優選地，晶型G的X-射線粉末衍射圖譜包含在2θ為5.5±0.2°、6.5±0.2°、10.2±0.2°中的一處或多處衍射峰，優選包含其中2處，更優選包含3處；任選的，進一步還包含在2θ°為11.9±0.2°、15.4±0.2°、18.6±0.2°、19.2±0.2°和22.2±0.2°中的至少一處，優選包含其中2處、3處、4處或5處；
例如，晶型G的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為以下位置處有衍射峰：
5.5±0.2°、6.5±0.2°、10.2±0.2°、11.9±0.2°、15.4±0.2°和18.6±0.2°處；
或者，5.5±0.2°、6.5±0.2°、15.4±0.2°、18.6±0.2°、19.2±0.2°和22.2±0.2°處；
或者，6.5±0.2°、10.2±0.2°、15.4±0.2°、18.6±0.2°、19.2±0.2°和22.2±0.2°處；
更優選地，晶型G的X-射線粉末衍射圖譜任選還包含在2θ為11.0±0.2°、12.5±0.2°、13.4±0.2°、14.5±0.2°、16.3±0.2°、18.2±0.2°、23.0±0.2°和25.8±0.2°中的一處或多出衍射峰；優選至少包含其中任意2-3處，或者4-5處，或者6-7處；進一步優選，包含其中任意2處、3處、4處、5處、6處、7處；
例如，晶型G的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為以下位置處有衍射峰：
5.5±0.2°、6.5±0.2°、10.2±0.2°、11.9±0.2°、15.4±0.2、18.6±0.2、11.0±0.2°和12.5±0.2°處；
或者，5.5±0.2°、6.5±0.2°、15.4±0.2、18.6±0.2°、19.2±0.2°、22.2±0.2°、11.0±0.2°和12.5±0.2°處；
或者，6.5±0.2°、10.2±0.2°、15.4±0.2°、18.6±0.2°、19.2±0.2°、22.2±0.2°、11.0±0.2°和12.5±0.2°處；
進一步優選地，晶型G的X-射線粉末衍射圖譜包含位于2θ為5.5±0.2°、6.5±0.2°、10.2±0.2°、11.9±0.2°、15.4±0.2°、18.6±0.2°、19.2±0.2°、22.2±0.2°、11.0±0.2°、12.5±0.2°、13.4±0.2°、14.5±0.2°、16.3±0.2°、18.2±0.2°、23.0±0.2°和25.8±0.2°中的一處或多處衍射峰；優選的，包含其中任選的4處、5處、6處、8處或10處有衍射峰；
例如，晶型G的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為以下位置處有衍射峰：
5.5±0.2°、6.5±0.2°、10.2±0.2°和11.9±0.2°處；
或者，5.5±0.2°、6.5±0.2°、10.2±0.2°、11.9±0.2°和15.4±0.2°處；
或者，10.2±0.2°、11.9±0.2°、15.4±0.2°、18.6±0.2°、19.2±0.2°和22.2±0.2°處；
或者，5.5±0.2°、6.5±0.2°、10.2±0.2°、11.9±0.2°、15.4±0.2°、18.6±0.2°和19.2±0.2°處；
或者，5.5±0.2°、6.5±0.2°、10.2±0.2°、11.9±0.2°、15.4±0.2°、18.6±0.2°、19.2±0.2°和22.2±0.2°處；
或者，5.5±0.2°、6.5±0.2°、10.2±0.2°、11.9±0.2°、15.4±0.2°、18.6±0.2°、19.2±0.2°、22.2±0.2°、11.0±0.2°和12.5±0.2°處；
更進一步優選地，晶型G的X-射線粉末衍射圖譜基本如圖7所示；
晶型H的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為8.4±0.2°處具有衍射峰，或者在10.5±0.2°處具有衍射峰，或者在12.5±0.2°處具有衍射峰，或者在13.7±0.2°處具有衍射峰；或者在18.0±0.2°處具有衍射峰，或者在20.0±0.2°處具有衍射峰，或者在21.1±0.2°處具有衍射峰，或者在25.1±0.2°處具有衍射峰，或者在6.3±0.2°處具有衍射峰，或者在9.0±0.2°處具有衍射峰，優選包含上述衍射衍射峰中的任意2～5處，或者3～5處，或者3～6處，或者3～8處，，或者5-8處，或者6-8處；更優選包含其中任意6處、7處或8處；
優選地，晶型H的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為8.4±0.2°、10.5±0.2°、12.5±0.2°中的一處或多處衍射峰，優選包含其中2處，更優選包含3處；任選的，進一步還包含在2θ°為13.7±0.2°、18.0±0.2°、20.0±0.2°、21.1±0.2°和25.1±0.2°中的至少一處，優選包含其中2處、3處、4處或5處；
例如，晶型H的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為以下位置處有衍射峰：
8.4±0.2°、10.5±0.2°、12.5±0.2°13.7±0.2°、18.0±0.2°和20.0±0.2°處；
或者，8.4±0.2°、10.5±0.2°、13.7±0.2°、20.0±0.2°、21.1±0.2°和25.1±0.2°處；
或者，10.5±0.2°、12.5±0.2、°13.7±0.2°、20.0±0.2°、21.1±0.2°和25.1±0.2°處；
更優選地，晶型H的X-射線粉末衍射圖譜任選還包含在2θ為6.3±0.2°、9.0±0.2°、9.6±0.2°、17.2±0.2°、19.2±0.2°、22.7±0.2°、23.4±0.2°和27.1±0.2°中的一處或多出衍射峰；優選至少包含其中任意2-3處，或者4-5處，或者6-7處；進一步優選，包含其中任意2處、3處、4處、5處、6處、7處；
例如，晶型H的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為以下位置處有衍射峰：
8.4±0.2°、10.5±0.2°、12.5±0.2°13.7±0.2°、18.0±0.2°、20.0±0.2°、6.3±0.2°和9.0±0.2°處；
或者，8.4±0.2°、10.5±0.2°、13.7±0.2°、20.0±0.2°、21.1±0.2°、25.1±0.2°、6.3±0.2°和9.0±0.2°處；
或者，10.5±0.2°、12.5±0.2、°13.7±0.2°、20.0±0.2°、21.1±0.2°、25.1±0.2°、6.3±0.2°和9.0±0.2°處；
進一步優選地，晶型H的X-射線粉末衍射圖譜包含在2θ為8.4±0.2°、10.5±0.2°、12.5±0.2°、13.7±0.2°、18.0±0.2°、20.0±0.2°、21.1±0.2°、25.1±0.2°、6.3±0.2°、9.0±0.2°、9.6±0.2°、17.2±0.2°、19.2±0.2°、22.7±0.2°、23.4±0.2°和27.1±0.2°中的一處或多出衍射峰；優選的，包含其中任選的4處、5處、6處、8處或10處有衍射峰；
例如，晶型H的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為以下位置處有衍射峰：
8.4±0.2°、10.5±0.2°、12.5±0.2°和13.7±0.2°處；
或者，8.4±0.2°、10.5±0.2°、12.5±0.2°、13.7±0.2°和18.0±0.2處；
或者，12.5±0.2°、13.7±0.2°、18.0±0.2°、20.0±0.2°、21.1±0.2°和25.1±0.2°處；
或者，8.4±0.2°、10.5±0.2°、12.5±0.2°、13.7±0.2°、18.0±0.2°、20.0±0.2°和21.1±0.2°處；
或者，12.5±0.2°、13.7±0.2°、18.0±0.2°、20.0±0.2°、21.1±0.2°、25.1±0.2°、6.3±0.2°和9.0±0.2°處；
或者，8.4±0.2°、10.5±0.2°、12.5±0.2°、13.7±0.2°、18.0±0.2°、20.0±0.2°、21.1±0.2°、25.1±0.2°、6.3±0.2°和9.0±0.2°處；
更進一步優選地，其X-射線粉末衍射圖譜基本如圖8所示；
晶型I的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為6.1±0.2°處具有衍射峰，或者在8.8±0.2°處具有衍射峰，或者在13.9±0.2°處具有衍射峰，或者在15.7±0.2°處具有衍射峰，或者在18.8±0.2°處具有衍射峰，或者在22.9±0.2°處具有衍射峰，或者在24.6±0.2°處具有衍射峰，或者在26.0±0.2°處具有衍射峰，或者在7.1±0.2°處具有衍射峰，或者在8.2±0.2°處具有衍射峰，優選包含上述衍射衍射峰中的任意2-5處，或者3-5處，或者3-6處，或者3-8處，或者5-8處，或者6-8處；更優選包含其中任意6處、7處或8處；
優選地，晶型I的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為6.1±0.2°、8.8±0.2°、13.9±0.2°中的一處或多處衍射峰，優選包含其中2處，更優選包含3處；任選的，進一步還包含在2θ°為15.7±0.2°、18.8±0.2°、22.9±0.2°、24.6±0.2°和26.0±0.2°中的至少一處，優選包含其中2處、3處、4處或5處；
例如，晶型I的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為以下位置處有衍射峰：
6.1±0.2°、8.8±0.2°、13.9±0.2°、15.7±0.2°、18.8±0.2°和22.9±0.2°處；
或者，8.8±0.2°、13.9±0.2°、18.8±0.2°、22.9±0.2°、24.6±0.2°和26.0±0.2°處；
或者，6.1±0.2°、13.9±0.2°、18.8±0.2°、22.9±0.2°、24.6±0.2°和26.0±0.2°處；
更優選地，晶型I的X-射線粉末衍射圖譜任選還包含在2θ為7.1±0.2°、8.2±0.2°、9.5±0.2°、11.2±0.2°、12.1±0.2°和21.9±0.2°中的一處或多出衍射峰；優選至少包含其中任意2-3處，或者4-5處，或者6-7處；進一步優選，包含其中任意2處、3處、4處、5處、6處、7處；
例如，晶型I的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為以下位置處有衍射峰：
6.1±0.2°、8.8±0.2°、13.9±0.2°、15.7±0.2°、18.8±0.2°、22.9±0.2°、7.1±0.2°和8.2±0.2°處；
或者，8.8±0.2°、13.9±0.2°、18.8±0.2°、22.9±0.2°、24.6±0.2°、26.0±0.2°、7.1±0.2°和8.2±0.2°處
或者，6.1±0.2°、13.9±0.2°、18.8±0.2°、22.9±0.2°、24.6±0.2°、26.0±0.2°、7.1±0.2°和8.2±0.2°處；
進一步優選地，晶型I的X-射線粉末衍射圖譜包含在2θ為6.1±0.2°、8.8±0.2°、13.9±0.2°、15.7±0.2°、18.8±0.2°、22.9±0.2°、24.6±0.2°、26.0±0.2°、7.1±0.2°、8.2±0.2°、9.5±0.2°、11.2±0.2°、12.1±0.2°和21.9±0.2°中的一處或多處衍射峰；優選的，包含其中任選的4處、5處、6處、8處或10處有衍射峰；
例如，晶型I的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為以下位置處有衍射峰：
6.1±0.2°、8.8±0.2°、13.9±0.2°和15.7±0.2°處；
或者，6.1±0.2°、8.8±0.2°、13.9±0.2°、15.7±0.2°和18.8±0.2°處；
或者，15.7±0.2°、18.8±0.2°、22.9±0.2°、24.6±0.2°、26.0±0.2°和7.1±0.2°處；
或者，6.1±0.2°、8.8±0.2°、13.9±0.2°、15.7±0.2°、18.8±0.2°、22.9±0.2°和24.6±0.2°處；
或者，6.1±0.2°、8.8±0.2°、13.9±0.2°、15.7±0.2°、18.8±0.2°、22.9±0.2°、7.1±0.2°和8.2±0.2°處；
或者，6.1±0.2°、8.8±0.2°、13.9±0.2°、15.7±0.2°、18.8±0.2°、22.9±0.2°、24.6±0.2°、26.0±0.2°、7.1±0.2°和8.2±0.2°處；
更進一步優選地，晶型I的X-射線粉末衍射圖譜基本如圖9所示；
晶型J的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為5.9±0.2°處具有衍射峰，或者在6.9±0.2°處具有衍射峰，或者在8.7±0.2°處具有衍射峰，或者在11.1±0.2°處具有衍射峰，或者在13.5±0.2°處具有衍射峰，或者在19.7±0.2°處具有衍射峰，或者在22.0±0.2°處具有衍射峰，或者在22.5±0.2°處具有衍射峰，或者在8.1±0.2°處具有衍射峰，或者在12.1±0.2°處具有衍射峰，優選包含上述衍射衍射峰中的任意2～5處，或者3～5處，或者3～6處，或者3～8處，或者5-8處，或者6-8處；更優選包含其中任意6處、7處或8處；
優選地，晶型J的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為5.9±0.2°、6.9±0.2°、8.7±0.2°中的一處或多處衍射峰，優選包含其中2處，更優選包含3處；任選的，進一步還包含在2θ°為11.1±0.2°、13.5±0.2°、19.7±0.2°、22.0±0.2°和22.5±0.2°中的至少一處，優選包含其中2處、3處、4處或5處；
例如，晶型J的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為以下位置處有衍射峰：
5.9±0.2°、6.9±0.2°、8.7±0.2°、19.7±0.2°、22.0±0.2°和22.5±0.2°處；
或者，5.9±0.2°、6.9±0.2°、13.5±0.2°、19.7±0.2°、22.0±0.2°和22.5±0.2°處；
或者，6.9±0.2°、8.7±0.2°、13.5±0.2°、19.7±0.2°、22.0±0.2°和22.5±0.2°處；
更優選地，晶型J的X-射線粉末衍射圖譜任選還包含在2θ為8.1±0.2°、12.1±0.2°、14.5±0.2°、16.3±0.2°、16.6±0.2°、17.5±0.2°、18.4±0.2°和23.7±0.2°中的一處或多出衍射峰；優選至少包含其中任意2-3處，或者4-5處，或者6-7處；進一步優選，包含其中任意2處、3處、4處、5處、6處、7處；
例如，晶型J的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為以下位置處有衍射峰：
5.9±0.2°、6.9±0.2°、8.7±0.2°、19.7±0.2°、22.0±0.2°、22.5±0.2°、8.1±0.2°和12.1±0.2°處；
或者，5.9±0.2°、6.9±0.2°、13.5±0.2°、19.7±0.2°、22.0±0.2°、22.5±0.2°、8.1±0.2°和12.1±0.2°處；
或者，6.9±0.2°、8.7±0.2°、13.5±0.2°、19.7±0.2°、22.0±0.2°、22.5±0.2°、8.1±0.2°和12.1±0.2°處；
進一步優選地，晶型J的X-射線粉末衍射圖譜包含在2θ為5.9±0.2°、6.9±0.2°、8.7±0.2°、11.1±0.2°、13.5±0.2°、19.7±0.2°、22.0±0.2°、22.5±0.2°、8.1±0.2°、12.1±0.2°、14.5±0.2°、16.3±0.2°、16.6±0.2°、17.5±0.2°、18.4±0.2°和23.7±0.2°中的一處或多處衍射峰；優選的，包含其中任選的4處、5處、6處、8處或10處有衍射峰；
例如，晶型J的X-射線粉末衍射圖譜在2θ為以下位置處有衍射峰：
5.9±0.2°、6.9±0.2°、8.7±0.2°和11.1±0.2°處；
或者，5.9±0.2°、6.9±0.2°、8.7±0.2°、11.1±0.2°和13.5±0.2°處；
或者，8.7±0.2°、11.1±0.2°、13.5±0.2°、19.7±0.2°、22.0±0.2°和22.5±0.2°處；
或者，5.9±0.2°、6.9±0.2°、8.7±0.2°、11.1±0.2°、13.5±0.2°、19.7±0.2°和22.0±0.2°處；
或者，8.7±0.2°、11.1±0.2°、13.5±0.2°、19.7±0.2°、22.0±0.2°、22.5±0.2°、8.1±0.2°和12.1±0.2°處；
或者，5.9±0.2°、6.9±0.2°、8.7±0.2°、11.1±0.2°、13.5±0.2°、19.7±0.2°、22.0±0.2°、22.5±0.2°、8.1±0.2°和12.1±0.2°處；
更進一步優選地，晶型J的X-射線粉末衍射圖譜基本如圖10所示。
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