[發(fā)明專利]制作成像板的方法及成像板在審
申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110589021.1 | 申請(qǐng)日: | 2021-05-27 |
公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113327844A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-08-31 |
發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張?jiān)蒲?/a>;宋丹;何玉國(guó);黃安琳 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 寧波市知行光學(xué)科技有限公司 |
主分類號(hào): | H01L21/033 | 分類號(hào): | H01L21/033;G03F7/00 |
代理公司: | 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 鐘揚(yáng)飛 |
地址: | 315400 浙江省寧波市*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索關(guān)鍵詞: | 制作 成像 方法 | ||
本申請(qǐng)公開(kāi)了一種制作成像板的方法及成像板,涉及制造工藝技術(shù)領(lǐng)域,本申請(qǐng)的制作成像板的方法,包括在基板上進(jìn)行旋涂光刻膠,形成光刻膠層;對(duì)光刻膠層進(jìn)行曝光顯影,形成光刻板的反向圖案;在反向圖案上鍍膜,形成遮擋膜層;將鍍有遮擋膜層的基板放入預(yù)設(shè)溶液中,對(duì)光刻膠進(jìn)行溶解,得到與光刻板具備相同圖案的成像板。故根據(jù)本申請(qǐng)的制作成像板的方法所制成的成像板,能夠利用成像板上的遮擋膜層遮擋紅外光,從而對(duì)紅外相機(jī)進(jìn)行標(biāo)定。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請(qǐng)涉及制造工藝技術(shù)領(lǐng)域,具體而言,涉及一種制作成像板的方法及成像板。
背景技術(shù)
現(xiàn)如今紅外相機(jī)的使用已經(jīng)廣泛地用于軍事偵查、自動(dòng)駕駛、野生動(dòng)物保護(hù)等領(lǐng)域,且紅外相機(jī)拍攝的圖像信息能拓展視覺(jué)系統(tǒng)的使用場(chǎng)景。紅外相機(jī)在使用前需要對(duì)相機(jī)進(jìn)行標(biāo)定,獲得相應(yīng)的內(nèi)外參數(shù),但是由于紅外相機(jī)和普通可見(jiàn)光相機(jī)的感應(yīng)光譜不同,常規(guī)的材料無(wú)法遮擋紅外光,因此,現(xiàn)有技術(shù)中的黑白棋盤(pán)格標(biāo)定板或者普通圓形陣列標(biāo)定板在紅外相機(jī)下并不能清晰成像,也就不能利用黑白棋盤(pán)格標(biāo)定板對(duì)紅外相機(jī)進(jìn)行標(biāo)定。
發(fā)明內(nèi)容
本申請(qǐng)的目的在于提供一種制作成像板的方法及成像板,其能夠?qū)t外相機(jī)進(jìn)行標(biāo)定。
本申請(qǐng)的實(shí)施例是這樣實(shí)現(xiàn)的:
一種制作成像板的方法,包括在基板上進(jìn)行旋涂光刻膠,形成光刻膠層;對(duì)所述光刻膠層進(jìn)行曝光顯影,形成光刻板的反向圖案;在所述反向圖案上鍍膜,形成遮擋膜層;將鍍有所述遮擋膜層的所述基板放入預(yù)設(shè)溶液中,對(duì)所述光刻膠進(jìn)行溶解,得到與所述光刻板具備相同圖案的成像板。
于一實(shí)施例中,所述在所述反向圖案上鍍膜,形成遮擋膜層之前,還包括:在所述反向圖案的表面上進(jìn)行鍍膜,形成過(guò)渡膜層。
于一實(shí)施例中,所述在將鍍有所述遮擋膜層膜后的所述基板放入預(yù)設(shè)溶液中,對(duì)所述光刻膠進(jìn)行溶解,得到紅外成像板之前,還包括:在所述遮擋膜層上鍍膜,形成保護(hù)膜層。
于一實(shí)施例中,所述預(yù)設(shè)溶液為去膠溶液或丙酮溶液。
于一實(shí)施例中,所述過(guò)渡膜層的材料為Cr,所述過(guò)渡膜層的厚度范圍為10nm-20nm。
于一實(shí)施例中,所述遮擋膜層的材料為Ag或Al,所述遮擋膜層的厚度大于500nm。
于一實(shí)施例中,所述保護(hù)膜層的材料為T(mén)iO2、SiO2、Al2O3中的一種或多種,所述保護(hù)膜層的厚度范圍為10nm-50nm。
于一實(shí)施例中,所述鍍膜的方法為蒸發(fā)鍍膜或者濺射鍍膜。
于一實(shí)施例中,所述光刻膠層的厚度大于所述過(guò)渡膜層的厚度、所述遮擋膜層的厚度和所述保護(hù)膜層的厚度之和。
一種成像板,包括:基板、過(guò)渡膜層、遮擋膜層和保護(hù)膜層,其中,過(guò)渡膜層形成于所述基板上;遮擋膜層形成于所述過(guò)渡膜層上;保護(hù)膜層形成于所述遮擋膜層上;其中,所述過(guò)渡膜層和所述遮擋膜層上形成有預(yù)定圖案。
本申請(qǐng)與現(xiàn)有技術(shù)相比的有益效果是:
本申請(qǐng)的制作成像板的方法及成像板,首先在基板上進(jìn)行旋涂光刻膠,形成光刻膠層,然后對(duì)光刻膠層進(jìn)行曝光顯影,形成光刻板的反向圖案,并在反向圖案上鍍膜,形成遮擋膜層,最后將鍍有遮擋膜層的基板放入預(yù)設(shè)溶液中,對(duì)光刻膠進(jìn)行溶解,得到與光刻板具備相同圖案的成像板。根據(jù)該方法所制成的成像板,能夠利用成像板上的遮擋膜層遮擋紅外光,從而對(duì)紅外相機(jī)進(jìn)行標(biāo)定。
附圖說(shuō)明
為了更清楚地說(shuō)明本申請(qǐng)實(shí)施例的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,應(yīng)當(dāng)理解,以下附圖僅示出了本申請(qǐng)的某些實(shí)施例,因此不應(yīng)被看作是對(duì)范圍的限定,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他相關(guān)的附圖。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門(mén)適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門(mén)適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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