[發明專利]周緣部涂布裝置及周緣部涂布方法

在審

• 申請號: 202110588813.7
• 申請日: 2021-05-28
• 公開（公告）號: CN113731673A
• 公開（公告）日: 2021-12-03
• 發明（設計）人: 馬渕康史;后藤茂宏;松泰司;胡鈴達
• 申請（專利權）人: 株式會社斯庫林集團
• 主分類號: B05B13/02
• 分類號: B05B13/02;B05B13/04;B05D1/00;B05D1/02
• 代理公司: 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287
• 代理人: 陳甜甜

本發明涉及一種周緣部涂布裝置及周緣部涂布方法。利用旋轉保持部保持襯底而使襯底繞著襯底的中心軸旋轉。在襯底正在旋轉的狀態下，通過利用涂布液供給部向襯底一面的周緣部供給涂布液，從而在襯底一面的除中央區域以外的周緣部形成涂布膜。當在襯底一面的周緣部形成涂布膜之后，反復進行預定次數2次以上的利用旋轉保持部的攪拌動作。在各攪拌動作中，使襯底加速而提高襯底的轉速。在襯底加速之后，使襯底減速而減小襯底的轉速。在襯底減速之后，維持襯底的轉速。

技術領域

本發明涉及一種在襯底周緣部形成涂布膜的周緣部涂布裝置及周緣部涂布方法。

背景技術

半導體裝置等的制造中的光刻步驟中，通過旋轉夾盤使得被水平支撐的襯底旋轉。在該狀態下，通過向襯底的被處理面的大致中央部噴出抗蝕液，從而在襯底的整個被處理面形成抗蝕膜。另外，通過向襯底周緣部噴出清洗液，從而去除周緣部的抗蝕膜。然后，通過將襯底曝光及顯影，從而在除周緣部以外的襯底的中央區域形成抗蝕圖案。近年來，在襯底周緣部進一步形成有環狀涂布膜(例如，參照日本專利5682521號公報、日本專利5779168號公報)。

發明內容

在襯底的周緣部涂布中，在襯底中央區域的抗蝕圖案與周緣部內緣的涂布膜的交界處，涂布膜的干燥較快。由此可知，涂布膜厚度局部變大，在周緣部內緣處涂布膜局部凸起。襯底周緣部的涂布膜將會在之后的步驟中通過蝕刻等被去除。然而，在涂布膜的凸起部分的厚度較大的情況下，該部分有時會以殘渣的形式殘留。在這種情況下，襯底存在缺陷。因此，要求提高涂布膜厚度的均勻性。

本發明的目的在于提供一種能夠提高形成在襯底周緣部的涂布膜厚度的均勻性的周緣部涂布裝置及周緣部涂布方法。

(1)本發明的一態樣的周緣部涂布裝置具備：旋轉保持部，保持襯底使襯底繞著襯底的中心軸旋轉；涂布液供給部，在利用旋轉保持部使襯底旋轉的狀態下，通過向襯底一面的周緣部供給涂布液，從而在襯底一面的除中央區域以外的周緣部形成涂布膜；及控制部，在利用涂布液供給部在襯底一面的周緣部形成涂布膜之后，以反復進行預定次數2次以上的攪拌動作的方式控制旋轉保持部；且攪拌動作包括：使襯底加速而提高襯底的轉速；在襯底加速之后使襯底減速而減小襯底的轉速；及在襯底減速之后維持襯底的轉速。

在該周緣部涂布裝置中，利用旋轉保持部保持襯底而使襯底繞著襯底的中心軸旋轉。在利用旋轉保持部使襯底旋轉的狀態下，通過利用涂布液供給部向襯底一面的周緣部供給涂布液，從而在襯底一面的除中央區域以外的周緣部形成涂布膜。利用涂布液供給部在襯底一面的周緣部形成涂布膜之后，反復進行預定次數2次以上的利用旋轉保持部的攪拌動作。在各攪拌動作中，使襯底加速而提高襯底的轉速。在襯底加速之后，使襯底減速而減小襯底的轉速。在襯底減速之后，維持襯底的轉速。

各攪拌動作中，當襯底加速時，施加在襯底周緣部的涂布液的離心力增加，當襯底減速時，施加在襯底周緣部的涂布液的離心力減少。因此，根據所述構成，通過反復進行攪拌動作，從而使施加在涂布液的離心力反復增減。因此，涂布液在襯底周緣部得到攪拌。這樣一來，襯底周緣部的涂布液變得均勻，所形成的涂布膜近乎平坦。

另外，如果襯底長時間高速旋轉，那么在襯底周緣部會產生促進涂布液干燥的亂流。在這種情況下，所形成的涂布膜厚度局部變大，涂布膜局部凸起。對此，根據所述構成，通過反復進行攪拌動作，從而抑制在襯底周緣部產生亂流，防止促進涂布液的干燥。就結果來說，能夠提高形成在襯底周緣部的涂布膜厚度的均勻性。

(2)預定次數也可以是因利用涂布液供給部形成在襯底一面的周緣部的涂布膜喪失流動性而使涂布膜干燥的次數。在這種情況下，能夠更加提高形成在襯底周緣部的涂布膜厚度的均勻性。

(3)控制部也可以在反復進行2次以上的攪拌動作中的最后攪拌動作中，省略執行維持襯底轉速這一步的方式控制旋轉保持部。在這種情況下，能夠提高形成在襯底周緣部的涂布膜厚度的均勻性，并且能夠縮短襯底處理所需的時間。