[發明專利]周緣部涂布裝置及周緣部涂布方法

在審

• 申請號: 202110588813.7
• 申請日: 2021-05-28
• 公開（公告）號: CN113731673A
• 公開（公告）日: 2021-12-03
• 發明（設計）人: 馬渕康史;后藤茂宏;松泰司;胡鈴達
• 申請（專利權）人: 株式會社斯庫林集團
• 主分類號: B05B13/02
• 分類號: B05B13/02;B05B13/04;B05D1/00;B05D1/02
• 代理公司: 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287
• 代理人: 陳甜甜

1.一種周緣部涂布裝置，具備：旋轉保持部，保持襯底使襯底繞著襯底的中心軸旋轉；

涂布液供給部，在利用所述旋轉保持部使襯底正在旋轉的狀態下，通過向襯底一面的周緣部供給涂布液，從而在襯底一面的除中央區域以外的周緣部形成涂布膜；及

控制部，在利用所述涂布液供給部在襯底一面的周緣部形成涂布膜之后，控制所述旋轉保持部反復進行預定次數2次以上的攪拌動作；且

所述攪拌動作包括：

使襯底加速而提高襯底的轉速；

在襯底加速之后，使襯底減速而減小襯底的轉速；及

在襯底減速之后，維持襯底的轉速。

2.根據權利要求1所述的周緣部涂布裝置，其中所述預定次數是通過利用所述涂布液供給部形成在襯底一面的周緣部的涂布膜喪失流動性而使涂布膜干燥的次數。

3.根據權利要求1或2所述的周緣部涂布裝置，其中所述控制部在反復進行2次以上的所述攪拌動作中的最后攪拌動作中，以省略執行維持襯底轉速這一步的方式控制所述旋轉保持部。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的周緣部涂布裝置，其中所述控制部在各攪拌動作中，以襯底的旋轉加速度的絕對值為襯底的旋轉減速度的絕對值以上的方式控制所述旋轉保持部。

5.根據權利要求1至4中任一項所述的周緣部涂布裝置，其中所述涂布液供給部包括噴出涂布液的涂布噴嘴，

所述控制部是，在使所述涂布噴嘴向第1方向移動，以使得所述涂布噴嘴所噴出的涂布液的供給位置從襯底周緣部的外緣向內緣移動之后，再使所述涂布噴嘴向與所述第1方向相反的第2方向移動，以使得所述涂布噴嘴所噴出的涂布液的供給位置從襯底周緣部的內緣向外緣移動。

6.根據權利要求5所述的周緣部涂布裝置，其中所述控制部以向所述第2方向移動的速度大于向所述第1方向移動的速度的方式使所述涂布噴嘴移動。

7.一種周緣部涂布方法，包括：利用旋轉保持部保持襯底而使襯底繞著襯底的中心軸旋轉的步驟；

在利用所述旋轉保持部使襯底正在旋轉的狀態下，通過利用涂布液供給部向襯底一面的周緣部供給涂布液，從而在襯底一面的除中央區域以外的周緣部形成涂布膜的步驟；及

利用所述涂布液供給部在襯底一面的周緣部形成涂布膜之后，反復進行預定次數2次以上的利用所述旋轉保持部的攪拌動作；且

所述攪拌動作包括：

使襯底加速而提高襯底的轉速；

在襯底加速之后，使襯底減速而減小襯底的轉速；及

在襯底減速之后，維持襯底的轉速。

8.根據權利要求7所述的周緣部涂布方法，其中所述預定次數是通過利用所述涂布液供給部形成在襯底一面的周緣部的涂布膜喪失流動性而使涂布膜干燥的次數。

9.根據權利要求7或8所述的周緣部涂布方法，其中在反復進行2次以上的攪拌動作中的最后攪拌動作中，省略執行維持襯底轉速這一步。

10.根據權利要求7至9中任一項所述的周緣部涂布方法，其中在各攪拌動作中，襯底的旋轉加速度的絕對值為襯底的旋轉減速度的絕對值以上。

11.根據權利要求7至10中任一項所述的周緣部涂布方法，其中形成所述涂布膜的步驟包括：在使所述涂布噴嘴向第1方向移動，以使得所述涂布液供給部的涂布噴嘴所噴出的涂布液的供給位置從襯底周緣部的外緣向內緣移動之后，再使所述涂布噴嘴向與所述第1方向相反的第2方向移動，以使得所述涂布噴嘴所噴出的涂布液的供給位置從襯底周緣部的內緣向外緣移動。

12.根據權利要求11所述的周緣部涂布方法，其中所述涂布噴嘴向所述第2方向移動的速度大于所述涂布噴嘴向所述第1方向移動的速度。