[發明專利]一種二硫化鉬/二硫化鎢紅外雙色探測器及其制備方法在審
| 申請號: | 202110580063.9 | 申請日: | 2021-05-26 |
| 公開(公告)號: | CN113299779A | 公開(公告)日: | 2021-08-24 |
| 發明(設計)人: | 王東博;劉東昊;張冰珂;胡云飛;王金忠;矯淑杰 | 申請(專利權)人: | 哈爾濱工業大學 |
| 主分類號: | H01L31/032 | 分類號: | H01L31/032;H01L31/102;H01L31/18 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 二硫化鉬 硫化 紅外 探測器 及其 制備 方法 | ||
本發明公開了一種二硫化鉬/二硫化鎢紅外雙色探測器及其制備方法,所述探測器包括藍寶石襯底、MoS2層、WS2層和金電極,藍寶石襯底上生長MoS2層,MoS2層上生長WS2層,金電極設置在MoS2層和WS2層上,具體制備方法如下:一、利用磁控濺射技術在藍寶石襯底上生長MoS2層;二、利用CVD技術在MoS2層上生長WS2層;三、利用磁控濺射技術在MoS2層和WS2層表面蒸鍍金電極。本發明利用WS2層與MoS2層構成超晶格,通過調節厚度,在超晶格中形成多個子帶能級,能級帶隙滿足中波雙色紅外探測要求,當入射光子大于等于超晶格的自帶能級時,光生載流子可以在子帶間躍遷,超晶格的電導率增加,實現紅外雙波段探測。
技術領域
本發明屬于光電探測成像探測技術領域,涉及一種紅外雙色探測器及其制備方法,具體涉及一種垂直堆疊MoS2/WS2紅外雙色探測器及其制備方法。
背景技術
紅外探測器把接收到的紅外輻射轉換成相應的電信號,是紅外技術的核心,紅外探測器的發展引領也制約著紅外技術的發展。在過去的幾十年里,大量的新型材料、新穎器件不斷涌現,紅外光電探測器完成了第一代的單元、多元光導器件向第二代凝視型紅外焦平面器件的跨越,正朝著以高工作溫度、高探測率、大面陣、低成本、多光譜為特征的第三代紅外焦平面技術的方向發展。
目前,實用化的紅外雙色探測器主要由HgCdTe、銻化物超晶格、III-V族量子阱等材料構成,制備方式主要以分子束外延為主,為實現紅外雙色探測響應,通常采用復雜的結構。高昂的制備成本與復雜的材料結構與紅外光電探測器低成本、小型化、低功耗的發展理念不符。因此,如何實現低成本、簡單結構紅外雙色探測,是目前紅外探測器發展亟待解決的問題。
二維過渡金屬二硫化物(ransition Metal Dichalcogenides,TMDs),因其優異的物理特性,在光電探測領域頗具優勢。過渡金屬硫化物是二維原子材料中重要的一員,其分子式為MX2,其中M代表過渡金屬元素,X代表硫族元素。二硫化鉬(MoS2)是典型的層狀過渡金屬硫族化合物。塊狀MoS2是由厚度約為6.5埃的S-Mo-S分子層構成,層與層之間通過范德瓦爾斯力結合在一起,可以通過機械剝離法來制備少層WS2,大面積的MoS2還可通過CVD法制備。在單層MoS2內硫原子和鉬原子通過共價鍵結合,這導致MoS2的機械強度是鋼鐵的30倍,而且在惰性氣體保護下,當溫度達到1100 ℃時還能保持其穩定性。MoS2帶隙隨分子層厚度而改變,塊狀是帶隙為1.2 eV的間接帶隙半導體,而單層的卻是帶隙為1.8 eV的直接帶隙半導體。MoS2遷移率超過200 cm2 V-1 S-1,電流的開關比能達到108,化學性質穩定,有良好的機械性能,這些都使MoS2在光電探測方面存在巨大的應用前景。
二硫化鎢(WS2)也是過渡金屬硫化物的重要一員,有與MoS2相近的性質和晶體結構。
發明內容
為了解決受限于晶格失配等問題高質量紅外雙色探測材料制備工藝復雜,成本高,本發明提供了一種低成本的二硫化鉬/二硫化鎢紅外雙色探測器及其制備方法。本發明采用磁控濺射結合CVD技術制備垂直堆疊MoS2/WS2范德華異質結,避免了因為晶格失配造成的材料晶體質量下降的影響。
本發明的目的是通過以下技術方案實現的:
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





