[發(fā)明專利]一種ITO旋轉(zhuǎn)靶材表面制備工藝

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110577680.3
• 申請日: 2021-05-26
• 公開（公告）號: CN113275951A
• 公開（公告）日: 2021-08-20
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 石煜;王志強(qiáng);曾墩風(fēng);盛明亮;陶成
• 申請（專利權(quán)）人: 蕪湖映日科技股份有限公司
• 主分類號: B24B1/00
• 分類號: B24B1/00
• 代理公司: 南京正聯(lián)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32243
• 代理人: 楊靜

本發(fā)明提供一種ITO旋轉(zhuǎn)靶材表面制備工藝，首先對ITO旋轉(zhuǎn)靶胚進(jìn)行粗磨、內(nèi)圓磨和端磨，再通過自動循環(huán)水拋光設(shè)備拋光，控制芯軸轉(zhuǎn)速50?500轉(zhuǎn)/min，水磨砂帶轉(zhuǎn)速500?5000轉(zhuǎn)/min，左右移動速度1?20mm/s，控制表面冷卻水流量1?50L/min，拋光遍數(shù)1?50，再清洗烘干，制得的ITO旋轉(zhuǎn)靶材光潔度Ra0.1?0.6um，拋光尺寸精度可控制0.1mm內(nèi)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及ITO旋轉(zhuǎn)靶材領(lǐng)域，尤其涉及一種ITO旋轉(zhuǎn)靶材表面制備工藝。

背景技術(shù)

ITO旋轉(zhuǎn)靶材主要用于ITO膜透明導(dǎo)電玻璃的制作，后者是制造平面液晶顯示的主要材料，在電子工業(yè)、信息產(chǎn)業(yè)方面有著廣闊而重要的應(yīng)用。ITO旋轉(zhuǎn)靶材需要進(jìn)行對其表面加工，傳統(tǒng)的工藝為：ITO旋轉(zhuǎn)靶胚燒結(jié)出來后采用外圓磨加工，受加工工藝的限制，需粗磨后，在精磨，加工完表面光潔度不足，存在拉傷、刀痕等不良，需要靠人力打磨，同時R角控制直角容易崩邊，打磨后序工藝綁定，靶材綁定后表面存在污染，殘膠等不良，又需要靠人力打磨，耗時耗力。

現(xiàn)有技術(shù)專利CN101700616A公開了一種濺射靶材的表面處理方法，提供鋁或鋁合金的濺射靶材濺射靶材為，所述濺射靶材的表面進(jìn)行車床加工，并在車屑過程中采用酒精冷卻；采用拋光件對車屑后的濺射靶材進(jìn)行拋光，可以及時冷卻車床加工過程中產(chǎn)生的熱量，使得車床加工時較少或不產(chǎn)生積屑，避免了積屑對濺射靶材表面造成損傷。但是該專利缺少詳細(xì)的拋光的技術(shù)特征，而拋光是ITO旋轉(zhuǎn)靶材表面處理的重要技術(shù)特征，如何對拋光技術(shù)進(jìn)行使用來達(dá)到對ITO旋轉(zhuǎn)靶材表面處理的光潔度及R角的要求。因此解決這一問題就顯得十分必要了。

發(fā)明內(nèi)容

為解決上述問題，本發(fā)明提供一種ITO旋轉(zhuǎn)靶材表面制備工藝，首先對ITO旋轉(zhuǎn)靶胚進(jìn)行粗磨、內(nèi)圓磨和端磨，再通過自動循環(huán)水拋光設(shè)備拋光，控制芯軸轉(zhuǎn)速50-500轉(zhuǎn)/min，水磨砂帶轉(zhuǎn)速500-5000轉(zhuǎn)/min，左右移動速度1-20mm/s，控制表面冷卻水流量1-50L/min，拋光遍數(shù)1-50，再清洗烘干，制得的 ITO旋轉(zhuǎn)靶材光潔度Ra0.1-0.6um，拋光尺寸精度可控制0.1mm內(nèi)，解決了背景技術(shù)中出現(xiàn)的問題。

本發(fā)明的目的是提供一種ITO旋轉(zhuǎn)靶材表面制備工藝，首先對ITO旋轉(zhuǎn)靶胚進(jìn)行粗磨，之后進(jìn)行內(nèi)圓磨和端磨；再通過自動循環(huán)水拋光設(shè)備進(jìn)行水拋光，自動循環(huán)水拋光設(shè)備采用60-500目金剛石水磨砂帶，控制芯軸轉(zhuǎn)速50-500轉(zhuǎn)/min，水磨砂帶轉(zhuǎn)速500-5000轉(zhuǎn)/min，左右移動速度1-20mm/s，控制表面冷卻水流量1-50L/min；水拋結(jié)束后進(jìn)行高壓清洗烘干得到制備好的ITO旋轉(zhuǎn)靶材。

進(jìn)一步改進(jìn)在于：所述對ITO旋轉(zhuǎn)靶胚進(jìn)行粗磨采用治具裝配好，再裝到外圓磨設(shè)備上進(jìn)行粗磨，控制進(jìn)刀量0.01-0.5mm，轉(zhuǎn)速：1-5000轉(zhuǎn)/min。

進(jìn)一步改進(jìn)在于：所述內(nèi)圓磨和端磨控制進(jìn)刀量0.01-0.5mm，轉(zhuǎn)速：1-5000轉(zhuǎn)/min。

進(jìn)一步改進(jìn)在于：清洗結(jié)束對靶材表面殘留水分進(jìn)行吹干后采用10-100℃進(jìn)行烘烤；

進(jìn)一步改進(jìn)在于：靶材烘干結(jié)束后吊裝下靶檢測，光潔度需達(dá)到Ra0.1-0.6um，拋光尺寸精度達(dá)到0.1mm內(nèi)。

進(jìn)一步改進(jìn)在于：所述自動循環(huán)水拋光設(shè)備的拋光遍數(shù)為1-50遍。

進(jìn)一步改進(jìn)在于：所述水拋光前將粗磨、內(nèi)圓磨和端磨過的ITO旋轉(zhuǎn)靶胚綁定于鈦管外表面，綁定好的靶材再進(jìn)行水拋光。