[發明專利]一種ITO旋轉靶材表面制備工藝

在審

• 申請號: 202110577680.3
• 申請日: 2021-05-26
• 公開（公告）號: CN113275951A
• 公開（公告）日: 2021-08-20
• 發明（設計）人: 石煜;王志強;曾墩風;盛明亮;陶成
• 申請（專利權）人: 蕪湖映日科技股份有限公司
• 主分類號: B24B1/00
• 分類號: B24B1/00
• 代理公司: 南京正聯知識產權代理有限公司 32243
• 代理人: 楊靜

1.一種ITO旋轉靶材表面制備工藝，其特征在于：

首先對ITO旋轉靶胚進行粗磨，之后進行內圓磨和端磨；再通過自動循環水拋光設備進行水拋光，自動循環水拋光設備采用60-500目金剛石水磨砂帶，控制芯軸轉速50-500轉/min，水磨砂帶轉速500-5000轉/min，左右移動速度1-20mm/s，控制表面冷卻水流量1-50L/min；水拋結束后進行高壓清洗烘干得到制備好的ITO旋轉靶材。

2.如權利要求1所述一種ITO旋轉靶材表面制備工藝，其特征在于：所述對ITO旋轉靶胚進行粗磨采用治具裝配好，再裝到外圓磨設備上進行粗磨，控制進刀量0.01-0.5mm，轉速：1-5000轉/min。

3.如權利要求1所述一種ITO旋轉靶材表面制備工藝，其特征在于：所述內圓磨和端磨控制進刀量0.01-0.5mm，轉速：1-5000轉/min。

4.如權利要求1所述一種ITO旋轉靶材表面制備工藝，其特征在于：清洗結束對靶材表面殘留水分進行吹干后采用10-100℃進行烘烤。

5.如權利要求1或4所述一種ITO旋轉靶材表面制備工藝，其特征在于：靶材烘干結束后吊裝下靶檢測，光潔度需達到Ra0.1-0.6um，拋光尺寸精度達到0.1mm內。

6.如權利要求1所述一種ITO旋轉靶材表面制備工藝，其特征在于：所述自動循環水拋光設備的拋光遍數為1-50遍。

7.如權利要求1所述一種ITO旋轉靶材表面制備工藝，其特征在于：所述水拋光前將粗磨、內圓磨和端磨過的ITO旋轉靶胚綁定于鈦管外表面，綁定好的靶材再進行水拋光。