[發明專利]一種氧化鋁陶瓷坩堝、其使用結構及生長單晶的方法在審
| 申請號: | 202110576484.4 | 申請日: | 2021-05-26 |
| 公開(公告)號: | CN113512754A | 公開(公告)日: | 2021-10-19 |
| 發明(設計)人: | 羅福敏;柯尊斌;王卿偉 | 申請(專利權)人: | 中鍺科技有限公司 |
| 主分類號: | C30B11/00 | 分類號: | C30B11/00;C30B29/40 |
| 代理公司: | 南京中律知識產權代理事務所(普通合伙) 32341 | 代理人: | 李建芳 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 氧化鋁陶瓷 坩堝 使用 結構 生長 方法 | ||
本發明公開了一種氧化鋁陶瓷坩堝、其使用結構及生長單晶的方法,一種氧化鋁陶瓷坩堝,包括氧化鋁陶瓷坩堝、氧化鋁陶瓷封帽、硅酸鋁陶瓷纖維密封墊片和硅酸鋁陶瓷纖維紙層;氧化鋁陶瓷坩堝包括從下到上依次相接的籽晶腔、錐部和體部,體部頂部為敞口結構,氧化鋁陶瓷封帽螺紋連接在體部頂部,陶瓷纖維密封墊片設在氧化鋁陶瓷封帽螺和體部頂部之間;硅酸鋁陶瓷纖維紙層活動鋪設在氧化鋁陶瓷坩堝內側。本發明生長單晶時,用氧化鋁陶瓷坩堝替代石英坩堝,不需要石英氫氧焰焊封,也不需要在VGF單晶爐內充入氮氣平衡壓力,降低了生產成本;通過的硅酸鋁陶瓷纖維紙的設置,極大的程度上提高了單晶爐溫場的穩定性,降低了磷化銦單晶的位錯密度,提高了成晶率。
技術領域
本發明涉及一種氧化鋁陶瓷坩堝、其使用結構及生長單晶的方法,屬于InP單晶生長的技術領域。
背景技術
磷化銦(InP)是重要的Ⅲ-Ⅴ族化合物半導體材料之一,是繼Si、GaAs之后的新一代電子功能材料。GaAs、InP等具有Ge、Si所不具備的優越特性(如電子遷移率高、禁帶寬度大等等),可以在微波及光電器件領域有廣泛的應用。InP材料適于制造毫米波變頻器件,可廣泛應用于雷達通信,精確制導,InP基微波器件是新一代衛星通信和精確制導的關鍵元器件,它直接決定武器裝備系統的快速反應能力。
目前獲得InP單晶材料的方法主要是垂直溫度梯度凝固(VGF)法,首先將磷化銦多晶料進行清洗后與摻雜劑、B2O3液封劑、高純紅磷、籽晶等裝入清洗好的PBN坩堝中,再一起放入石英坩堝中,使用分子真空泵將石英坩堝內部抽至真空,用氫氧焰將抽至真空的石英坩堝密封;采用多段加熱結構的加熱器,建立垂直方向的溫度梯度,將磷化銦多晶料熔化,控制各溫區的降溫速度,使生長界面緩慢向上移動,實現磷化銦定向凝固生長。在進行磷化銦單晶生長時,隨著溫度上升,配料時裝入的高純紅磷將升華成紅磷蒸汽,在石英坩堝內部產生2.75Mpa的壓力,需要在壓力容器內充入略高于2.75Mpa的氮氣或氬氣平衡壓力。
在單晶爐內充入的氮氣在高溫高壓條件下產生劇烈的氣體對流,造成溫場的溫度產生較大的波動起伏,獲得的單晶位錯密度高,晶體內部易生長細小的孿晶,成晶率不高,并且使用后的石英管、石英帽等立即報廢,使市場上大尺寸高質量的襯底價格始終居高不下。并且石英管使用氫氧焰焊封后焊道位置存在應力,在高溫高壓條件下石英管容易產生裂縫導致裂管,造成磷化銦多晶料離解,大量紅磷燃燒損壞單晶爐,延誤生產。
發明內容
本發明提供一種氧化鋁陶瓷坩堝、其使用結構及生長單晶的方法,能夠有效改善目前磷化銦單晶生長工藝中位錯密度高、成晶率低、成本高昂等缺點。
為解決上述技術問題,本發明所采用的技術方案如下:
一種氧化鋁陶瓷坩堝,包括氧化鋁陶瓷坩堝、氧化鋁陶瓷封帽、硅酸鋁陶瓷纖維密封墊片和硅酸鋁陶瓷纖維紙層;氧化鋁陶瓷坩堝包括從下到上依次相接的籽晶腔、錐部和體部,體部頂部為敞口結構,氧化鋁陶瓷封帽螺紋連接在體部頂部,陶瓷纖維密封墊片設在氧化鋁陶瓷封帽螺和體部頂部之間;硅酸鋁陶瓷纖維紙層活動鋪設在氧化鋁陶瓷坩堝內側。
上述氧化鋁陶瓷坩堝,氧化鋁陶瓷封帽螺紋連接在鋁陶瓷坩堝上,氧化鋁陶瓷封帽可反復使用,顯著降低了制備成本,同時無需焊縫,避免了現有工藝石英管開裂造成的原輔料和設備損失,延長了設備使用壽命;通過硅酸鋁陶瓷纖維密封墊片的設置,確保了氧化鋁陶瓷坩堝和氧化鋁陶瓷封帽之間的密封性;通過硅酸鋁陶瓷纖維紙層的設置,可有效改善PBN坩堝和外層坩堝的貼合狀態,極大的程度上提高了單晶爐溫場的穩定性,單晶制備過程中無需充入氮氣或氬氣平衡壓力,降低了磷化銦單晶的位錯密度,提高了成晶率,獲得了大尺寸高質量的磷化銦襯底。
為了提高氧化鋁陶瓷封帽和鋁陶瓷坩堝的連接穩定性和密封性,體部頂部外圍設有外螺紋,氧化鋁陶瓷封帽底部設有與體部上外螺紋相互匹配的內螺紋;硅酸鋁陶瓷纖維密封墊片包括第一密封墊片和第二密封墊片,第一密封墊片套在體部外螺紋的底部,第二密封墊片置于氧化鋁陶瓷封帽內螺紋的頂部。
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