[發明專利]一種燒結礦氧化鎂智能控制方法有效
| 申請號: | 202110574834.3 | 申請日: | 2021-05-26 |
| 公開(公告)號: | CN113278792B | 公開(公告)日: | 2022-05-27 |
| 發明(設計)人: | 喻波;何遵義;李保俊;鄒明;王策軍;馮小均;何杰;關克靜;荊海波;王愛成 | 申請(專利權)人: | 寧波鋼鐵有限公司 |
| 主分類號: | C22B1/16 | 分類號: | C22B1/16;C21B5/00;G05B13/04 |
| 代理公司: | 上海泰能知識產權代理事務所(普通合伙) 31233 | 代理人: | 宋纓 |
| 地址: | 315800 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 燒結 氧化鎂 智能 控制 方法 | ||
本發明涉及一種燒結礦氧化鎂智能控制方法,包括:步驟(1):計算含鎂熔劑的配比和下料量;步驟(2):將計算得到的含鎂熔劑的配比和下料量下發至一級配料系統,通過所述一級配料系統進行下料;步驟(3):根據所述一級配料系統的實際下料量和氧化鎂目標值來計算氧化鎂調整值;步驟(4):若所述氧化鎂調整值與氧化鎂目標值的偏差在預設范圍以外,則根據所述氧化鎂調整值重新計算含鎂熔劑的配比和下料量,并重復所述步驟(2)至步驟(3),直到所述氧化鎂調整值與氧化鎂目標值的偏差在預設范圍以內。本發明通過智能化控制含鎂熔劑的添加,以實現對氧化鎂的精確控制。
技術領域
本發明涉及氧化鎂添加技術領域,特別是涉及一種燒結礦氧化鎂智能控制方法。
背景技術
高爐冶煉過程中,爐渣中氧化鎂含量是影響其流動性的主要因素,爐渣氧化鎂主要來自于入爐含鐵原料。目前高爐冶煉的主要入爐鐵料為燒結礦,故燒結礦氧化鎂控制對高爐況順行和產質量影響非常大。燒結礦中氧化鎂主要來源為混勻礦、返礦以及含鎂熔劑,當含鎂熔劑質量、用量或生產變動時,均會造成燒結礦氧化鎂的波動,一般企業氧化鎂控制是人工調整控制,靠人工經驗完成,精確度不高、及時性差、適應性不強等缺點,對下道工序高爐順行影響大。
發明內容
本發明所要解決的技術問題是提供一種燒結礦氧化鎂智能控制方法,通過智能化控制含鎂熔劑的添加,以實現對氧化鎂的精確控制。
本發明解決其技術問題所采用的技術方案是:提供一種燒結礦氧化鎂智能控制方法,包括:
步驟(1):計算含鎂熔劑的配比和下料量;
步驟(2):將計算得到的含鎂熔劑的配比和下料量下發至一級配料系統,通過所述一級配料系統進行下料;
步驟(3):根據所述一級配料系統的實際下料量和氧化鎂目標值來計算氧化鎂調整值;
步驟(4):若所述氧化鎂調整值與氧化鎂目標值的偏差在預設范圍以外,則根據所述氧化鎂調整值重新計算含鎂熔劑的配比和下料量,并重復所述步驟(2)至步驟(3),直到所述氧化鎂調整值與氧化鎂目標值的偏差在預設范圍以內。
所述步驟(2)還包括:根據含鎂熔劑的質量變化和使用情況對含鎂熔劑的下料量進行調整。
所述步驟(3)中根據所述一級配料系統的實際下料量和氧化鎂目標值來計算氧化鎂調整值,公式為:ΔRrf=k1·ΔR1+k2·ΔR2,其中,ΔRrf為氧化鎂調整值,k1為前饋氧化鎂偏差調整系數,ΔR1為前饋氧化鎂偏差值且ΔR1=R前-Rtarget,R前為一級配料系統的含鎂熔劑實際下料量,Rtarget為氧化鎂目標值,k2為后饋氧化鎂偏差調整系數,ΔR2為后饋氧化鎂偏差值且ΔR2=R后-Rtarget,R后為檢測出的含鎂熔劑實際下料量。
所述含鎂熔劑為白云石。
有益效果
由于采用了上述的技術方案,本發明與現有技術相比,具有以下的優點和積極效果:本發明通過智能化控制含鎂熔劑的添加,避免靠人工經驗添加造成較大的誤差,以實現對氧化鎂的精確控制;本發明能夠根據實際下料量和氧化鎂目標值及時、精確調整配料添加量,大幅提高燒結礦氧化鎂穩定性;本發明能夠有效避免生產過程中出現的設備故障、生產參數變動、計量秤偏差、燒結礦取樣檢驗偏差以及人工調整不到位等因素導致的燒結礦氧化鎂異常波動,使氧化鎂在合理的區間內波動;本發明能夠有效節約人力資源和經濟資源,實用性較強。
附圖說明
圖1是本發明實施方式的原理邏輯示意圖。
具體實施方式
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