[發(fā)明專利]一種燒結(jié)礦氧化鎂智能控制方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110574834.3
• 申請日: 2021-05-26
• 公開（公告）號: CN113278792B
• 公開（公告）日: 2022-05-27
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 喻波;何遵義;李保俊;鄒明;王策軍;馮小均;何杰;關(guān)克靜;荊海波;王愛成
• 申請（專利權(quán)）人: 寧波鋼鐵有限公司
• 主分類號: C22B1/16
• 分類號: C22B1/16;C21B5/00;G05B13/04
• 代理公司: 上海泰能知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31233
• 代理人: 宋纓

1.一種燒結(jié)礦氧化鎂智能控制方法，其特征在于，包括：

步驟(1)：計算含鎂熔劑的配比和下料量；

步驟(2)：將計算得到的含鎂熔劑的配比和下料量下發(fā)至一級配料系統(tǒng)，通過所述一級配料系統(tǒng)進(jìn)行下料；

步驟(3)：根據(jù)所述一級配料系統(tǒng)的實際下料量和氧化鎂目標(biāo)值來計算氧化鎂調(diào)整值；所述步驟(3)中根據(jù)所述一級配料系統(tǒng)的實際下料量和氧化鎂目標(biāo)值來計算氧化鎂調(diào)整值，公式為：ΔR_rf＝k₁·ΔR1+k₂·ΔR2，其中，ΔR_rf為氧化鎂調(diào)整值，k₁為前饋氧化鎂偏差調(diào)整系數(shù)，ΔR1為前饋氧化鎂偏差值且ΔR1＝R_前-R_target，R_前為一級配料系統(tǒng)的含鎂熔劑實際下料量，R_target為氧化鎂目標(biāo)值，k₂為后饋氧化鎂偏差調(diào)整系數(shù)，ΔR2為后饋氧化鎂偏差值且ΔR2＝R_后-R_target，R_后為檢測出的含鎂熔劑實際下料量；

步驟(4)：若所述氧化鎂調(diào)整值與氧化鎂目標(biāo)值的偏差在預(yù)設(shè)范圍以外，則根據(jù)所述氧化鎂調(diào)整值重新計算含鎂熔劑的配比和下料量，并重復(fù)所述步驟(2)至步驟(3)，直到所述氧化鎂調(diào)整值與氧化鎂目標(biāo)值的偏差在預(yù)設(shè)范圍以內(nèi)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的燒結(jié)礦氧化鎂智能控制方法，其特征在于，所述步驟(2)還包括：根據(jù)含鎂熔劑的質(zhì)量變化和使用情況對含鎂熔劑的下料量進(jìn)行調(diào)整。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的燒結(jié)礦氧化鎂智能控制方法，其特征在于，所述含鎂熔劑為白云石。