[發(fā)明專利]一種電路版圖設(shè)計方法、裝置、掩膜板及電子設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110566049.3
• 申請日: 2021-05-24
• 公開（公告）號: CN113312873B
• 公開（公告）日: 2023-03-14
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 徐一建
• 申請（專利權(quán)）人: 海光信息技術(shù)股份有限公司
• 主分類號: G06F30/392
• 分類號: G06F30/392;G06F30/398
• 代理公司: 北京市廣友專利事務(wù)所有限責(zé)任公司 11237
• 代理人: 張仲波

1.一種電路版圖設(shè)計方法，其特征在于，包括：

在原始電路版圖中確定第一待填充版圖區(qū)域；

在所述第一待填充版圖區(qū)域中插入第一冗余圖形，得到第一中間電路版圖；

在所述第一中間電路版圖中確定第二待填充版圖區(qū)域；其中，所述第二待填充版圖區(qū)域與所述第一待填充版圖區(qū)域不完全重合；

確定與所述第二待填充版圖區(qū)域相鄰的至少一個版圖區(qū)域；

根據(jù)所述第二待填充版圖區(qū)域的版圖密度和所述相鄰的至少一個版圖區(qū)域的版圖密度，在所述第二待填充版圖區(qū)域插入第二冗余圖形；

在所述第一中間電路版圖中確定第二待填充版圖區(qū)域之后，所述方法，還包括：

從所述第一中間電路版圖中提取所述第二待填充版圖區(qū)域，以使所述第二待填充版圖區(qū)域形成獨立的第二中間電路版圖；提取所述第二待填充版圖區(qū)域后的所述第一中間電路版圖形成第三中間電路版圖；

所述根據(jù)所述第二待填充版圖區(qū)域的版圖密度和所述相鄰的至少一個版圖區(qū)域的版圖密度，在所述第二待填充版圖區(qū)域插入第二冗余圖形，包括：

根據(jù)所述第二待填充版圖區(qū)域的版圖密度和所述相鄰的至少一個版圖區(qū)域的版圖密度，在所述第二中間電路版圖中插入第二冗余圖形，形成第四中間電路版圖；根據(jù)所述第二待填充版圖區(qū)域在所述第一中間電路版圖的位置，將所述第四中間電路版圖合并到所述第三中間電路版圖中。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述在原始電路版圖中確定第一待填充版圖區(qū)域，包括：

按照第一預(yù)設(shè)規(guī)則，將原始電路版圖進(jìn)行劃分，得到至少兩個第一版圖區(qū)域；

對每個所述第一版圖區(qū)域進(jìn)行密度檢查；

將版圖密度低于預(yù)定閾值的第一版圖區(qū)域確定為第一待填充版圖區(qū)域。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述第一中間電路版圖中確定第二待填充版圖區(qū)域，包括：

按照第二預(yù)設(shè)規(guī)則，將所述第一中間電路版圖進(jìn)行劃分，得到至少兩個第二版圖區(qū)域；所述第二版圖區(qū)域與所述第一待填充版圖區(qū)域不完全重合；

對每個所述第二版圖區(qū)域進(jìn)行密度檢查；

將版圖密度低于預(yù)定閾值的第二版圖區(qū)域確定為第二待填充版圖區(qū)域。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述第二待填充版圖區(qū)域的版圖密度和所述相鄰的至少一個版圖區(qū)域的版圖密度，在所述第二中間電路版圖中插入第二冗余圖形，包括：

根據(jù)所述第二待填充版圖區(qū)域的版圖密度和所述相鄰的至少一個版圖區(qū)域的版圖密度，確定所述第二待填充版圖區(qū)域的版圖密度與所述相鄰的至少一個版圖區(qū)域的版圖密度的密度差值；

根據(jù)所述密度差值，在所述第二中間電路版圖中插入第二冗余圖形。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在所述第三中間電路版圖中、與所述第二待填充版圖區(qū)域?qū)?yīng)的位置包括主圖形；

在將所述第四中間電路版圖合并到所述第三中間電路版圖中之前，所述方法，還包括：

刪除所述第四中間電路版圖中的主圖形，形成新的第四中間電路版圖。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述第二待填充版圖區(qū)域的版圖密度和所述相鄰的至少一個版圖區(qū)域的版圖密度，在所述第二待填充版圖區(qū)域插入第二冗余圖形，包括：

根據(jù)所述第二待填充版圖區(qū)域的版圖密度和所述相鄰的至少一個版圖區(qū)域的版圖密度，確定所述第二待填充版圖區(qū)域的版圖密度與所述相鄰的至少一個版圖區(qū)域的版圖密度的密度差值；

根據(jù)所述密度差值，在所述第二待填充版圖區(qū)域插入第二冗余圖形。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在所述第二待填充版圖區(qū)域插入第二冗余圖形之后，所述方法，還包括：

對所述第二冗余圖形進(jìn)行修飾，以使修飾后的第二冗余圖形的特征與所述第一冗余圖形的特征統(tǒng)一。