[發(fā)明專利]一種硅基顯示的來料電性檢測系統(tǒng)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110566032.8
• 申請日: 2021-05-24
• 公開（公告）號: CN113109957A
• 公開（公告）日: 2021-07-13
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 朱平;劉勝芳;李雪原;劉曉佳;趙錚濤
• 申請（專利權(quán)）人: 安徽熙泰智能科技有限公司
• 主分類號: G02F1/13
• 分類號: G02F1/13
• 代理公司: 蕪湖安匯知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 34107
• 代理人: 朱圣榮

本發(fā)明揭示了一種硅基顯示的來料電性檢測系統(tǒng)，待檢測的基底層上存在像素電極，所述基底層的邊緣設(shè)有外圍電極，所述基底層具有像素電極的一面上方固定有AOI，所述AOI與基底層之間設(shè)有液晶模塊。本發(fā)明采用偏振片、液晶以及背光源實現(xiàn)在無發(fā)光層的基板上進行功能性不良測試，例如亮點、暗點、亮線、暗線以及顯示異常等的檢出，增加攔截率，降低成本損失。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及硅基顯示行業(yè)電性檢測領(lǐng)域，尤其涉及OLED及Micro LED的晶圓電性檢測設(shè)備技術(shù)。

背景技術(shù)

硅基顯示行業(yè)是平板顯示行業(yè)的一個分支，其相對于平板顯示的優(yōu)點在于響應(yīng)時間短，刷新率高，PPI高；根據(jù)其優(yōu)點硅基顯示常用于近眼顯示設(shè)備；而在目前硅基顯示中由于晶圓常為晶圓廠代工，晶圓廠代工測試只測試IC功能是否異常并不會關(guān)注顯示不良，所以目前并沒有有效的方式檢查晶圓來料是否存在顯示異常，這就給硅基顯示廠商帶來了較高的良率損失風(fēng)險；

目前硅基顯示廠商常用的方式是進行CP測試，測試IC功能是否異常，其次待硅基顯示發(fā)光層完成之后進行點亮測試，或待硅基顯示模組完成之后進行點亮測試，這就意味著必須先進行工藝過程再進行測試；這就導(dǎo)致了其他變量，一種可能是晶圓來料本身具有異常，另一種可能是硅基顯示廠商進行的工藝過程對晶圓產(chǎn)生影響從而導(dǎo)致不良發(fā)生；這對于硅基廠商來說便無法分辨究竟是哪里的異常導(dǎo)致，使不良推動無法進行，良率損失較大。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是實現(xiàn)一種采用偏振片、液晶以及背光源實現(xiàn)在無發(fā)光層的基板上進行功能性不良測試的裝置。

為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案為：一種硅基顯示的來料電性檢測系統(tǒng)，待檢測的基底層上存在像素電極，所述基底層的邊緣設(shè)有外圍電極，所述基底層具有像素電極的一面上方固定有AOI，所述AOI與基底層之間設(shè)有液晶模塊。

所述液晶模塊自基底層向AOI一側(cè)依次為導(dǎo)光板、偏光片、液晶層、偏光片、ITO薄膜。

所述外圍電機上固定有探針或探卡，所述探針或探卡通過導(dǎo)線連接電源。

所述AOI包括固定在液晶模塊上方的采集單元、連接采集單元的圖像處理單元，以及連接圖像處理單元的顯示單元。

所述的偏光片包括上偏光片和下偏光片，所述上偏光片與下偏光片角度成90°。

所述的AOI相機為面陣或TDI相機，檢出精度小于等于1um；

所述的AOI相機為面陣或TDI相機，其光學(xué)像元為≤7um，其下方物鏡倍率大于等于7倍。

所述的液晶層厚度為1um至5um之間。

所述的導(dǎo)光板為反射底片與光學(xué)亞克力板材制成。

所述的導(dǎo)光板的光學(xué)亞克力板材材料為PMMA，折射率為1.5，厚度為100um-500um。

所述的反射底片材料為Ag/Al/Au/Cu中的一種或者其合金，反射率大于等于85％。

本發(fā)明采用偏振片、液晶以及背光源實現(xiàn)在無發(fā)光層的基板上進行功能性不良測試，例如亮點、暗點、亮線、暗線以及顯示異常等的檢出，增加攔截率，降低成本損失。

附圖說明

下面對本發(fā)明說明書中每幅附圖表達的內(nèi)容及圖中的標(biāo)記作簡要說明：

圖1為檢查裝置檢查產(chǎn)品為正常的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為檢查正常顯示圖樣；

圖3為檢查裝置檢查產(chǎn)品為異常的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為檢查異常顯示圖樣；