[發(fā)明專利]一種煤巖鏡質(zhì)體反射率光片樣的制備方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 202110565273.0
• 申請日: 2021-05-24
• 公開（公告）號: CN113295492A
• 公開（公告）日: 2021-08-24
• 發(fā)明（設計）人: 高健
• 申請（專利權）人: 攀鋼集團攀枝花鋼鐵研究院有限公司
• 主分類號: G01N1/28
• 分類號: G01N1/28;G01N1/32;G01N1/36;G01N21/95
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權代理有限公司 11227
• 代理人: 豆貝貝

1.一種煤巖鏡質(zhì)體反射率光片樣的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1、樣品鑲制：將煤巖粉末樣品與環(huán)氧樹脂和乙二胺在模具中攪拌混合，直至無大氣泡出現(xiàn)，然后將模具置于真空條件下靜置，得到鑲制好的固結樣品；

S2、光片磨制：利用半自動磨拋機對步驟S1所得鑲制好的固結樣品進行磨制；所述磨制為依次采用規(guī)格為180目、400目、800目和1200目的金剛石砂紙進行磨制；所述磨制中，180目和400目砂紙的磨制時間均為0.5～1min，800目和1200目砂紙的磨制時間均為1～1.5min；磨制壓力設為10～20N，磨拋機壓頭和底盤設為異向轉動，其中，壓頭轉速為80～100r/min，底盤轉速為120～150r/min；

S3、光片拋光：

第一步拋光：采用呢絨拋光布和氧化鋁拋光膏對步驟S2得到的樣品進行粗拋；

第二步拋光：采用短絨拋光布和煤巖拋光液對所述第一步拋光得到的樣品進行拋光；

所述光片拋光中，磨拋機壓頭和底盤設為異向轉動，其中，壓頭轉速為50～60r/min，底盤轉速為70～80r/min，壓力設為20～25N；

S4、光片檢驗：

將步驟S3得到的光片擦拭干凈后，置于光學顯微鏡下觀察，檢驗光片是否合格；若合格，則結束制樣；若不合格，則重復步驟S2～S3，直至光片合格。

2.根據(jù)權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述步驟S1中，所述煤巖粉末樣品、環(huán)氧樹脂和乙二胺的質(zhì)量分別為3～5g、7g和1.8g；

所述模具的內(nèi)徑為30mm。

3.根據(jù)權利要求1或2所述的制備方法，其特征在于，所述步驟S1中，所述環(huán)氧樹脂為EpoxiCure^TM2；

所述大氣泡的直徑為2～6mm。

4.根據(jù)權利要求1或2所述的制備方法，其特征在于，所述步驟S1中，所述真空條件的真空度為-25～-20kPa；

所述靜置的時間為6～8h。

5.根據(jù)權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述步驟S2中：

所述磨制過程為水磨，水流逆壓頭轉向沿壓頭邊緣進行沖洗；

所述磨制中，每個規(guī)格的金剛石砂紙磨制后，均對樣品和壓頭進行清洗，然后再進行下一規(guī)格金剛石砂紙的磨制。

6.根據(jù)權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述步驟S3中，所述氧化鋁拋光膏為2.5μm氧化鋁拋光膏；

所述煤巖拋光液為KMY-05拋光液。

7.根據(jù)權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述步驟S3中，第一步拋光的具體步驟為：將氧化鋁拋光膏均勻涂抹于壓頭正下方的拋光布區(qū)域上，調(diào)節(jié)出水量大小，使水流呈滴狀落于拋光區(qū)域，拋光時間為1.5～2min。

8.根據(jù)權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述步驟S3中，第二步拋光的具體步驟為：將煤巖拋光液均勻涂抹于壓頭正下方的拋光布區(qū)域上，出水模式與第一步拋光一致，且每隔10s往壓頭外緣附近的拋光布上補滴拋光液，拋光時間為2～3min。

9.根據(jù)權利要求8所述的制備方法，其特征在于，每隔10s補滴拋光液的滴數(shù)為3～5滴。

10.根據(jù)權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述步驟S4中，檢驗光片是否合格的標準為：光片表面平整干凈、不存在明顯劃痕，煤顆粒清晰、邊界清楚且表面無劃痕。