[發(fā)明專利]一種煤巖鏡質(zhì)體反射率光片樣的制備方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110565273.0
• 申請(qǐng)日: 2021-05-24
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113295492A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-08-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 高健
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 攀鋼集團(tuán)攀枝花鋼鐵研究院有限公司
• 主分類號(hào): G01N1/28
• 分類號(hào): G01N1/28;G01N1/32;G01N1/36;G01N21/95
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 豆貝貝

1.一種煤巖鏡質(zhì)體反射率光片樣的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1、樣品鑲制：將煤巖粉末樣品與環(huán)氧樹(shù)脂和乙二胺在模具中攪拌混合，直至無(wú)大氣泡出現(xiàn)，然后將模具置于真空條件下靜置，得到鑲制好的固結(jié)樣品；

S2、光片磨制：利用半自動(dòng)磨拋機(jī)對(duì)步驟S1所得鑲制好的固結(jié)樣品進(jìn)行磨制；所述磨制為依次采用規(guī)格為180目、400目、800目和1200目的金剛石砂紙進(jìn)行磨制；所述磨制中，180目和400目砂紙的磨制時(shí)間均為0.5～1min，800目和1200目砂紙的磨制時(shí)間均為1～1.5min；磨制壓力設(shè)為10～20N，磨拋機(jī)壓頭和底盤設(shè)為異向轉(zhuǎn)動(dòng)，其中，壓頭轉(zhuǎn)速為80～100r/min，底盤轉(zhuǎn)速為120～150r/min；

S3、光片拋光：

第一步拋光：采用呢絨拋光布和氧化鋁拋光膏對(duì)步驟S2得到的樣品進(jìn)行粗拋；

第二步拋光：采用短絨拋光布和煤巖拋光液對(duì)所述第一步拋光得到的樣品進(jìn)行拋光；

所述光片拋光中，磨拋機(jī)壓頭和底盤設(shè)為異向轉(zhuǎn)動(dòng)，其中，壓頭轉(zhuǎn)速為50～60r/min，底盤轉(zhuǎn)速為70～80r/min，壓力設(shè)為20～25N；

S4、光片檢驗(yàn)：

將步驟S3得到的光片擦拭干凈后，置于光學(xué)顯微鏡下觀察，檢驗(yàn)光片是否合格；若合格，則結(jié)束制樣；若不合格，則重復(fù)步驟S2～S3，直至光片合格。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述步驟S1中，所述煤巖粉末樣品、環(huán)氧樹(shù)脂和乙二胺的質(zhì)量分別為3～5g、7g和1.8g；

所述模具的內(nèi)徑為30mm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的制備方法，其特征在于，所述步驟S1中，所述環(huán)氧樹(shù)脂為EpoxiCure^TM2；

所述大氣泡的直徑為2～6mm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的制備方法，其特征在于，所述步驟S1中，所述真空條件的真空度為-25～-20kPa；

所述靜置的時(shí)間為6～8h。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述步驟S2中：

所述磨制過(guò)程為水磨，水流逆壓頭轉(zhuǎn)向沿壓頭邊緣進(jìn)行沖洗；

所述磨制中，每個(gè)規(guī)格的金剛石砂紙磨制后，均對(duì)樣品和壓頭進(jìn)行清洗，然后再進(jìn)行下一規(guī)格金剛石砂紙的磨制。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述步驟S3中，所述氧化鋁拋光膏為2.5μm氧化鋁拋光膏；

所述煤巖拋光液為KMY-05拋光液。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述步驟S3中，第一步拋光的具體步驟為：將氧化鋁拋光膏均勻涂抹于壓頭正下方的拋光布區(qū)域上，調(diào)節(jié)出水量大小，使水流呈滴狀落于拋光區(qū)域，拋光時(shí)間為1.5～2min。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述步驟S3中，第二步拋光的具體步驟為：將煤巖拋光液均勻涂抹于壓頭正下方的拋光布區(qū)域上，出水模式與第一步拋光一致，且每隔10s往壓頭外緣附近的拋光布上補(bǔ)滴拋光液，拋光時(shí)間為2～3min。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制備方法，其特征在于，每隔10s補(bǔ)滴拋光液的滴數(shù)為3～5滴。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述步驟S4中，檢驗(yàn)光片是否合格的標(biāo)準(zhǔn)為：光片表面平整干凈、不存在明顯劃痕，煤顆粒清晰、邊界清楚且表面無(wú)劃痕。