[發明專利]一種基于高濃度氧氣氛和光輻照條件的材料表面改性方法

在審

• 申請號: 202110564125.7
• 申請日: 2021-05-24
• 公開（公告）號: CN113149062A
• 公開（公告）日: 2021-07-23
• 發明（設計）人: 李子亨;孫浩騰;宋嘉程;李泓霖;張燕斌;張小藝;梁瀚
• 申請（專利權）人: 吉林大學
• 主分類號: C01G9/02
• 分類號: C01G9/02;C01G19/02;C01G49/06;C23C8/12
• 代理公司: 長春吉大專利代理有限責任公司 22201
• 代理人: 劉世純;王恩遠

1.一種基于高濃度氧氣氛和光輻照條件的材料表面改性方法，其特征在于：將需要表面改性的材料置于一個具有石英窗口的陶瓷腔體中，空氣氣氛下50～80℃預熱處理30～120min；抽真空后充入高濃度氧氣或含有氧氣的混合氣至腔體內壓強為1個標準大氣壓，在20～900℃及光輻照或無光輻照下處理20～240min，實現材料的表面改性；或者預熱處理后無需抽真空和充入高濃度氧氣或含有氧氣的混合氣，直接在20～900℃及光輻照下處理20～240min，實現材料的表面改性。

2.如權利要求1所述的一種基于高濃度氧氣氛和光輻照條件的材料表面改性方法，其特征在于：光輻照光為不限光強的、在波長上大于被改性材料帶隙能量的光，包含但不限于170nm～405nm紫外光。

3.如權利要求1所述的一種基于高濃度氧氣氛和光輻照條件的材料表面改性方法，其特征在于：高濃度氧氣的體積濃度高于20.95％。

4.如權利要求1所述的一種基于高濃度氧氣氛和光輻照條件的材料表面改性方法，其特征在于：含氧氣的混合氣為高純氧氣和任一種或多種氣體的混合氣，任一種或多種氣體為氮氣、氬氣、氦氣、甲烷、一氧化碳中的一種或多種，混合氣中氧氣體積濃度大于20.95％、水蒸氣的體積濃度低于1％，其它氣體體積濃度沒有要求。

5.如權利要求1所述的一種基于高濃度氧氣氛和光輻照條件的材料表面改性方法，其特征在于：需要表面改性的材料為金屬或金屬氧化物，包含但不限于Zn、Sn、Fe、ZnO、SnO₂或Fe₂O₃。

6.如權利要求1所述的一種基于高濃度氧氣氛和光輻照條件的材料表面改性方法，其特征在于：在陶瓷腔體內設置有載物臺，載物臺通過電加熱盤用以控制需要表面改性材料的熱處理溫度為20～900℃。

7.如權利要求1所述的一種基于高濃度氧氣氛和光輻照條件的材料表面改性方法，其特征在于：需要表面改性材料的形態為形狀和尺寸不限的塊體或粉體。