[發(fā)明專利]集成電路的布局分析方法、裝置、電子設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110563836.2
• 申請(qǐng)日: 2021-05-24
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113283207A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-08-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 程畫(huà);晉大師;王毓千
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 海光信息技術(shù)股份有限公司
• 主分類號(hào): G06F30/392
• 分類號(hào): G06F30/392;G06F30/398
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105
• 代理人: 彭久云;侯鑒玻

1.一種集成電路的布局分析方法，包括：

獲取所述集成電路的布局中的至少一個(gè)目標(biāo)數(shù)據(jù)路徑，其中，所述目標(biāo)數(shù)據(jù)路徑為數(shù)據(jù)信號(hào)在所述集成電路中傳播時(shí)依次經(jīng)過(guò)的多個(gè)器件所形成的路徑，所述多個(gè)器件包括第一器件、目標(biāo)器件和第二器件，所述數(shù)據(jù)信號(hào)依次經(jīng)過(guò)所述第一器件、所述目標(biāo)器件和所述第二器件；

針對(duì)所述至少一個(gè)目標(biāo)數(shù)據(jù)路徑中每個(gè)目標(biāo)數(shù)據(jù)路徑，確定所述目標(biāo)器件與所述第一器件之間的第一距離以及所述目標(biāo)器件與所述第二器件之間的第二距離，并且確定所述第二器件與所述第一器件之間的第三距離；

基于所述第一距離、所述第二距離和所述第三距離，確定所述目標(biāo)器件在所述目標(biāo)數(shù)據(jù)路徑中的迂回特征值；以及

基于每個(gè)所述目標(biāo)器件的所述迂回特征值，生成所述集成電路的布局分析結(jié)果。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，基于所述第一距離、所述第二距離和所述第三距離，確定所述目標(biāo)器件在所述目標(biāo)數(shù)據(jù)路徑中的所述迂回特征值，包括：

計(jì)算所述第一距離與所述第二距離之和與所述第三距離的差值；以及

計(jì)算所述差值與所述第三距離的比值，并且將所述比值作為所述迂回特征值。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，基于每個(gè)所述目標(biāo)器件的所述迂回特征值，生成所述集成電路的布局分析結(jié)果，包括：

根據(jù)所述集成電路的布局建立二維坐標(biāo)圖，并且至少確定每個(gè)所述目標(biāo)器件在所述二維坐標(biāo)圖中的目標(biāo)位置；

根據(jù)每個(gè)所述目標(biāo)器件在所述目標(biāo)數(shù)據(jù)路徑中的所述迂回特征值，確定每個(gè)所述目標(biāo)器件對(duì)應(yīng)的顯示圖像元素；以及

在每個(gè)所述目標(biāo)器件位于所述二維坐標(biāo)圖中的所述目標(biāo)位置，顯示每個(gè)所述目標(biāo)器件對(duì)應(yīng)的所述顯示圖像元素。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其中，所述顯示圖像元素為單一顏色或圖案。

5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的方法，其中，所述迂回特征值的數(shù)值與所述迂回特征值對(duì)應(yīng)的顯示圖像元素的顏色的色度負(fù)相關(guān)。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其中，根據(jù)每個(gè)所述目標(biāo)器件在所述目標(biāo)數(shù)據(jù)路徑中的所述迂回特征值，確定每個(gè)所述目標(biāo)器件對(duì)應(yīng)的顯示圖像元素，包括：

確定每個(gè)所述目標(biāo)器件在所述目標(biāo)數(shù)據(jù)路徑中的所述迂回特征值所屬的迂回特征值區(qū)間；以及

將所述迂回特征值區(qū)間對(duì)應(yīng)的顯示圖像元素作為所述目標(biāo)器件對(duì)應(yīng)的顯示圖像元素。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中，所述迂回特征值區(qū)間的平均數(shù)值與所述迂回特征值區(qū)間對(duì)應(yīng)的顯示圖像元素的顏色的色度負(fù)相關(guān)。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，還包括：

獲取所述至少一個(gè)目標(biāo)數(shù)據(jù)路徑的時(shí)序緊張程度表征參數(shù)；以及

根據(jù)所述時(shí)序緊張程度表征參數(shù)確定所述迂回特征值區(qū)間的寬度，

其中，所述時(shí)序緊張程度表征參數(shù)的數(shù)值與所述迂回特征值區(qū)間的寬度負(fù)相關(guān)。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，獲取所述集成電路的布局中的至少一個(gè)目標(biāo)數(shù)據(jù)路徑包括：

從所述集成電路的時(shí)序報(bào)告中獲取所述集成電路的布局中的至少一個(gè)時(shí)序違例路徑，并將所述至少一個(gè)時(shí)序違例路徑作為所述至少一個(gè)目標(biāo)數(shù)據(jù)路徑。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述至少一個(gè)目標(biāo)數(shù)據(jù)路徑包括多個(gè)目標(biāo)數(shù)據(jù)路徑，并且所述多個(gè)目標(biāo)數(shù)據(jù)路徑中至少兩個(gè)目標(biāo)數(shù)據(jù)路徑中的目標(biāo)器件為同一個(gè)目標(biāo)器件，

基于每個(gè)所述目標(biāo)器件的所述迂回特征值，生成所述集成電路的所述布局分析結(jié)果，包括：

針對(duì)每個(gè)所述目標(biāo)器件，將所述目標(biāo)器件分別在所述至少兩個(gè)目標(biāo)數(shù)據(jù)路徑中的迂回特征值進(jìn)行比較，并確定所述目標(biāo)器件對(duì)應(yīng)的最大的迂回特征值，以及根據(jù)所述最大的迂回特征值，生成所述集成電路的所述布局分析結(jié)果；或者

針對(duì)每個(gè)所述目標(biāo)器件，計(jì)算所述目標(biāo)器件分別在所述至少兩個(gè)目標(biāo)數(shù)據(jù)路徑中的迂回特征值的平均值，以及根據(jù)所述平均值，生成所述集成電路的所述布局分析結(jié)果。