[發(fā)明專利]位移裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110558842.9
• 申請日: 2021-05-21
• 公開（公告）號: CN113098330B
• 公開（公告）日: 2022-06-07
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 龔?fù)?/a>;胡兵;蔣赟
• 申請（專利權(quán)）人: 上海隱冠半導(dǎo)體技術(shù)有限公司
• 主分類號: H02N15/00
• 分類號: H02N15/00
• 代理公司: 上海上谷知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31342
• 代理人: 蔡繼清

本發(fā)明公開了一種位移裝置，包括支撐體，位移體；兩個導(dǎo)向組件，設(shè)置于支撐體與位移體間并位于位移體的相對兩側(cè)；每個導(dǎo)向組件均包括能沿X軸方向相對位移地設(shè)置的多個部分；每個導(dǎo)向組件的各個部分分別與位移體和支撐體固定連接；每個導(dǎo)向組件包括沿X軸方向延伸的多個磁體分布結(jié)構(gòu)，其包括分別設(shè)于兩個導(dǎo)向組件的各個部分的第一磁體分布結(jié)構(gòu)至第四磁體分布結(jié)構(gòu)，多個磁體分布結(jié)構(gòu)中兩兩之間相對設(shè)置，相互間產(chǎn)生磁浮力以形成磁浮間隙；驅(qū)動組件，包括分別固定設(shè)于支撐體和位移體并沿X軸方向延伸的定子磁性單元和動子磁性單元，其用于相互磁性作用，以提供對位移體的位移的驅(qū)動力，本位移裝置能承受較大的負載，并提高了工況環(huán)境的潔凈度。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及自動化裝備領(lǐng)域，具體涉及一種位移裝置。

背景技術(shù)

在自動化裝備制造領(lǐng)域，大行程運動傳送技術(shù)是自動化裝備制造系統(tǒng)的核心技術(shù)，一直受到行業(yè)內(nèi)的高度重視。大行程運動傳送系統(tǒng)，是諸如濺射裝備等工藝制程設(shè)備所必需的關(guān)鍵核心裝置。傳統(tǒng)的濺射裝備，運動傳送裝置采用的是滾輪傳動和機械導(dǎo)向的技術(shù)方式，其裝置本身的重量會影響其負載的能力，尤其是驅(qū)動電機既要提供運動方向上的驅(qū)動力，又要提供支撐方向上的承載力，大大降低了驅(qū)動電機的利用效率，而且無論滾輪傳動還是機械導(dǎo)向，均存在著接觸摩擦情況，容易產(chǎn)生摩擦顆粒，由于設(shè)備內(nèi)部多處于低真空環(huán)境甚至是高真空環(huán)境下，顆粒所帶來的污染問題，不僅影響真空工況下的潔凈度，而且容易干擾工藝的正常進行，破壞成品加工的質(zhì)量和良品率；較新的運動傳送裝置采用滾輪傳動和永磁導(dǎo)向的技術(shù)方式，雖然一定程度上解決了機械導(dǎo)向的摩擦顆粒問題，但驅(qū)動電機的利用效率依然較低，滾輪傳動仍然存在著接觸摩擦情況，由此造成的顆粒污染依然存在，影響著工藝的質(zhì)量和良品率的提升。

發(fā)明內(nèi)容

本申請的目的是提供一種位移裝置，本申請的位移裝置能承受較大的負載，提高了驅(qū)動電機的利用效率，并提高了工況環(huán)境的潔凈度。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種位移裝置，包括支撐體；位移體；第一導(dǎo)向組件及第二導(dǎo)向組件，設(shè)置于所述支撐體與所述位移體之間并分別位于所述位移體的相對兩側(cè)；所述第一導(dǎo)向組件包括第一部分和第二部分，所述第一部分和所述第二部分可沿X軸方向相對位移，所述第二導(dǎo)向組件包括第三部分和第四部分，所述第三部分和所述第四部分可沿X軸方向相對位移；所述第一導(dǎo)向組件的所述第一部分及所述第二導(dǎo)向組件的所述第三部分分別與所述位移體固定連接，所述第一導(dǎo)向組件的所述第二部分及所述第二導(dǎo)向組件的所述第四部分分別與所述支撐體固定連接；

所述第一導(dǎo)向組件，包括設(shè)于所述第一部分并沿X軸方向延伸的第一磁體分布結(jié)構(gòu)，及設(shè)于所述第二部分并沿X軸方向延伸的第二磁體分布結(jié)構(gòu)；所述第一磁體分布結(jié)構(gòu)與所述第二磁體分布結(jié)構(gòu)之間相對間隔設(shè)置，相互間產(chǎn)生沿Z軸方向排斥的磁浮力以形成第一磁浮間隙；

所述第二導(dǎo)向組件，包括設(shè)于所述第三部分并沿X軸方向延伸的第三磁體分布結(jié)構(gòu)，及設(shè)于所述第四部分并沿X軸方向延伸的第四磁體分布結(jié)構(gòu)；所述第三磁體分布結(jié)構(gòu)與所述第四磁體分布結(jié)構(gòu)之間相對間隔設(shè)置，相互間產(chǎn)生沿Z軸方向排斥的磁浮力以形成第二磁浮間隙，其中所述Z軸方向為所述位移體的重力方向；

至少一驅(qū)動組件，包括分別固定設(shè)于所述支撐體和所述位移體并沿X軸方向延伸的定子磁性單元和動子磁性單元；其中，所述定子磁性單元和動子磁性單元用于相互磁性作用，以提供對所述位移體的位移的驅(qū)動力。

本申請中的支撐體和位移體之間存在磁浮間隙，支撐體和位移體之間沒有直接的機械連接，因此不會摩擦產(chǎn)生粉塵顆粒，提升工藝的質(zhì)量和良品率，并且本裝置通過設(shè)置的磁體分布架構(gòu)，承受了主要的負載重量，減少了相應(yīng)驅(qū)動組件的靜負載，從而提高了驅(qū)動電機的利用效率。

在一些實施例中，所述第二磁體分布結(jié)構(gòu)和第一磁體分布結(jié)構(gòu)相互作用，向所述位移體提供在Y軸方向上大小相同且方向相反的至少一對磁浮力或磁浮力分量，所述第四磁體分布結(jié)構(gòu)向第三磁體分布結(jié)構(gòu)相互作用，向所述位移體提供在Y軸方向上大小相同且方向相反的至少一對磁浮力或磁浮力分量。