[發明專利]遮罩

有效

• 申請號: 202110557138.1
• 申請日: 2021-05-21
• 公開（公告）號: CN113403573B
• 公開（公告）日: 2023-06-23
• 發明（設計）人: 傅學文
• 申請（專利權）人: 達運精密工業股份有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24;H10K71/16
• 代理公司: 北京市立康律師事務所 11805
• 代理人: 梁揮;孟超

一種遮罩，包括第一表面以及與第一表面相對的第二表面，且遮罩具有全蝕區、半蝕區以及周邊區，半蝕區連接全蝕區與周邊區，遮罩于全蝕區具有多個貫孔，各貫孔連通第一表面及第二表面，半蝕區具有多個第一半蝕槽，各第一半蝕槽自第一表面凹入。在第一半蝕槽中，最靠近全蝕區的第一半蝕槽的深度大于最靠近周邊區的第一半蝕槽的深度。遮罩可避免拉伸應力于全蝕區產生應力不均的問題，從而降低遮罩在張開拉平時的皺褶起伏程度，達到改善遮罩皺褶的優點。

技術領域

本發明關于蒸鍍技術領域，尤其指一種遮罩。

背景技術

有機發光二極管(Organic?Light?Emitting?Diode，OLED)是屬于電激發光元件(Electroluminescence，EL)領域，其具有廣視角、自發光、高亮度、高對比、操作溫度廣泛及反應速度快等優點，其制作方法一般是采用蒸鍍制程，將遮罩置于蒸鍍源與基板間，可將圖案實現至基板上；金屬遮罩(Fine?metal?mask，FMM)具有多個蒸鍍開口，通常透過蝕刻或電鑄而得，有機材料可以于蒸鍍制程中通過開口進而附著于基板上，利用機臺機構施加張力與基板上方設置磁鐵，可將遮罩位移且固定至預期位置。

然而，遮罩易受重力而下垂，造成像素圖型變形，同時遮罩與基板的間隙，易使有機材料外溢，導致混色與陰影效應(shadow?effect)。施加張力過程中，會將遮罩往長方向兩側拉伸，此時遮罩容易受到設計圖形分布不同，造成應力分布不均使遮罩產生皺折，因此目前急需一種應力均勻且不易皺折的遮罩。

發明內容

本發明提供一種遮罩，其具有應力均勻及不易皺折的優點。

本發明所提供的遮罩，包括第一表面以及與第一表面相對的第二表面，且遮罩具有全蝕區、半蝕區以及周邊區，半蝕區連接全蝕區與周邊區，遮罩于全蝕區具有多個貫孔，各貫孔連通第一表面及第二表面，半蝕區具有多個第一半蝕槽，各第一半蝕槽自第一表面凹入。在第一半蝕槽中，最靠近全蝕區的第一半蝕槽的深度大于最靠近周邊區的第一半蝕槽的深度。

在本發明的一實施例中，上述的遮罩中，兩相鄰的第一半蝕槽之間具有第一分隔壁。

在本發明的一實施例中，上述的第一半蝕槽中，較靠近全蝕區的第一半蝕槽于第一表面的開口面積大于較靠近周圍區的第一半蝕槽于第一表面的開口面積。

在本發明的一實施例中，上述的第一半蝕槽中，較靠近全蝕區的第一半蝕槽的深度大于較靠近周邊區的第一半蝕槽的深度。

在本發明的一實施例中，上述的第一表面于周邊區之第一基準點與最靠近全蝕區的第一半蝕槽的底面上的第二基準點的連線的斜率的絕對值小于1

在本發明的一實施例中，上述的半蝕區于第一表面的第一開口率為0.1至0.9。

在本發明的一實施例中，上述的半蝕區具有多個第二半蝕槽，第二半蝕槽與第一半蝕槽相間隔，各第二半蝕槽自第二表面凹入，且在第二半蝕槽中，最靠近全蝕區的第二半蝕槽的深度大于最靠近周圍區的第二半蝕槽的深度。

在本發明的一實施例中，上述的遮罩中，兩相鄰的第二半蝕槽之間具有第二分隔壁。

在本發明的一實施例中，上述的第二半蝕槽中，較靠近全蝕區的第二半蝕槽于第二表面的開口面積大于較靠近周圍區的第二半蝕槽于第二表面的開口面積。

在本發明的一實施例中，上述的第二半蝕槽中，較靠近全蝕區的第二半蝕槽的深度大于較靠近周邊區的第二半蝕槽的深度。

在本發明的一實施例中，上述的第二表面于周邊區之第三基準點與最靠近全蝕區的第二半蝕槽的底面上之第四基準點之連線的斜率的絕對值小于1

在本發明的一實施例中，上述的半蝕區于第二表面的第二開口率為0.1至0.9。