[發明專利]遮罩有效
| 申請號: | 202110557138.1 | 申請日: | 2021-05-21 |
| 公開(公告)號: | CN113403573B | 公開(公告)日: | 2023-06-23 |
| 發明(設計)人: | 傅學文 | 申請(專利權)人: | 達運精密工業股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/04 | 分類號: | C23C14/04;C23C14/24;H10K71/16 |
| 代理公司: | 北京市立康律師事務所 11805 | 代理人: | 梁揮;孟超 |
| 地址: | 中國臺灣新竹*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 遮罩 | ||
1.一種遮罩,其特征在于,包括一第一表面以及與該第一表面相對的一第二表面,且該遮罩具有一全蝕區、一半蝕區以及一周邊區,該半蝕區連接該全蝕區與該周邊區,該遮罩于該全蝕區具有多個貫孔,各貫孔連通該第一表面及該第二表面,該半蝕區具有多個第一半蝕槽,各第一半蝕槽自該第一表面凹入;
其中,在所述第一半蝕槽中,最靠近該全蝕區的第一半蝕槽的深度大于最靠近該周邊區的第一半蝕槽的深度;該半蝕區圍繞相應的該全蝕區,該周邊區圍繞相應的該半蝕區。
2.根據權利要求1所述的遮罩,其特征在于,兩相鄰的第一半蝕槽之間具有一第一分隔壁。
3.根據權利要求1所述的遮罩,其特征在于,在所述第一半蝕槽中,較靠近該全蝕區的該第一半蝕槽于該第一表面的開口面積大于較靠近該周邊區的該第一半蝕槽于該第一表面的開口面積。
4.根據權利要求1所述的遮罩,其特征在于,較靠近該全蝕區的第一半蝕槽的深度大于較靠近該周邊區的第一半蝕槽的深度。
5.根據權利要求1所述的遮罩,其特征在于,該第一表面于該周邊區的一第一基準點與最靠近全蝕區的該第一半蝕槽的底面上的一第二基準點的連線的一斜率的絕對值小于1。
6.根據權利要求1所述的遮罩,其特征在于,該半蝕區于該第一表面的一第一開口率為0.1至0.9。
7.根據權利要求1所述的遮罩,其特征在于,該半蝕區具有多個第二半蝕槽,所述第二半蝕槽與所述第一半蝕槽相間隔,各第二半蝕槽自該第二表面凹入,且在所述第二半蝕槽中,最靠近該全蝕區的第二半蝕槽的深度大于最靠近該周邊區的第二半蝕槽的深度。
8.根據權利要求7所述的遮罩,其特征在于,兩相鄰的第二半蝕槽之間具有一第二分隔壁。
9.根據權利要求8所述的遮罩,其特征在于,在所述第二半蝕槽中,較靠近該全蝕區的該第二半蝕槽于該第二表面的開口面積大于較靠近該周邊區的該第二半蝕槽于該第二表面的開口面積。
10.根據權利要求8所述的遮罩,其特征在于,較靠近該全蝕區的第二半蝕槽的深度大于較靠近該周邊區的第二半蝕槽的深度。
11.根據權利要求8所述的遮罩,其特征在于,該第二表面于該周邊區的一第三基準點與最靠近全蝕區的該第二半蝕槽的底面上的一第四基準點的連線的一斜率的絕對值小于1。
12.根據權利要求8所述的遮罩,其特征在于,該半蝕區于該第二表面的一第二開口率為0.1至0.9。
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