[發明專利]一種導電膜氣離式刻蝕工藝

有效

• 申請號: 202110556165.7
• 申請日: 2021-05-21
• 公開（公告）號: CN113488385B
• 公開（公告）日: 2022-10-28
• 發明（設計）人: 高中彥
• 申請（專利權）人: 劉軍
• 主分類號: H01L21/3213
• 分類號: H01L21/3213;C09K13/06
• 代理公司: 江門市博盈知識產權代理事務所(普通合伙) 44577
• 代理人: 何辦君

1.一種導電膜氣離式刻蝕工藝，其特征在于：包括以下步驟：

S1、提前根據導電膜材質配制好蝕刻油墨，并依次經過分散、研磨、過濾后備用；

S2、將蝕刻油墨涂布至導電膜上，然后取多個氣離微球埋入蝕刻油墨中；

S3、在導電膜背面間歇性施加磁場，迫使氣離微球間歇性的對蝕刻油墨進行擠壓，使得蝕刻油墨與導電膜充分接觸進行蝕刻；

S4、蝕刻結束后撤銷磁場，然后進行加熱烘干，同時觸發氣離微球釋放氣體的動作，使得氣體填充至縫隙中有助于蝕刻油墨的剝離；

S5、待蝕刻油墨成膜后，將磁場轉移至導電膜上方，從而加速膜的剝離，導電膜上的導電線路即制作完成。

2.根據權利要求1所述的一種導電膜氣離式刻蝕工藝，其特征在于：所述步驟S1中導電膜的材質為氧化銦錫透明導電膜。

3.根據權利要求1所述的一種導電膜氣離式刻蝕工藝，其特征在于：所述步驟S1中蝕刻油墨按以下成分及重量百分比進行配制：20％的有機與無機混合酸液、10％的聚醋酸乙烯酯、20％的聚乙烯醇樹脂、13％的無機填料、30％的水以及7％的其他助劑或顏料。

4.根據權利要求1所述的一種導電膜氣離式刻蝕工藝，其特征在于：所述步驟S2中蝕刻油墨采用絲網印刷的方式進行涂布，涂布厚度為150-500μm。

5.根據權利要求1所述的一種導電膜氣離式刻蝕工藝，其特征在于：所述氣離微球包括空心壓墨球(1)、多根配重須(2)以及多個隔離磁包(3)，所述配重須(2)均勻連接于空心壓墨球(1)下端面上，所述隔離磁包(3)均勻鑲嵌于空心壓墨球(1)下端面內。

6.根據權利要求5所述的一種導電膜氣離式刻蝕工藝，其特征在于：所述配重須(2)采用彈性材料制成，且多個配重須(2)遠離空心壓墨球(1)的一端面保持齊平。

7.根據權利要求5所述的一種導電膜氣離式刻蝕工藝，其特征在于：所述空心壓墨球(1)采用輕質導熱材料制成空心結構，所述空心壓墨球(1)內填充有粉末狀的碳酸氫鈉。

8.根據權利要求5所述的一種導電膜氣離式刻蝕工藝，其特征在于：所述隔離磁包(3)包括內陷膜(31)、熱熔塊(32)以及多個磁性顆粒(33)，所述內陷膜(31)鑲嵌于空心壓墨球(1)內端，所述熱熔塊(32)連接于內陷膜(31)外端，所述磁性顆粒(33)鑲嵌于熱熔塊(32)內。

9.根據權利要求8所述的一種導電膜氣離式刻蝕工藝，其特征在于：所述內陷膜(31)采用防水透氣材料制成，所述熱熔塊(32)采用熱熔性材料制成，且熱熔塊(32)的熔點低于步驟S4中的加熱溫度。

10.根據權利要求5所述的一種導電膜氣離式刻蝕工藝，其特征在于：所述空心壓墨球(1)上側設有蓋墨鱗片(4)，所述蓋墨鱗片(4)與空心壓墨球(1)之間連接有多根均勻分布的彈性拉絲(5)。