[發(fā)明專利]一種基于真空鍍膜的晶控旋轉(zhuǎn)集成控制系統(tǒng)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110554396.4
• 申請日: 2021-05-20
• 公開（公告）號: CN113355645A
• 公開（公告）日: 2021-09-07
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 蔡國;龔濤;謝俊
• 申請（專利權(quán)）人: 湖南宇誠精密科技有限公司
• 主分類號: C23C14/54
• 分類號: C23C14/54;C23C14/34
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• 代理人: 暫無信息

本申請公開的基于真空鍍膜的晶控旋轉(zhuǎn)集成控制系統(tǒng)，與現(xiàn)有技術(shù)相比，包括：用以監(jiān)控鍍膜工藝設(shè)備并且收發(fā)控制信號的上位機；與上位機連接的PLC主控模塊；與PLC主控模塊連接的控制管理模塊；連接控制管理模塊的第一控制模塊以及第二控制模塊；與第一控制模塊連接的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動執(zhí)行模塊、轉(zhuǎn)架安裝執(zhí)行模塊以及水冷循環(huán)執(zhí)行模塊；與第二控制模塊連接的溫度調(diào)控檢測模塊、氣體調(diào)控檢測模塊以及膜厚調(diào)控檢測模塊；與第一控制模塊以及第二控制模塊通信連接的通訊會話系統(tǒng)；設(shè)于鍍膜工藝設(shè)備上，與通訊會話系統(tǒng)連接的鍍膜執(zhí)行終端以及鍍膜檢測終端。相較于現(xiàn)有技術(shù)而言，其能夠集成控制多功能傳動裝置以及執(zhí)行終端進行鍍膜作業(yè)，提高鍍膜控制精度。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請涉及真空鍍膜旋轉(zhuǎn)控制系統(tǒng)技術(shù)領(lǐng)域，更具體地說，尤其涉及一種基于真空鍍膜的晶控旋轉(zhuǎn)集成控制系統(tǒng)。

背景技術(shù)

近年來，真空技術(shù)在高技術(shù)產(chǎn)業(yè)化發(fā)展中展現(xiàn)出誘人的市場前景。真空鍍膜機是現(xiàn)如今非常常見的鍍膜工藝設(shè)備，在半導(dǎo)體器件、金屬以及其他功能性材料的薄膜制備當(dāng)中得到了廣泛的應(yīng)用。真空鍍膜機一般包括鍍膜室、工件轉(zhuǎn)架以及傳動裝置。鍍膜機在鍍膜過程中需要將工件安裝在工件轉(zhuǎn)架上，并將之放置于鍍膜室中，傳動裝置帶動工件轉(zhuǎn)架轉(zhuǎn)動，這樣工件通過靶前區(qū)時能從多角度接受靶發(fā)射的等離子體并沉積成膜，從而完成鍍膜工作。

目前，對于鍍膜工件轉(zhuǎn)架的旋轉(zhuǎn)以及鍍膜作業(yè)，鍍膜機一般都配置傳動裝置、執(zhí)行終端以及相應(yīng)的控制系統(tǒng)來進行正常的旋轉(zhuǎn)鍍膜工作。隨著技術(shù)進步，傳動裝置以及執(zhí)行終端在不斷更新?lián)Q代，傳動裝置由只具備單一旋轉(zhuǎn)驅(qū)動功能的電動機擴充發(fā)展到了集旋轉(zhuǎn)驅(qū)動、膜厚監(jiān)測、溫度冷卻以及轉(zhuǎn)架匹配安裝功能于一體的整體傳動裝置，執(zhí)行終端的功能也在不斷復(fù)雜化，功能結(jié)構(gòu)的增加必然需要配置相應(yīng)的控制系統(tǒng)對相應(yīng)功能結(jié)構(gòu)進行控制。但是，現(xiàn)有技術(shù)中的控制系統(tǒng)，一般都采用單一功能單一控制的原則，也就是說對于多功能傳動裝置以及執(zhí)行終端大都配置多套功能控制系統(tǒng)，多套功能控制系統(tǒng)需要單獨作業(yè)，與其他系統(tǒng)相配合來完成鍍膜工作，缺乏一套集成控制系統(tǒng)，實現(xiàn)整體控制鍍膜作業(yè)。

因此，如何提供一種基于真空鍍膜的晶控旋轉(zhuǎn)集成控制系統(tǒng)，其能夠集成控制多功能傳動裝置以及執(zhí)行終端進行鍍膜作業(yè)，提高鍍膜控制精度，已經(jīng)成為本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的技術(shù)問題。

發(fā)明內(nèi)容

為解決上述技術(shù)問題，本申請?zhí)峁┮环N基于真空鍍膜的晶控旋轉(zhuǎn)集成控制系統(tǒng)，其能夠集成控制多功能傳動裝置以及執(zhí)行終端進行鍍膜作業(yè)，提高鍍膜控制精度。

本申請?zhí)峁┑募夹g(shù)方案如下：

本申請?zhí)峁┮环N基于真空鍍膜的晶控旋轉(zhuǎn)集成控制系統(tǒng)，包括：用以監(jiān)控鍍膜工藝設(shè)備并且收發(fā)控制信號的上位機；與所述上位機連接的主控系統(tǒng)；所述主控系統(tǒng)包括：與所述上位機連接的PLC主控模塊；與所述PLC主控模塊連接的控制管理模塊；所述控制管理模塊用以對鍍膜工藝設(shè)備的鍍膜功能、檢測功能以及溫控功能進行集成控制管理；與所述控制管理模塊連接的分級控制系統(tǒng)；所述分級控制系統(tǒng)包括：第一控制模塊以及與所述第一控制模塊并聯(lián)設(shè)置的第二控制模塊；與所述第一控制模塊連接的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動執(zhí)行模塊、轉(zhuǎn)架安裝執(zhí)行模塊以及水冷循環(huán)執(zhí)行模塊；與所述第二控制模塊連接的溫度調(diào)控檢測模塊、氣體調(diào)控檢測模塊以及膜厚調(diào)控檢測模塊；與所述分級控制系統(tǒng)連接的通訊會話系統(tǒng)；設(shè)于鍍膜工藝設(shè)備上，與所述通訊會話系統(tǒng)連接的鍍膜執(zhí)行終端以及鍍膜檢測終端。

進一步地，在本發(fā)明一種優(yōu)選方式中，所述控制管理模塊包括：與所述第一控制模塊連接的鍍膜執(zhí)行管理單元；與所述第二控制模塊連接的檢測調(diào)控管理單元。

進一步地，在本發(fā)明一種優(yōu)選方式中，所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動執(zhí)行模塊包括：與所述通訊會話系統(tǒng)連接的驅(qū)動啟閉控制單元以及轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)控制單元。

進一步地，在本發(fā)明一種優(yōu)選方式中，所述水冷循環(huán)執(zhí)行模塊包括：與所述通訊會話系統(tǒng)連接的，用以控制水循環(huán)設(shè)備啟閉的水源輸入控制單元；與所述水源輸入控制單元并聯(lián)設(shè)置的水源流速調(diào)節(jié)單元以及管路閥門控制單元。