[發明專利]一種基于真空鍍膜的晶控旋轉集成控制系統

在審

• 申請號: 202110554396.4
• 申請日: 2021-05-20
• 公開（公告）號: CN113355645A
• 公開（公告）日: 2021-09-07
• 發明（設計）人: 蔡國;龔濤;謝俊
• 申請（專利權）人: 湖南宇誠精密科技有限公司
• 主分類號: C23C14/54
• 分類號: C23C14/54;C23C14/34
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種基于真空鍍膜的晶控旋轉集成控制系統，其特征在于，包括：

用以監控鍍膜工藝設備并且收發控制信號的上位機；

與所述上位機連接的主控系統；

所述主控系統包括：與所述上位機連接的PLC主控模塊；與所述PLC主控模塊連接的控制管理模塊；所述控制管理模塊用以對鍍膜工藝設備的鍍膜功能、檢測功能以及溫控功能進行集成控制管理；

與所述控制管理模塊連接的分級控制系統；

所述分級控制系統包括：第一控制模塊以及與所述第一控制模塊并聯設置的第二控制模塊；與所述第一控制模塊連接的旋轉驅動執行模塊、轉架安裝執行模塊以及水冷循環執行模塊；與所述第二控制模塊連接的溫度調控檢測模塊、氣體調控檢測模塊以及膜厚調控檢測模塊；

與所述分級控制系統連接的通訊會話系統；

設于鍍膜工藝設備上，與所述通訊會話系統連接的鍍膜執行終端以及鍍膜檢測終端。

2.根據權利要求1所述的基于真空鍍膜的晶控旋轉集成控制系統，其特征在于，所述控制管理模塊包括：與所述第一控制模塊連接的鍍膜執行管理單元；與所述第二控制模塊連接的檢測調控管理單元。

3.根據權利要求1所述的基于真空鍍膜的晶控旋轉集成控制系統，其特征在于，所述旋轉驅動執行模塊包括：與所述通訊會話系統連接的驅動啟閉控制單元以及轉速調節控制單元。

4.根據權利要求3所述的基于真空鍍膜的晶控旋轉集成控制系統，其特征在于，所述水冷循環執行模塊包括：與所述通訊會話系統連接的，用以控制水循環設備啟閉的水源輸入控制單元；與所述水源輸入控制單元并聯設置的水源流速調節單元以及管路閥門控制單元。

5.根據權利要求4所述的基于真空鍍膜的晶控旋轉集成控制系統，其特征在于，所述氣體調控檢測模塊包括：與所述通訊會話系統連接的氣壓檢測單元以及流量檢測單元；所述氣壓檢測單元用以監測鍍膜室內的氣體壓力值；所述流量檢測單元用以監測鍍膜室真空排氣時的氣體流量值。

6.根據權利要求1所述的基于真空鍍膜的晶控旋轉集成控制系統，其特征在于，所述通訊會話層包括RS485通訊總線，所述RS485通訊總線與多個鍍膜工藝設備信號連接。

7.根據權利要求1所述的基于真空鍍膜的晶控旋轉集成控制系統，其特征在于，所述分級控制系統還包括：與所述第一控制模塊連接的鍍膜濺射執行模塊以及真空排氣執行模塊。

8.根據權利要求1所述的基于真空鍍膜的晶控旋轉集成控制系統，其特征在于，所述鍍膜執行終端包括：離子源以及與所述離子源連接的濺射電源控制器；用以提供旋轉動力的伺服電機以及與所述伺服電機連接的減速箱；用以實現水冷循環的輸送水泵以及流量電磁閥；真空排氣泵以及與所述真空排氣泵連接，用以控制鍍膜傳動裝置與工件轉架匹配安裝的伸縮氣缸。

9.根據權利要求8所述的基于真空鍍膜的晶控旋轉集成控制系統，其特征在于，所述鍍膜檢測終端包括：溫度傳感器、氣壓傳感器、氣體體積流量計、膜厚監測探頭以及膜厚監測儀。

10.根據權利要求1所述的基于真空鍍膜的晶控旋轉集成控制系統，其特征在于，所述上位機包括：計算機以及與所述計算機連接的按鍵操作平臺；以及用于實時顯示系統數據的顯示屏。