[發(fā)明專利]半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制造方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110545063.5 | 申請日: | 2021-05-19 |
| 公開(公告)號: | CN113380752A | 公開(公告)日: | 2021-09-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 呂文隆 | 申請(專利權(quán))人: | 日月光半導(dǎo)體制造股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L23/498 | 分類號: | H01L23/498;H01L21/48 |
| 代理公司: | 北京植德律師事務(wù)所 11780 | 代理人: | 唐華東 |
| 地址: | 中國臺灣高雄*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體 結(jié)構(gòu) 及其 制造 方法 | ||
本公開涉及半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制造方法。通過將預(yù)先形成的用于定義導(dǎo)通孔開孔(via opening)的模具(例如細柱fine/thin post)和第一重布線層(Fan?Out)結(jié)合至基板上的粘合層上,并通過移除用于定義導(dǎo)通孔開孔的模具,以于第一重布線層定義出第一導(dǎo)通孔開孔,再通過等離子刻蝕移除部分粘合層露出基板的襯墊,以定義出第二導(dǎo)通孔開孔,最后于第一導(dǎo)通孔開孔和第二導(dǎo)通孔開孔中填充導(dǎo)電材料以形成電性連接第一重布線層和基板的導(dǎo)通孔(via),提高了半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性,有利于提高產(chǎn)品良率。
技術(shù)領(lǐng)域
本公開涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制造方法。
背景技術(shù)
半導(dǎo)體晶圓制程能力年年提升,半導(dǎo)體基板的制程能力亦要跟上腳步才能符合芯片與基板的對接。FOCoS(Fan Out Chip on Substrate)是現(xiàn)在結(jié)合Fan-Out與Substrate的主要方法,F(xiàn)OSub(Fan-Out Substrate)是另外一個結(jié)合Fan-Out與Substrate的另一種方法,通過粘合層(Adhesion film)去結(jié)合Fan-out(RDL layer)與Substrate,再通過導(dǎo)通孔(via)去聯(lián)通Fan-Out與Substrate之間的電性通道。
現(xiàn)今FOSub制程中,在Fan out結(jié)構(gòu)通過adhesive film固定于Substrate后,再開孔以形成via,但又受限于現(xiàn)今激光(laser)制程能力的極限(最小孔徑和最大孔深),無法制備出小孔徑以及一次性滿足孔深。若選擇等離子(plasma)蝕刻,會出現(xiàn)側(cè)蝕現(xiàn)象,造成孔壁異常的情形。而導(dǎo)通孔制作的質(zhì)量,會影響重布線層與基板之間的電連接性能,影響半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性。
發(fā)明內(nèi)容
本公開提供了半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制造方法。
第一方面,本公開提供了一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),該半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)包括:基板,具有襯墊;粘合層,設(shè)于基板上;第一重布線層,設(shè)于粘合層上;至少一個導(dǎo)通孔,導(dǎo)通孔包括自下而上設(shè)置的第二導(dǎo)通孔和第一導(dǎo)通孔,第一導(dǎo)通孔延伸于第一重布線層至粘合層中,第二導(dǎo)通孔延伸于粘合層至基板的襯墊。
在一些可選的實施方式中,各第一導(dǎo)通孔的下端面位于同一水平位置。
在一些可選的實施方式中,各第二導(dǎo)通孔的高度不同。
在一些可選的實施方式中,第一導(dǎo)通孔包括第一種子層、第二種子層以及導(dǎo)電柱。
在一些可選的實施方式中,第二導(dǎo)通孔包括第二種子層和導(dǎo)電柱。
在一些可選的實施方式中,第一導(dǎo)通孔的下開孔的孔徑大于第二導(dǎo)通孔的孔徑。
在一些可選的實施方式中,第二導(dǎo)通孔在朝向基板的方向上先逐漸膨脹再逐漸收縮。
在一些可選的實施方式中,該半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)還包括:第二粘合層,設(shè)于第一重布線層上;第二重布線層,設(shè)于第二粘合層上;第三導(dǎo)通孔,電連接第一重布線層和第二重布線層。
在一些可選的實施方式中,該半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)還包括:電子元件,電性連接第一重布線層和/或第二重布線層;底部填充材,以填充電子元件與第二重布線層之間的縫隙。
第二方面,本公開提供了一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的制造方法,該方法包括:提供載體,載體包括導(dǎo)通孔開孔模具、脫模層、第一種子層以及第一重布線層;通過粘合層將載體結(jié)合至基板上,基板具有襯墊;移除導(dǎo)通孔開孔模具和脫模層,以定義出延伸于第一重布線層至粘合層中的第一導(dǎo)通孔開孔;移除部分粘合層以露出襯墊,以定義出延伸于粘合層至基板的第二導(dǎo)通孔開孔;在第一導(dǎo)通孔開孔和第二導(dǎo)通孔開孔中依次形成第二種子層和導(dǎo)電柱,形成電性連接第一重布線層和基板的導(dǎo)通孔。
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