[發(fā)明專利]用于遞送釩化合物的方法和系統(tǒng)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110509409.6 | 申請(qǐng)日: | 2021-05-11 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113637956A | 公開(公告)日: | 2021-11-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | C.德澤拉;謝琦;P.雷薩寧;D.皮埃羅;B.瓊布羅德;W.科內(nèi)鵬;E.J.希羅 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | ASMIP私人控股有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C16/455 | 分類號(hào): | C23C16/455 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 焦玉恒 |
| 地址: | 荷蘭阿*** | 國(guó)省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 遞送 化合物 方法 系統(tǒng) | ||
一種方法,可以包括:將四氯化釩設(shè)置在遞送容器中;將四氯化釩遞送到與遞送容器流體連通的反應(yīng)室;減緩四氯化釩的分解產(chǎn)物向反應(yīng)室的遞送;和/或?qū)⑺穆然C施加到設(shè)置在反應(yīng)室中的襯底以在襯底上形成包括釩的層。
技術(shù)領(lǐng)域
本公開總體上涉及適用于氣相反應(yīng)器系統(tǒng)的方法和設(shè)備。更特別地,本公開涉及可以用于穩(wěn)定前驅(qū)體減緩氣相反應(yīng)器系統(tǒng)中的污染的方法、化合物和系統(tǒng)。
背景技術(shù)
前驅(qū)體是可以用于形成另一材料的化合物。例如,前驅(qū)體可以被用于氣相反應(yīng)中以形成材料的薄膜或?qū)印2恍业氖牵赡芫哂蟹掀谕男再|(zhì)(諸如在常壓常溫下符合期望的蒸汽壓)和/或期望的反應(yīng)性(例如,具有表面或另一化合物)的一些前驅(qū)體可能分解為其他化合物。特別地,一些前驅(qū)體可能分解以產(chǎn)生腐蝕性氣體,其可能在處理期間腐蝕反應(yīng)器系統(tǒng)的零件和/或?qū)е虏黄谕奈g刻。分解可能縮短前驅(qū)體的保質(zhì)期,使制造復(fù)雜化,要求附加的提純步驟,導(dǎo)致儲(chǔ)存和/或運(yùn)輸問題,并且可能限制期望的材料可用于反應(yīng)器系統(tǒng)內(nèi)的反應(yīng)的在源容器內(nèi)的量。另外,反應(yīng)器系統(tǒng)零件的腐蝕可能縮短反應(yīng)器系統(tǒng)和/或其零件的壽命并因此增加運(yùn)行這樣的裝備的成本。另外,腐蝕可能導(dǎo)致反應(yīng)器系統(tǒng)蝕刻產(chǎn)物合并在沉積的膜內(nèi)和/或?qū)е乱r底縮短膜的蝕刻,這進(jìn)而可能導(dǎo)致這樣的膜的質(zhì)量和/或均勻度上的降低。另外,由于前驅(qū)體分解速率通常隨著溫度增加,妨礙了通過加熱前驅(qū)體而增加到反應(yīng)室的前驅(qū)體通量的能力。
減少前驅(qū)體的分解的努力已經(jīng)導(dǎo)致了產(chǎn)生具有不合期望地高碳含量的膜的前驅(qū)體,可能要求不合期望地高溫度以獲得期望的通量速率,可能導(dǎo)致在期望原子層沉積(ALD)時(shí)的材料的化學(xué)氣相沉積(CVD),可能缺少生長(zhǎng)速率的期望的控制,和/或可能展現(xiàn)相對(duì)差的臺(tái)階覆蓋率。相應(yīng)地,期望用于為氣相反應(yīng)提供前驅(qū)體的改善的方法、設(shè)備和成分。
本章節(jié)所闡述的任何討論,包括對(duì)問題和解決方案的討論,均包含在本公開中,僅為本公開提供背景。此類討論不應(yīng)被視為承認(rèn)在本公開時(shí)任何或所有信息是已知的,或以其他方式構(gòu)成現(xiàn)有技術(shù)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明內(nèi)容以簡(jiǎn)化的形式介紹了一些概念,下文將對(duì)其進(jìn)行進(jìn)一步的詳細(xì)描述。本發(fā)明內(nèi)容的目的不一定指明的要求保護(hù)的主題的關(guān)鍵特征或必要特征,也不意圖限制要求保護(hù)的主題的范圍。
本公開的各種實(shí)施例涉及一種方法和系統(tǒng),其用于減緩用作沉積工藝(例如,原子層沉積)中的前驅(qū)體的釩化合物的分解和/或?qū)⑵浞€(wěn)定,和/或減緩釩化合物的分解產(chǎn)物向反應(yīng)室的遞送。
根據(jù)本公開的示例性實(shí)施例,方法可以包括將四氯化釩設(shè)置在遞送容器中;將四氯化釩遞送到與遞送容器流體連通的反應(yīng)室;減緩四氯化釩的分解產(chǎn)物向反應(yīng)室的遞送;和/或?qū)⑺穆然C施加到設(shè)置在反應(yīng)室中的襯底以在襯底上形成包括釩的層。
在各種實(shí)施例中,減緩可以包括三氯化釩和氯氣的四氯化釩的分解產(chǎn)物的遞送可以包括減緩四氯化釩在遞送容器內(nèi)的分解。在各種實(shí)施例中,減緩四氯化釩在遞送容器內(nèi)的分解可以包括在將四氯化釩遞送到反應(yīng)室之前向遞送容器供給過量氯氣。在各種實(shí)施例中,減緩四氯化釩在遞送容器內(nèi)的分解可以包括將四氯化釩和氯氣從遞送容器轉(zhuǎn)移到廢棄罐;和/或在將四氯化釩遞送到反應(yīng)室之前將新鮮四氯化釩遞送到遞送容器中。在各種實(shí)施例中,減緩四氯化釩在遞送容器內(nèi)的分解可以包括從遞送容器移除氯氣。在各種實(shí)施例中,從遞送容器移除氯氣還可以包括從遞送容器移除包括四氯化釩的成分中包括的溶解的氯氣。在各種實(shí)施例中,減緩四氯化釩在遞送容器內(nèi)的分解可以包括基于定時(shí)排放調(diào)度,通過遞送容器的排放閥將分解產(chǎn)物中的一種或多種周期性地排放出遞送容器。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
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