[發明專利]一種測量雷達散射截面參數暗室定標方法

有效

• 申請號: 202110508718.1
• 申請日: 2021-05-11
• 公開（公告）號: CN113281710B
• 公開（公告）日: 2023-04-11
• 發明（設計）人: 丁孝永;關宏凱;周述勇;賈冒華
• 申請（專利權）人: 北京無線電計量測試研究所
• 主分類號: G01S7/40
• 分類號: G01S7/40
• 代理公司: 中國航天科工集團公司專利中心 11024
• 代理人: 張國虹

本發明公開一種測量雷達散射截面參數暗室定標方法，該方法包括：獲取A1subgt;n/subgt;—Bsubgt;n/subgt;曲線。獲取增益記錄為Csubgt;n/subgt;，利用矢量網絡分析儀(13)記錄不同增益下的定標系統接收天線(10)與定標系統發射天線(7)的輸入/輸出功率比值，記錄為A2subgt;n/subgt;。Csubgt;n/subgt;和A2subgt;n/subgt;呈對應關系，即得到Csubgt;n/subgt;—A2subgt;n/subgt;曲線。選取Csubgt;n/subgt;—A2subgt;n/subgt;曲線中A2subgt;n/subgt;與A1n數值相同的多個點，并得到該點增益對應的雷達散射截面參數值，此時，Csubgt;n/subgt;與Bsubgt;n/subgt;也呈對應關系，即得到Csubgt;n/subgt;—Bsubgt;n/subgt;曲線。

技術領域

本發明涉及雷達參數校準技術領域，尤其涉及一種測量雷達散射截面參數暗室定標方法。

背景技術

雷達散射截面參數是測量雷達一項非常重要的技術指標，該參數的準確性直接影響雷達對被測目標雷達反射能力的判定。其參數測量準確性是評判被測目標雷達反射能力指標的重要依據。通常對有源雷達散射截面校準裝置的定標是采用測量定標裝置與測試裝置之間的距離，利用雷達方程公式進行計算實現的，該方式具有較大的測量和計算誤差，存在絕對定標值不準確的問題。

發明內容

本發明的目的在于提供一種測量雷達散射截面參數暗室定標方法，解決背景技術中，雷達散射截面校準裝置的定標準確性偏低的問題。

為了實現上述目的，本發明提供如下技術方案：

本發明公開了一種測量雷達散射截面參數暗室定標方法，該方法包括以下步驟：

S1，將不同雷達散射截面B_n的標準反射體依次放置在非金屬平臺架上，操作矢量網絡分析儀產生相對應頻段的信號，經過放大器進行放大，并通過定標系統發射天線輻射出去，定標系統接收天線接收標準反射體的反射信號；通過矢量網絡分析儀記錄定標系統接收天線與定標系統發射天線的輸入/輸出功率比值，記錄為A1_n，即得到A1_n—B_n曲線；

S2，將標準反射體取下，換成校準裝置，校準裝置接收天線接收定標系統發射天線輻射的信號后傳輸至校準裝置，校準裝置在控制計算機的控制下產生回波信號，并通過校準裝置發射天線將回波信號發射定標系統接收天線，通過調整校準裝置的增益，增益記錄為C_n，矢量網絡分析儀記錄不同增益下的定標系統接收天線與定標系統發射天線的輸入/輸出功率比值，記錄為A2_n；

C_n和A2_n呈對應關系，即得到C_n—A2_n曲線；

選取C_n—A2_n曲線中A2_n與A1n數值相同的多個點，并得到該點增益對應的雷達散射截面參數值，此時，C_n與B_n也呈對應關系，即得到C_n—B_n曲線。

與現有技術相比，本發明提供的有益技術效果：

本發明方法采用少數幾個典型雷達散射界面參數定標體的暗室內定標，得到定標值相對應的中間量—輸入/輸出比值，并通過選取相同輸入/輸出比值，將該典型雷達散射截面參數值與雷達散射截面校準裝置的增益值相對應。該方法解決了常規方法直接計算定標值誤差較大的問題，提高了校準裝置暗室定標得準確性，從而保證了雷達散射截面參數校準的準確性。

附圖說明

此處所說明的附圖用來提供對本發明的進一步理解，構成本發明的一部分，本發明的示意性實施例及其說明用于解釋本發明，并不構成對本發明的不當限定。在附圖中：