[發明專利]一種測量雷達散射截面參數暗室定標方法

有效

• 申請號: 202110508718.1
• 申請日: 2021-05-11
• 公開（公告）號: CN113281710B
• 公開（公告）日: 2023-04-11
• 發明（設計）人: 丁孝永;關宏凱;周述勇;賈冒華
• 申請（專利權）人: 北京無線電計量測試研究所
• 主分類號: G01S7/40
• 分類號: G01S7/40
• 代理公司: 中國航天科工集團公司專利中心 11024
• 代理人: 張國虹

1.一種測量雷達散射截面參數暗室定標方法，測量雷達散射截面參數暗室定標方法應用測量雷達散射截面參數暗室定標裝置，所述測量雷達散射截面參數暗室定標裝置包括暗室(1)，所述暗室(1)中設置有標準反射體(2)、校準系統和定標系統；所述校準系統包括與控制計算機(12)電性連接的校準裝置(5)，所述校準裝置(5)上設置有校準裝置接收天線(6)和校準裝置發射天線(9)；所述定標系統包括均與矢量網絡分析儀(13)電性連接的定標系統發射天線(7)和定標系統接收天線(10)，所述定標系統發射天線(7)與所述矢量網絡分析儀(13)之間的連接導線上設置有放大器(11)；其特征在于，該方法包括以下步驟：

S1，將不同雷達散射截面B_n的標準反射體(2)依次放置在非金屬平臺架上，操作矢量網絡分析儀(13)產生相對應頻段的信號，經過放大器(11)進行放大，并通過定標系統發射天線(7)輻射出去，定標系統接收天線(10)接收標準反射體(2)的反射信號；通過矢量網絡分析儀(13)記錄定標系統接收天線(10)與定標系統發射天線(7)的輸入/輸出功率比值，記錄為A1_n，即得到A1_n—B_n曲線；

S2，將標準反射體(2)取下，換成校準裝置(5)，校準裝置接收天線(6)接收定標系統發射天線(7)輻射的信號后傳輸至校準裝置(5)，校準裝置(5)在控制計算機(12)的控制下產生回波信號，并通過校準裝置發射天線(9)將回波信號發射至定標系統接收天線(10)，通過調整校準裝置(5)的增益，增益記錄為C_n，矢量網絡分析儀(13)記錄不同增益下的定標系統接收天線(10)與定標系統發射天線(7)的輸入/輸出功率比值，記錄為A2_n；

C_n和A2_n呈對應關系，即得到C_n—A2_n曲線；

選取C_n—A2_n曲線中A2_n與A1_n數值相同的多個點，并得到該點增益對應的雷達散射截面參數值，此時，C_n與B_n也呈對應關系，即得到C_n—B_n曲線。

2.根據權利要求1所述的測量雷達散射截面參數暗室定標方法，其特征在于，所述暗室(1)內鋪設有暗室吸波材料(3)。

3.根據權利要求1所述的測量雷達散射截面參數暗室定標方法，其特征在于，所述暗室(1)中設置有監控系統(4)。

4.根據權利要求1所述的測量雷達散射截面參數暗室定標方法，其特征在于，所述標準反射體(2)、校準裝置(5)、定標系統發射天線(7)和定標系統接收天線(10)分別放置在非金屬臺架上。

5.根據權利要求1所述的測量雷達散射截面參數暗室定標方法，其特征在于，所述定標系統發射天線(7)和定標系統接收天線(10)之間設置有間隔吸波材料(8)。