[發明專利]一種光調節二芳基二氫吩嗪修飾的方法

有效

• 申請號: 202110506918.3
• 申請日: 2021-05-10
• 公開（公告）號: CN113185469B
• 公開（公告）日: 2022-08-09
• 發明（設計）人: 沈磊;李玉光;掌亞軍;楊陽;高銘;陳茜
• 申請（專利權）人: 南京先進生物材料與過程裝備研究院有限公司
• 主分類號: C07D241/46
• 分類號: C07D241/46
• 代理公司: 南京中律知識產權代理事務所(普通合伙) 32341
• 代理人: 沈振濤

1.一種光調節二芳基二氫吩嗪修飾的方法，其特征在于，包括將二芳基二氫吩嗪(I)、苯乙烯類化合物(II)和鹵代烷基酸酯(III)溶于溶劑中，加入堿或者不加堿，然后在光照下反應，所述光照的光源波長為280～600nm，或者所述光照的光源為太陽光，其反應式如下：

其中：

R₁選自氫、C1-C5烷基、鹵素、硝基、胺基、苯基、氰基、C1-C5烷氧基或C1-C5鹵代烷基；

R₂選自C1-C5烷基、苯基、芐基或C1-C5鹵代烷基；

R₃選自氫、C1-C5烷基、鹵素、硝基、胺基、苯基、氰基、C1-C5烷氧基或C1-C5鹵代烷基；

R₄、R₅和R₆獨立的選自C1-C5烷基；R₇選自鹵素。

2.根據權利要求1所述的光調節二芳基二氫吩嗪修飾的方法，其特征在于，所述R₁選自氫、甲基、乙基、異丙基、叔丁基、氟、氯、硝基、胺基、苯基、氰基、甲氧基或三氟甲基。

3.根據權利要求1所述的光調節二芳基二氫吩嗪修飾的方法，其特征在于，所述R₂選自甲基、乙基、異丙基、叔丁基、苯基、芐基或三氟甲基。

4.根據權利要求1所述的光調節二芳基二氫吩嗪修飾的方法，其特征在于，所述R₃選自氫、甲基、乙基、異丙基、叔丁基、氟、氯、硝基、胺基、苯基、氰基、甲氧基或三氟甲基。

5.根據權利要求1所述的光調節二芳基二氫吩嗪修飾的方法，其特征在于，所述鹵代烷基酸酯選自2-溴異丁酸甲酯、2-溴-2-甲基丙酸乙酯、2-溴代異丁酸異丙酯、2-溴代異丁酸叔丁酯、2-溴乙基α-溴異丁酸、乙基1-溴環丁烷甲酸酯、2-氯異丁酸甲酯、2-氯-2-甲基丙酸乙酯、2-碘異丁酸甲酯或2-碘-2-甲基丙酸乙酯。

6.根據權利要求1所述的光調節二芳基二氫吩嗪修飾的方法，其特征在于，所述堿為碳酸鈉、碳酸氫鈉、碳酸鉀、磷酸鉀、磷酸二氫鉀、氫氧化鈣、氫氧化鉀中的任意一種或幾種組合。

7.根據權利要求1所述的光調節二芳基二氫吩嗪修飾的方法，其特征在于，所述溶劑為二甲基亞砜、N,N-二甲基甲酰胺、甲醇、乙醇、水、N,N-二甲基乙酰胺、1,4-二氧六環、甲苯和四氫呋喃中的任意一種或幾種組合。

8.根據權利要求1所述的光調節二芳基二氫吩嗪修飾的方法，其特征在于，所述二芳基二氫吩嗪、苯乙烯類化合物和鹵代烷基酸酯之間的投料配比為1：2～40：2～60。

9.根據權利要求1所述的光調節二芳基二氫吩嗪修飾的方法，其特征在于，所述反應的溫度為-10～90℃。

10.根據權利要求1所述的光調節二芳基二氫吩嗪修飾的方法，其特征在于，所述反應的時間為0.5h～36h。