[發明專利]校準方法和校準系統在審

申請號：	202110496473.5	申請日：	2021-05-07
公開（公告）號：	CN113675067A	公開（公告）日：	2021-11-19
發明（設計）人：	杉田吉平;佐佐木花;稻葉薫;土樋輪充;新沼崇;藤原光	申請（專利權）人：	東京毅力科創株式會社
主分類號：	H01J37/32	分類號：	H01J37/32;H01J37/244;G01J3/443;G01J3/02
代理公司：	北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277	代理人：	劉新宇
地址：	日本***	國省代碼：	暫無信息
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摘要：
搜索關鍵詞：	校準方法系統
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【說明書】：

本發明提供一種減少發射光譜分析的機械誤差的校準方法和校準系統。提供的校準方法包括以下工序：在基準裝置內配置具有給定的波長帶的LED光源；使從所配置的所述LED光源輸出的光量發生變化，并獲取被階段性地進行了調整的光量中的每個波長的發光強度即第一數據；將所述第一數據存儲到存儲器中；將所述LED光源配置于校準對象裝置；使從所配置的所述LED光源輸出的光量發生變化，并獲取被階段性地進行了調整的光量中的每個波長的發光強度即第二數據；以及基于所述第二數據和所述存儲器中存儲的所述第一數據來計算校準式。

技術領域

專利文獻1公開了一種等離子體處理裝置，該等離子體處理裝置將發射光譜分析裝置與等離子體工藝腔室連接，通過對在腔室內產生的等離子體發光的光譜強度進行分析來進行工藝的監視和控制。專利文獻2公開了將光學校準裝置設置于腔室內來對發射光譜分析裝置進行校準的系統，該光學校準裝置具備氙氣閃光燈等具有連續光譜的光源。

背景技術

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特表2011-517097號公報

專利文獻2：日本特開2018-91836號公報

發明內容

發明要解決的問題

本公開提供一種降低發射光譜分析的機械誤差的技術。

用于解決問題的方案

根據本公開的一個方式，提供一種校準方法，該校準方法包括以下工序：在基準裝置內配置具有給定的波長帶的LED光源；使從所配置的所述LED光源輸出的光量發生變化，并獲被階段性地進行了調整的光量中的每個波長的發光強度即第一數據；將所述第一數據存儲到存儲器中；將所述LED光源配置于校準對象裝置；使從所配置的所述LED光源輸出的光量發生變化，并獲取被階段性地進行了調整的光量中的每個波長的發光強度即第二數據是；以及基于所述第二數據和所述存儲器中存儲的所述第一數據來計算校準式。

發明的效果

根據一個側面，能夠減少發射光譜分析的機械誤差。

附圖說明

圖1是表示實施方式所涉及的等離子體處理裝置的示意截面圖。

圖2是表示實施方式所涉及的校準的概要的圖。

圖3是在圖1的等離子體處理裝置安裝了LED治具的圖。

圖4是用于說明實施方式所涉及的等離子體處理裝置與發射光譜分析裝置之間的動作的圖。

圖5是表示實施方式所涉及的基準校準數據的一例的圖。

圖6是表示實施方式所涉及的校準方法(獲取基準校準數據)的流程圖。

圖7是表示實施方式所涉及的校準方法(計算校準式)的流程圖。

圖8是表示實施方式所涉及的校準方法(校準檢測值)的流程圖。

圖9是表示實施方式所涉及的校準結果的一例的圖。