[發明專利]Micro LED顯示裝置及其制備方法在審
| 申請號: | 202110494925.6 | 申請日: | 2021-05-07 |
| 公開(公告)號: | CN113161382A | 公開(公告)日: | 2021-07-23 |
| 發明(設計)人: | 鄒英華;戴兆宇;段秋艷;羅展佑 | 申請(專利權)人: | TCL華瑞照明科技(惠州)有限公司;華瑞光電(惠州)有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/15 | 分類號: | H01L27/15;H01L33/00;H01L33/36;H01L33/44;H01L33/48;H01L33/50;H01L33/62 |
| 代理公司: | 北京力量專利代理事務所(特殊普通合伙) 11504 | 代理人: | 郭大為 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | micro led 顯示裝置 及其 制備 方法 | ||
本發明涉及Micro LED顯示裝置及其制備方法,包括以下步驟:提供襯底,對襯底進行外延生長處理操作,形成外延層;進行蝕刻操作,形成多個發光單元;涂覆絕緣膠;絕緣層進行開口操作;通過蒸鍍在絕緣層上形成電路層,得到發光模組;提供玻璃基板,在玻璃基板上涂覆光阻層;再對光阻層進行開槽操作,在第一發光槽中涂覆紅色熒光粉,在第二發光槽中涂覆綠色熒光粉,在每第三發光槽中涂覆透明膠,再在紅色熒光粉層、綠色熒光粉層及透明膠層上分別覆蓋紅色濾光片、綠色濾光片及藍色濾光片,得到濾光板;將濾光板扣合于發光模組上,得到Micro LED顯示裝置。制備工藝簡單,提高了Micro LED顯示裝置的使用穩定性。
技術領域
本發明涉及顯示技術領域,特別是涉及一種Micro LED顯示裝置及其制備方法。
背景技術
Micro LED(Micro Light Emitting Diode,微型發光二極管)顯示裝置是采用Micro LED作為光源的一種顯示裝置,是一種新的顯示技術,具有亮度高及發光效率好的優點,且節能環保,其中,Micro LED技術是LED微縮化和矩陣化技術,將像素點距離從毫米級降低至微米級,而Micro LED顯示裝置一般是通過在集成電路上制作LED陣列,并通過封裝得到。
然而,現有的Micro LED顯示裝置的制備工藝存在一定難度,由于Micro LED是將LED微縮化及矩陣化,大大提高了芯片轉移的難度,不僅存在芯片轉移數量巨大的問題,且存在對芯片造成損壞的問題,另外,芯片與芯片間在放置的過程中必須存在一定間距,造成pitch值較大,同時,由于紅、藍、綠三基色芯片的電壓存在差異,對電源設計增加了難度,導致Micro LED顯示裝置制備工藝實現難度高,難以普及。
發明內容
基于此,有必要提供一種Micro LED顯示裝置及其制備方法。
一種Micro LED顯示裝置的制備方法,包括:
提供襯底,對所述襯底進行外延生長處理操作,形成外延層,所述外延層包括N型GaN層、發光層及P型GaN層;
對所述發光層及所述P型GaN層進行蝕刻操作,以對所述發光層及所述P型GaN層進行分割,形成多個發光單元;
向多個所述發光單元的表面涂覆絕緣膠,形成絕緣層;
對所述絕緣層進行開口操作,以使所述P型GaN層及所述N型GaN層部分露出,所述P型GaN層露出部分為P極焊盤,所述N型GaN層露出部分為N極焊盤;
通過蒸鍍在所述絕緣層上形成電路層,所述電路層分別與所述P極焊盤及所述N極焊盤連接,得到發光模組;
提供玻璃基板,在所述玻璃基板上涂覆光阻層;再對所述光阻層進行開槽操作,形成多個第一發光槽、多個第二發光槽及多個第三發光槽,多個所述第一發光槽、多個所述第二發光槽及多個所述第三發光槽呈矩陣分布,一所述第一發光槽、一所述第二發光槽及一所述第三發光槽在橫向方向上依次順序排布;
在每一所述第一發光槽中涂覆紅色熒光粉,形成紅色熒光粉層,在每一所述第二發光槽中涂覆綠色熒光粉,形成綠色熒光粉層,在每一所述第三發光槽中涂覆透明膠,形成透明膠層,再在所述紅色熒光粉層、綠色熒光粉層及透明膠層上分別覆蓋紅色濾光片、綠色濾光片及藍色濾光片,得到濾光板;
將濾光板扣合于發光模組上,得到Micro LED顯示裝置。
在其中一種實施方式,在所述向多個所述發光單元的表面涂覆絕緣膠的操作之前,還對每一所述發光單元進行開孔操作,以使所述N型GaN層部分露出。
在其中一種實施方式,在所述對每一所述發光單元進行開孔操作,以使所述N型GaN層部分露出的操作之后,還在所述P型GaN層上設置反光層。
在其中一種實施方式,所述絕緣層為二氧化硅絕緣層。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





