[發明專利]激光結晶設備在審
| 申請號: | 202110491254.8 | 申請日: | 2021-05-06 |
| 公開(公告)號: | CN113611630A | 公開(公告)日: | 2021-11-05 |
| 發明(設計)人: | 林東彥;高正云;金炫真;柳塤澈;薛煐陳;溫吉容;李演學;曹惠智 | 申請(專利權)人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;H01L21/02 |
| 代理公司: | 北京鉦霖知識產權代理有限公司 11722 | 代理人: | 李英艷;馮志云 |
| 地址: | 韓國京畿*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 激光 結晶 設備 | ||
1.一種激光結晶設備,其中,所述激光結晶設備包括:
多個激光發生器,所述多個激光發生器產生多個激光束;
多個衰減器,所述多個衰減器調節所述多個激光束的能量強度;以及
光學模塊,所述光學模塊使所述多個衰減器的輸出重疊并且輸出線束,
其中,所述多個衰減器包括第一衰減器和第二衰減器,所述第一衰減器衰減所述多個激光束中的對應激光束的所述能量強度,并且所述第二衰減器保持所述多個激光束中的對應激光束的所述能量強度。
2.根據權利要求1所述的激光結晶設備,
其中,所述第一衰減器包括透射和反射所述對應激光束的第一衰減單元和第二衰減單元,并且所述第二衰減器包括保持所述對應激光束的所述能量強度的第一板和第二板。
3.根據權利要求2所述的激光結晶設備,
其中,所述第一衰減單元相對于所述對應激光束的行進方向以預定角度傾斜,并且所述第二衰減單元相對于所述對應激光束的所述行進方向在與所述第一衰減單元相反的方向上以預定角度傾斜。
4.根據權利要求2所述的激光結晶設備,
其中,所述第二衰減器的所述第一板和所述第二板平行于所述對應激光束的行進方向布置,并且與所述對應激光束的路徑間隔開預定距離。
5.根據權利要求1所述的激光結晶設備,
其中,所述光學模塊包括:
至少一個反射鏡,所述至少一個反射鏡反射所述對應激光束的全部;
至少一個分光鏡,所述至少一個分光鏡反射所述對應激光束的一部分并且透射所述對應激光束的另一部分;
望遠鏡透鏡,所述望遠鏡透鏡放大由所述至少一個反射鏡反射或通過所述至少一個分光鏡的所述對應激光束;
均化器,所述均化器均衡穿過所述望遠鏡透鏡的所述對應激光束;以及
多個圓柱形透鏡,所述多個圓柱形透鏡調節穿過所述均化器的所述對應激光束的強度和焦距以輸出所述線束。
6.根據權利要求1所述的激光結晶設備,
其中,所述多個激光發生器包括第一激光發生器、第二激光發生器、第三激光發生器、第四激光發生器、第五激光發生器和第六激光發生器,
所述多個衰減器還包括第三衰減器、第四衰減器、第五衰減器和第六衰減器,所述第一衰減器、所述第二衰減器、所述第三衰減器、所述第四衰減器、所述第五衰減器和所述第六衰減器與所述第一激光發生器、所述第二激光發生器、所述第三激光發生器、所述第四激光發生器、所述第五激光發生器和所述第六激光發生器各自對應,并且
所述第一衰減器和所述第六衰減器衰減所述對應激光束的所述能量強度,以及所述第二衰減器、所述第三衰減器、所述第四衰減器和所述第五衰減器保持所述對應激光束的所述能量強度。
7.根據權利要求6所述的激光結晶設備,
其中,所述第一衰減器和所述第六衰減器中的每一個包括透射和反射所述對應激光束的第一衰減單元和第二衰減單元,并且所述第二衰減器、所述第三衰減器、所述第四衰減器和所述第五衰減器中的每一個包括保持所述對應激光束的所述能量強度的第一板和第二板。
8.根據權利要求7所述的激光結晶設備,
其中,所述第一衰減單元相對于所述對應激光束的行進方向以預定角度傾斜,并且所述第二衰減單元相對于所述對應激光束的所述行進方向在與所述第一衰減單元相反的方向上以預定角度傾斜,
其中,所述第一板和所述第二板平行于所述對應激光束的所述行進方向布置,并且與所述對應激光束的路徑間隔開預定距離。
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H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





