[發(fā)明專利]一種環(huán)形器/隔離器腔體組件及其組裝方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110486034.6
• 申請(qǐng)日: 2021-04-30
• 公開（公告）號(hào): CN113113747A
• 公開（公告）日: 2021-07-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王振海
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 蘇州市浩海精密機(jī)械有限公司
• 主分類號(hào): H01P1/32
• 分類號(hào): H01P1/32;H01P11/00
• 代理公司: 蘇州三英知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32412
• 代理人: 黃曉明

1.一種環(huán)形器/隔離器腔體組件，包括殼體及蓋板，所述殼體包括底板及由底板的周緣向上延伸形成的周壁，所述蓋板蓋設(shè)結(jié)合于周壁上方且與底板相對(duì)設(shè)置，所述底板、周壁及蓋板界定形成用于容納電子元件的容納腔，其特征在于：

所述周壁上形成加強(qiáng)部，所述加強(qiáng)部用于提升周壁在上下方向的抗彎強(qiáng)度。

2.如權(quán)利要求1所述的環(huán)型器/隔離器腔體組件，其特征在于：所述周壁經(jīng)沖壓折彎形成所述加強(qiáng)部，所述加強(qiáng)部的橫截面成V形。

3.如權(quán)利要求1所述的環(huán)型器/隔離器腔體組件，其特征在于：所述周壁的內(nèi)表面凹陷且周壁的外表面對(duì)應(yīng)凸出形成所述加強(qiáng)部。

4.如權(quán)利要求1所述的環(huán)型器/隔離器腔體組件，其特征在于：所述周壁的內(nèi)表面為平滑表面，所述周壁的外表面凸出形成所述加強(qiáng)部。

5.如權(quán)利要求1所述的環(huán)型器/隔離器腔體組件，其特征在于：所述周壁的外表面為平滑表面，所述周壁的內(nèi)表面凸出形成所述加強(qiáng)部。

6.如權(quán)利要求1所述的環(huán)型器/隔離器腔體組件，其特征在于：所述周壁從上向下開設(shè)形成多個(gè)開槽，多個(gè)所述開槽將周壁分為多個(gè)，各所述周壁鄰近開槽的邊緣位置形成所述加強(qiáng)部。

7.如權(quán)利要求6所述的環(huán)型器/隔離器腔體組件，其特征在于：所述加強(qiáng)部由周壁鄰近開槽的邊緣向外折彎形成，或者所述加強(qiáng)部由周壁鄰近開槽的邊緣向內(nèi)折彎形成。

8.如權(quán)利要求1至7項(xiàng)中任意一項(xiàng)所述的環(huán)型器/隔離器腔體組件，其特征在于：所述加強(qiáng)部沿上下方向延伸，所述蓋板沿上下方向?qū)?yīng)加強(qiáng)部的位置形成通孔，所述加強(qiáng)部向上凸伸至所述通孔內(nèi)，所述加強(qiáng)部的上端緣向上露出蓋板。

9.如權(quán)利要求8所述的環(huán)型器/隔離器腔體組件，其特征在于：所述通孔上端的橫截面積大于通孔下端的橫截面積。

10.如權(quán)利要求8所述的環(huán)型器/隔離器腔體組件，其特征在于：所述加強(qiáng)部的上端緣形成有經(jīng)鉚壓而向下凹陷的鉚壓位。

11.如權(quán)利要求8所述的環(huán)型器/隔離器腔體組件，其特征在于：所述蓋板于通孔的四周向下凹陷形成讓位槽，所述加強(qiáng)部的上端緣沿垂直于上下方向的橫向方向至少部分凸伸至讓位槽內(nèi)，所述加強(qiáng)部的上端緣未超出蓋板的上表面。

12.如權(quán)利要求8所述的環(huán)型器/隔離器腔體組件，其特征在于：所述周壁包括鄰近蓋板的上端部分及鄰近底板的下端部分，所述上端部分的厚度大于下端部分的厚度，所述加強(qiáng)部由形成于所述下端部分上的下端加強(qiáng)部和位于下端加強(qiáng)部正上方的部分上端部分組成。

13.一種環(huán)型器/隔離器腔體組件的組裝方法，包括如權(quán)利要求8所述的環(huán)型器/隔離器腔體組件，所述加強(qiáng)部露出蓋板的部分呈非平板狀，包括第一折彎邊和第二折彎邊，其特征在于，包括如下步驟中的至少兩個(gè)：

A、折彎第一折彎邊，使所述第一折彎邊掛靠于蓋板上；

B、折彎第二折彎邊，使所述第二折彎邊掛靠于蓋板上；

C、折彎第一折彎邊與第二折彎邊相交的位置，使所述第一折彎邊與第二折彎邊相交的位置掛靠于蓋板上。