[發(fā)明專利]一種凍干設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110484020.0
• 申請(qǐng)日: 2021-04-30
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113357879B
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-10-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊磊;費(fèi)勝?gòu)?qiáng)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 杭州富睿捷科技有限公司
• 主分類號(hào): F26B5/06
• 分類號(hào): F26B5/06;F26B25/00;F26B25/08
• 代理公司: 杭州合譜慧知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 33290
• 代理人: 唐燕

1.一種凍干設(shè)備，其特征在于，包括：

箱體裝置，設(shè)置有工作臺(tái)和安裝于工作臺(tái)上的冷阱系統(tǒng)，所述冷阱系統(tǒng)包括冷阱和呈螺旋狀盤繞設(shè)置在冷阱內(nèi)的盤管；

底座結(jié)構(gòu)，包括底座主體、設(shè)置在所述底座主體底部的下連接部和頂部的至少兩個(gè)不同尺寸的上連接部，或包括底座主體、設(shè)置在所述底座主體頂部的上連接部和底部的至少兩個(gè)不同尺寸的下連接部，所述下連接部放置在冷阱的上邊沿和/或工作臺(tái)上；

罩結(jié)構(gòu)，設(shè)置有頂部開(kāi)口和底部開(kāi)口，所述底部開(kāi)口的邊沿放置在所述上連接部上；

蓋結(jié)構(gòu)，放置在所述頂部開(kāi)口的邊沿上，用于蓋合所述頂部開(kāi)口。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的凍干設(shè)備，其特征在于：所述工作臺(tái)上設(shè)置有缺口一，所述缺口一周圍環(huán)繞設(shè)置有夾板，所述夾板通過(guò)墊板連接在工作臺(tái)的內(nèi)側(cè)，且?jiàn)A板內(nèi)周的半徑小于缺口一的半徑，所述冷阱設(shè)置成可安裝于缺口一內(nèi)的敞口中空?qǐng)A柱結(jié)構(gòu)，所述冷阱的上端向外彎折設(shè)置有冷阱邊沿，所述冷阱安裝于工作臺(tái)上時(shí)所述冷阱邊沿的下端面與夾板的上端面相抵靠。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的凍干設(shè)備，其特征在于：所述底座主體設(shè)置為環(huán)形結(jié)構(gòu)，所述上連接部設(shè)置為自底座主體頂壁向內(nèi)凹陷形成的環(huán)形槽二，所述底座主體與環(huán)形槽二均以軸一為軸心；

所述下連接部設(shè)置成環(huán)形階梯結(jié)構(gòu)，包括兩個(gè)均以軸一為軸心且半徑不同的環(huán)形臺(tái)，其中，半徑大的一個(gè)環(huán)形臺(tái)放置在冷阱的上邊沿和/或工作臺(tái)上時(shí)，半徑小的一個(gè)環(huán)形臺(tái)伸入于冷阱的內(nèi)部且外側(cè)壁可與冷阱的內(nèi)側(cè)壁相抵靠。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的凍干設(shè)備，其特征在于：所述半徑大的一個(gè)環(huán)形臺(tái)上設(shè)置有自環(huán)形臺(tái)底壁向內(nèi)凹陷形成的環(huán)形槽三，所述環(huán)形槽三可用于定位在冷阱的上邊沿上。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的凍干設(shè)備，其特征在于，所述蓋結(jié)構(gòu)包括：

蓋主體，底部向內(nèi)凹陷設(shè)置有環(huán)形槽一，所述環(huán)形槽一用于蓋主體放置于罩結(jié)構(gòu)頂部開(kāi)口邊沿上時(shí)的限位；

放氣閥，直接或間接設(shè)置在所述蓋主體上，用于向真空室內(nèi)填充氣體介質(zhì)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的凍干設(shè)備，其特征在于：所述放氣閥包括設(shè)置在蓋主體頂部的閥一，所述蓋主體上設(shè)置有貫通于閥一和蓋主體的放氣通道三，可通過(guò)所述放氣通道三向罩結(jié)構(gòu)內(nèi)形成的真空室一填充氣體介質(zhì)。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的凍干設(shè)備，其特征在于：所述蓋主體的側(cè)部設(shè)置有用于連接外掛瓶的外掛閥，所述蓋主體上設(shè)置有貫通于外掛閥和蓋主體的孔通道一，

所述外掛閥包括閥體、轉(zhuǎn)接體和控制鈕，所述閥體內(nèi)部設(shè)置有孔通道二，所述轉(zhuǎn)接體傾斜設(shè)置在閥體的下部，所述轉(zhuǎn)接體的內(nèi)部設(shè)置有孔通道三，所述孔通道三的一端與孔通道二相貫通，另一端可與外掛瓶對(duì)接，所述控制鈕的內(nèi)部設(shè)置有孔通道四，所述孔通道二的一端與孔通道一相貫通，另一端與所述控制鈕相對(duì)接，所述孔通道四的一端與孔通道二相貫通，另一端可在控制鈕相對(duì)閥體旋轉(zhuǎn)后與孔通道三相貫通或相分離，所述孔通道一、孔通道二、孔通道三和孔通道四相貫通時(shí)可經(jīng)由罩結(jié)構(gòu)內(nèi)形成的真空室一對(duì)外掛瓶?jī)?nèi)形成的真空室二進(jìn)行真空處理，

所述放氣閥包括設(shè)置在控制鈕上的閥二，所述閥二包括連通件二和控制件二，所述連通件二設(shè)置為控制鈕的部分結(jié)構(gòu)，所述連通件二的內(nèi)部設(shè)置有放氣通道二，所述放氣通道二的一端可與孔通道三相貫通或相分離，另一端可與放氣管相對(duì)接，所述控制件二設(shè)置為控制鈕的部分結(jié)構(gòu)，所述放氣通道二可在控制鈕相對(duì)閥體旋轉(zhuǎn)后與孔通道三相貫通或相分離，所述放氣通道二與孔通道三相貫通時(shí)可向外掛瓶?jī)?nèi)形成的真空室二填充氣體介質(zhì)。