[發(fā)明專利]一種用于蝕刻半導(dǎo)體晶片的設(shè)備

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110480385.6
• 申請(qǐng)日: 2021-04-30
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113206028A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-08-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王玨
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 王玨
• 主分類號(hào): H01L21/67
• 分類號(hào): H01L21/67
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種用于蝕刻半導(dǎo)體晶片的設(shè)備，包括機(jī)殼（1）、放置架（23），其特征在于：所述機(jī)殼（1）的正面鉸接有柜門（26），所述機(jī)殼（1）內(nèi)腔的中部固定連接有蝕刻臺(tái)（2），所述蝕刻臺(tái)（2）的內(nèi)部開(kāi)設(shè)有清洗槽（17）和蝕刻槽（18），所述蝕刻臺(tái)（2）的中部且位于清洗槽（17）、蝕刻槽（18）的內(nèi)腔設(shè)置有不完全齒輪（60），所述蝕刻臺(tái)（2）的中部轉(zhuǎn)動(dòng)連接有轉(zhuǎn)軸（27），所述轉(zhuǎn)軸（27）與不完全齒輪（60）活動(dòng)套接，所述轉(zhuǎn)軸（27）的表面固定套接有第一斜齒輪（55），所述轉(zhuǎn)軸（27）的表面固定套接有第一皮帶輪（34），所述蝕刻臺(tái)（2）中部的內(nèi)側(cè)固定連接有固定套（57），所述固定套（57）與轉(zhuǎn)軸（27）活動(dòng)套接，所述固定套（57）的數(shù)量為兩個(gè)，兩個(gè)所述固定套（57）的側(cè)面均轉(zhuǎn)動(dòng)連接有支撐架（25），兩個(gè)所述固定套（57）的側(cè)面均設(shè)置有扭簧（58），所述扭簧（58）的一端與固定套（57）固定連接，所述扭簧（58）的另一端與支撐架（25）的側(cè)面固定連接，所述放置架（23）的兩端均固定連接有轉(zhuǎn)桿（61），兩個(gè)所述轉(zhuǎn)桿（61）的一端分別固定連接有連接套（40），所述連接套（40）的內(nèi)部轉(zhuǎn)動(dòng)連接有連接桿（53），所述連接桿（53）的一端貫穿支撐架（25）的內(nèi)部且螺紋安裝有蝶形螺母（28），一個(gè)所述轉(zhuǎn)桿（61）的表面固定套接有第二皮帶輪（33），所述第二皮帶輪（33）通過(guò)皮帶（38）與第一皮帶輪（34）傳動(dòng)連接，一個(gè)所述轉(zhuǎn)桿（61）的表面固定套接有行星齒輪（52），所述行星齒輪（52）與不完全齒輪（60）相互嚙合，所述蝕刻臺(tái)（2）的內(nèi)部開(kāi)設(shè)有間歇振動(dòng)清洗液或蝕刻液振動(dòng)的振動(dòng)裝置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于蝕刻半導(dǎo)體晶片的設(shè)備，其特征在于：所述振動(dòng)裝置包括設(shè)置在蝕刻臺(tái)（2）內(nèi)部的傳動(dòng)槽（24），所述傳動(dòng)槽（24）的內(nèi)腔轉(zhuǎn)動(dòng)連接有旋轉(zhuǎn)桿（31），所述旋轉(zhuǎn)桿（31）的一端延伸至蝕刻臺(tái)（2）的頂部且固定套接有第二斜齒輪（56），所述第二斜齒輪（56）與第一斜齒輪（55）相嚙合，所述旋轉(zhuǎn)桿（31）的表面固定套接有凸輪（32），所述清洗槽（17）與蝕刻槽（18）的內(nèi)壁均固定連接有彈簧（45），所述彈簧（45）的一端固定連接有振動(dòng)塊（46），所述振動(dòng)塊（46）的內(nèi)側(cè)固定連接有連桿（59），所述連桿（59）的一端活動(dòng)套接至傳動(dòng)槽（24）的內(nèi)腔且固定連接有連板（47），所述連板（47）的側(cè)面與凸輪（32）的側(cè)面相貼合。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于蝕刻半導(dǎo)體晶片的設(shè)備，其特征在于：所述機(jī)殼（1）的內(nèi)壁固定連接有電動(dòng)伸縮桿（19），所述電動(dòng)伸縮桿（19）的輸出軸固定連接有推動(dòng)板（20），所述推動(dòng)板（20）的側(cè)面固定連接有支撐板（21），所述支撐板（21）的底部固定安裝有噴頭（30），所述支撐板（21）的頂部固定安裝有風(fēng)機(jī)（22），所述風(fēng)機(jī)（22）的輸出端與噴頭（30）的一端固定連接，所述推動(dòng)板（20）的側(cè)面固定連接有接水槽（50），所述接水槽（50）的內(nèi)腔設(shè)置有吸水棉（51）。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于蝕刻半導(dǎo)體晶片的設(shè)備，其特征在于：所述蝕刻臺(tái)（2）的內(nèi)部開(kāi)設(shè)有第一進(jìn)水槽（41），所述蝕刻臺(tái)（2）的內(nèi)部開(kāi)設(shè)有第一進(jìn)水孔（42），所述蝕刻臺(tái)（2）的內(nèi)部開(kāi)設(shè)有第二進(jìn)水槽（43），所述蝕刻臺(tái)（2）的內(nèi)部開(kāi)設(shè)有第二進(jìn)水孔（44），所述蝕刻臺(tái)（2）的內(nèi)部開(kāi)設(shè)有第三進(jìn)水槽（48），所述蝕刻臺(tái)（2）的內(nèi)部開(kāi)設(shè)有第三進(jìn)水孔（49）。