[發明專利]一種高效、穩定、安全的核磁共振成像造影劑及其制備方法和應用在審
| 申請號: | 202110478317.6 | 申請日: | 2021-04-30 |
| 公開(公告)號: | CN113413472A | 公開(公告)日: | 2021-09-21 |
| 發明(設計)人: | 張明;陳健文 | 申請(專利權)人: | 修存醫藥技術開發(天津)有限責任公司 |
| 主分類號: | A61K49/18 | 分類號: | A61K49/18;A61K49/08 |
| 代理公司: | 北京同輝知識產權代理事務所(普通合伙) 11357 | 代理人: | 何靜 |
| 地址: | 300451 天津市濱海新區自貿試驗區(中心*** | 國省代碼: | 天津;12 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 高效 穩定 安全 核磁共振成像 造影 及其 制備 方法 應用 | ||
本發明屬于核磁共振造影劑領域,涉及一種T1增強核磁共振納米膠體造影劑,其可用作治療和診斷應用以及臨床和生物醫學研究應用,用于提高核磁共振病變組織與正常組織間的差別,增強信號對比度和提高軟組織圖像的分辨率,是一種高效、穩定、安全的核磁共振造影劑,基于Gd@Au核殼結構的納米膠體由Gd@Au組成造影部分,若干Gd原子被緊密包覆在Au外殼內,Au外殼上搭載水溶性高分子或其他功能性生物分子,其具有合成簡便,磁學/光學/藥學性質高度靈活可調控、用量小,對比效果好,安全性高的特點,在核磁共振成像領域具有廣闊的研究和應用前景。
技術領域
本發明屬于核磁共振造影劑領域,涉及一種T1增強核磁共振納米膠體造影劑,可用作治療和診斷應用以及臨床和生物醫學研究應用。
背景技術
核磁共振成像技術具有可向任意方位斷層掃描等技術靈活性,加以涵蓋質子密度、弛豫、化學位移等多參數特征以及高空間分辨率和高對比度無輻射、無損傷等優勢,普遍應用于臨床醫學,在臨床診斷上具有十分重要的作用。但某些組織和腫瘤的弛豫時間相互重疊,成像質量差,明暗對比不清晰,容易導致誤診。為了提高病變組織與正常組織間的差別,增強信號對比度和提高軟組織圖像的分辨率,需要攝入核磁共振成像造影劑。目前,核磁共振成像造影劑可以分為T1 型和T2型,其中,T1型因能增強給藥區域對比度而更具有診斷價值,是核磁共振成像造影劑的首選方案。
Gd元素因其具有穩定的電子組態和7個未成對電子,在減少水分子上氫核的自旋-晶格弛豫(T1弛豫)方面最為有效,但Gd是活潑的金屬元素,因其化學性質無法直接給藥,Gd3+離子組成的無機鹽攝入后在人體內產生腎源性系統性纖維化(NSF)反應,因而也無法直接應用?,F有基于Gd3+的造影劑,一般都是Gd3+的螯合物,在臨床應用中存在著用量大,對比效果不理想,且在一定化學環境下有解離并釋放Gd3+的風險?;诨瘜W合成的Gd@Au核殼結構納米膠體 (FGCA),具有方法簡便,磁學/光學/藥學性質高度靈活可調控的特點。經過早期研究,其具有單顆粒弛豫率高,化學性質穩定,安全性高,用量較小等優勢,在核磁共振成像領域具有廣闊的研究和應用前景。
因此,發展一種用量小,對比效果好,安全性高的核磁共振成像造影劑是未來的發展趨勢。
發明內容
有鑒于背景技術中存在的問題,本發明的目的在于提供一種高效、穩定、安全的核磁共振造影劑。
本發明的目的是通過如下措施來達到,基于解決如上問題的考慮,本發明提供了基于Gd@Au核殼結構的納米膠體方案,其組成是,由 Gd@Au組成造影部分,若干Gd原子被緊密包覆在Au外殼內。Au 外殼上搭載水溶性高分子或其他功能性生物分子。
本發明提供了該Gd@Au的核殼結構,單個粒子包含的Gd原子數約達500個,每個Gd原子在400MHz磁場下也顯示出18mM-1s-1的T1弛豫率,所有的Gd原子都包含在金元素的外殼內。
再一方面,本發明提供了上述造影劑在使用中的穩定性及安全性驗證。實驗證明只有王水可以導致金元素保護外殼溶解,氧化Gd元素并釋放出Gd3+,在生理pH下,甚至一般強酸強堿性和氧化性條件下都保持穩定,不會釋放出Gd3+,提高了該造影劑的安全性。
除此以外,本發明提供了本類型的核磁共振成像造影劑,可根據不同功能需要,進行較大調整,具備靈活機動性。包括改變磁性金屬內核,以其他磁性金屬元素替換Gd;改變金元素外殼厚度來提高造影劑的靈敏性;以及金元素本身的SERS性質;也可以使用功能性生物大分子附著在金元素表面,為該造影劑賦予新的生物藥學功能。
與現有造影劑相比,本發明具備如下有益效果:
FGCA可作為一種高效、穩定、安全的核磁共振成像造影劑。
FGCA采取全化學合成,步驟簡單,質量可控。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于修存醫藥技術開發(天津)有限責任公司,未經修存醫藥技術開發(天津)有限責任公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110478317.6/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





