[發明專利]進氣裝置及反應腔室

在審

• 申請號: 202110477358.3
• 申請日: 2021-04-29
• 公開（公告）號: CN113201725A
• 公開（公告）日: 2021-08-03
• 發明（設計）人: 秦海豐;史小平;蘭云峰;王勇飛;張文強;王昊;任曉艷
• 申請（專利權）人: 北京北方華創微電子裝備有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;C23C16/509
• 代理公司: 北京國昊天誠知識產權代理有限公司 11315
• 代理人: 施敬勃

1.一種進氣裝置，所述進氣裝置用于與反應腔室連通，所述反應腔室包括腔室本體(100)和噴淋頭(500)，所述噴淋頭(500)設置于所述腔室本體(100)的頂部，所述進氣裝置用于和所述噴淋頭(500)連通，其特征在于，所述進氣裝置包括：

第一管道(200)，所述第一管道(200)用于與所述噴淋頭(500)相連通，所述第一管道(200)的側壁開設有第一通孔(210)，所述第一管道(200)的進氣端用于通入第一反應氣體或清洗氣；

進氣組件(300)，所述進氣組件(300)包括組件本體(310)，所述組件本體(310)套設于所述第一管道(200)的外側，所述組件本體(310)內具有環繞所述第一管道(200)的至少兩個通道(301)，所述至少兩個通道(301)沿所述組件本體(310)的徑向間隔分布，所述組件本體(310)的外側設有第二通孔(3111)，所述第二通孔(3111)與其相鄰近的所述通道(301)相連通，所述組件本體(310)內設有第三通孔(3121)，所述第三通孔(3121)用于連通相鄰的兩個所述通道(301)，所述組件本體(310)內側設有第四通孔(3112)，所述第四通孔(3112)與其相鄰近的所述通道(301)相連通，所述第四通孔(3112)通過所述第一通孔(210)與所述第一管道(200)相連通，所述進氣組件(300)用于通過所述第二通孔(3111)向所述第一管道(200)通入第二反應氣體和載氣。

2.根據權利要求1所述的進氣裝置，其特征在于，所述第三通孔(3121)的數量為多個，多個所述第三通孔(3121)沿所述第一管道(200)的軸線方向間隔設置。

3.根據權利要求1所述的進氣裝置，其特征在于，所述第二通孔(3111)的入口側和所述組件本體(310)的底端的距離與所述第二通孔(3111)的出口側與所述組件本體(310)的底端的距離不同；或，

所述第二通孔(3111)的入口側與所述組件本體(310)的底端的距離與所述第二通孔(3111)的出口側與所述組件本體(310)的底端的距離相同。

4.根據權利要求1所述的進氣裝置，其特征在于，所述組件本體(310)包括筒體外套(311)和至少一個筒體(312)，所述筒體外套(311)的底端至頂端的方向上開設有凹槽，所述至少一個筒體(312)位于所述凹槽內，所述筒體(312)與所述凹槽的側壁以及相鄰的兩個所述筒體(312)之間圍成所述通道(301)，所述第三通孔(3121)開設于所述筒體(312)，所述第二通孔(3111)和所述第四通孔(3112)均開設于所述筒體外套(311)。

5.根據權利要求4所述的進氣裝置，其特征在于，所述凹槽為楔形槽，所述筒體(312)位于所述楔形槽內，且所述筒體(312)的一端與所述楔形槽的槽底相連接。

6.根據權利要求4所述的進氣裝置，其特征在于，所述進氣組件(300)還包括底座(320)，所述底座(320)開設有安裝孔(321)，所述底座(320)設置于所述組件本體(310)的底端與所述腔室本體(100)的頂端之間，所述第一管道(200)貫穿所述安裝孔(321)，并與所述噴淋頭(500)相連通，所述底座(320)封堵所述凹槽的槽口。

7.根據權利要求5所述的進氣裝置，其特征在于，所述筒體(312)數量為一個，所述筒體(312)將所述凹槽分成兩個對稱的所述通道(301)。

8.根據權利要求5所述的進氣裝置，其特征在于，所述楔形槽的底面和內側面均為敞口結構。

9.根據權利要求1所述的進氣裝置，其特征在于，所述第一管道(200)的進氣端設置有等離子體清洗裝置(400)，且與所述等離子體清洗裝置(400)相連通，所述第一管道(200)的出氣端與所述噴淋頭(500)相連通；所述進氣裝置還包括第二管道(410)，所述第二管道(410)與所述等離子體清洗裝置400)相連通，所述第二管道(410)用于通入所述清洗氣體或所述第一反應氣體。

10.一種反應腔室，包括：腔室本體(100)和噴淋頭(500)，所述噴淋頭(500)設置于所述腔室本體(100)上，其特征在于，還包括權利要求1至9中任一項所述的進氣裝置，所述進氣裝置與所述噴淋頭(500)連通。