[發明專利]一種清潔基站

在審

• 申請號: 202110476698.4
• 申請日: 2021-04-29
• 公開（公告）號: CN113116249A
• 公開（公告）日: 2021-07-16
• 發明（設計）人: 吳東澤
• 申請（專利權）人: 無錫睿米信息技術有限公司
• 主分類號: A47L11/40
• 分類號: A47L11/40;F24H9/18
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 胡彬

本發明屬于清潔設備技術領域，具體涉及一種清潔基站，包括清潔槽、水箱裝置和加熱裝置。清潔槽用于容納待清潔組件；水箱裝置包括水箱和水路組件，水箱通過水路組件連通清潔槽，并為清潔槽提供清潔液體，清潔液體用于清潔待清潔組件；加熱裝置設置于水箱外部或者水箱內部，加熱裝置通過直接加熱方式或者間接加熱方式對水箱內的清潔液體進行整體加熱或者部分加熱。本發明的清潔基站，設置有加熱裝置，加熱裝置能通過直接加熱方式或者間接加熱方式對水箱內的清潔液體進行整體加熱或者部分加熱，通過熱水提升污物或清潔劑的活性提升清潔效果，清洗效率高。

技術領域

本發明涉及清潔設備技術領域，尤其涉及一種清潔基站。

背景技術

市場上現有的自動掃地機等清潔設備通常配備有清潔基站，通過清潔基站的清水清洗自動掃地機等清潔設備的抹布或者滾刷等。清洗時，清水的溫度越高，污物或清潔劑在水中的活性越好，清潔效果也就越好；而市場上現有的清潔基站不具備對清水進行加熱的功能。

發明內容

本發明的目的在于提供一種清潔基站，清潔基站能對水箱內的清潔液體進行加熱，提升清洗效果，清潔效率高，使用方便，無安全隱患，且節約能源。

為達此目的，本發明采用以下技術方案：

一種清潔基站，包括：

清潔槽，所述清潔槽用于容納待清潔組件；

水箱裝置，所述水箱裝置包括水箱和水路組件，所述水箱通過所述水路組件連通所述清潔槽，并為所述清潔槽提供清潔液體，所述清潔液體用于清潔所述待清潔組件；以及

加熱裝置，所述加熱裝置設置于所述水箱外部或者所述水箱內部，所述加熱裝置通過直接加熱方式或者間接加熱方式對所述水箱內的所述清潔液體進行整體加熱或者部分加熱。

作為本發明的一種優選結構，還包括保溫裝置，所述保溫裝置覆蓋所述水箱，所述保溫裝置被配置為對所述水箱進行保溫。

作為本發明的一種優選結構，所述加熱裝置包括加熱盤，所述加熱盤貼合所述水箱的箱壁的外部，所述箱壁包括熱傳導件。

作為本發明的一種優選結構，所述加熱裝置包括磁感應加熱組件，所述磁感應加熱組件設置于所述水箱外部，所述水箱包括導體件，所述磁感應加熱組件通過加熱所述導體件加熱所述水箱內的所述清潔液體。

作為本發明的一種優選結構，所述加熱裝置包括加熱管，所述加熱管設置于所述水箱內部，所述加熱管被配置為加熱所述水箱內的所述清潔液體。

作為本發明的一種優選結構，所述加熱裝置包括儲水箱，所述儲水箱連通所述水箱，所述水箱內的所述清潔液體能流入所述儲水箱；所述加熱裝置被配置為加熱所述儲水箱內的所述清潔液體。

作為本發明的一種優選結構還包括進水閥，所述進水閥的兩端分別連通所述水箱和所述儲水箱，所述進水閥被配置為控制所述水箱進入所述儲水箱的所述清潔液體。

作為本發明的一種優選結構，所述水箱包括母水箱和子水箱，所述子水箱連通所述母水箱；所述加熱裝置被配置為加熱所述子水箱內的所述清潔液體。

作為本發明的一種優選結構，還包括控制模塊，所述控制模塊通訊連接所述加熱裝置，所述控制模塊具有多種運行模式，所述控制模塊用于為所述加熱裝置設置所述運行模式。

作為本發明的一種優選結構，還包括溫度傳感器，所述溫度傳感器被配置為測量所述清潔液體的溫度，所述溫度傳感器通訊連接所述控制模塊。