[發(fā)明專利]一種清潔基站

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• 申請?zhí)枺?/td>: 202110476698.4
• 申請日: 2021-04-29
• 公開（公告）號: CN113116249A
• 公開（公告）日: 2021-07-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 吳東澤
• 申請（專利權(quán)）人: 無錫睿米信息技術(shù)有限公司
• 主分類號: A47L11/40
• 分類號: A47L11/40;F24H9/18
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 胡彬

1.一種清潔基站，其特征在于，包括：

清潔槽(1)，所述清潔槽(1)用于容納待清潔組件；

水箱裝置(2)，所述水箱裝置(2)包括水箱(21)和水路組件(22)，所述水箱(21)通過所述水路組件(22)連通所述清潔槽(1)，并為所述清潔槽(1)提供清潔液體，所述清潔液體用于清潔所述待清潔組件；以及

加熱裝置(3)，所述加熱裝置(3)設(shè)置于所述水箱(21)外部或者所述水箱(21)內(nèi)部，所述加熱裝置(3)通過直接加熱方式或者間接加熱方式對所述水箱(21)內(nèi)的所述清潔液體進行整體加熱或者部分加熱。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔基站，其特征在于，還包括保溫裝置，所述保溫裝置覆蓋所述水箱(21)，所述保溫裝置被配置為對所述水箱(21)進行保溫。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔基站，其特征在于，所述加熱裝置(3)包括加熱盤，所述加熱盤貼合所述水箱(21)的箱壁的外部，所述箱壁包括熱傳導(dǎo)件。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔基站，其特征在于，所述加熱裝置(3)包括磁感應(yīng)加熱組件，所述磁感應(yīng)加熱組件設(shè)置于所述水箱(21)外部，所述水箱(21)包括導(dǎo)體件，所述磁感應(yīng)加熱組件通過加熱所述導(dǎo)體件加熱所述水箱(21)內(nèi)的所述清潔液體。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔基站，其特征在于，所述加熱裝置(3)包括加熱管，所述加熱管設(shè)置于所述水箱(21)內(nèi)部，所述加熱管被配置為加熱所述水箱(21)內(nèi)的所述清潔液體。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔基站，其特征在于，所述加熱裝置(3)包括儲水箱，所述儲水箱連通所述水箱(21)，所述水箱(21)內(nèi)的所述清潔液體能流入所述儲水箱；所述加熱裝置(3)被配置為加熱所述儲水箱內(nèi)的所述清潔液體。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的清潔基站，其特征在于，還包括進水閥，所述進水閥的兩端分別連通所述水箱(21)和所述儲水箱，所述進水閥被配置為控制所述水箱(21)進入所述儲水箱的所述清潔液體。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔基站，其特征在于，所述水箱(21)包括母水箱和子水箱，所述子水箱連通所述母水箱；所述加熱裝置(3)被配置為加熱所述子水箱內(nèi)的所述清潔液體。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔基站，其特征在于，還包括控制模塊，所述控制模塊通訊連接所述加熱裝置(3)，所述控制模塊具有多種運行模式，所述控制模塊用于為所述加熱裝置(3)設(shè)置所述運行模式。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的清潔基站，其特征在于，還包括溫度傳感器，所述溫度傳感器被配置為測量所述清潔液體的溫度，所述溫度傳感器通訊連接所述控制模塊。