[發明專利]一種蒸鍍曲面源、及蒸鍍系統

在審

• 申請號: 202110464225.2
• 申請日: 2021-04-26
• 公開（公告）號: CN113174566A
• 公開（公告）日: 2021-07-27
• 發明（設計）人: 茆勝
• 申請（專利權）人: 睿馨（珠海）投資發展有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/12;C23C14/04;C23C14/26;C23C14/50;H01L51/56
• 代理公司: 上海洞鑒知識產權代理事務所(普通合伙) 31346
• 代理人: 劉少偉

1.一種蒸鍍曲面蒸發源，其特征在于，包括：一具有一定曲率的凹曲面、以及環繞在所述凹曲面外側的邊緣；

所述凹曲面的曲率半徑大于所述凹曲面在水平方向上的直徑的一半；

所述凹曲面的高斯曲率計算如下式所得：

其中k₁，k₂為該點的兩個主法曲率，E，G，F為第一類基本量，L，N，M為第二類基本量。

2.根據權利要求1所述的一種蒸鍍曲面蒸發源，其特征在于，在水平方向上，所述凹曲面的截面的最大面積不小于基底的面積。

3.根據權利要求1所述的一種蒸鍍曲面蒸發源，其特征在于，所述凹曲面的深度應≥20mm。

4.一種蒸鍍系統，其特征在于，包括：

支架，用以固定待沉積的基底；

掩膜版，置于所述基底的下方，所述掩膜版上開設有可使蒸發分子通過的圖形化開口；

如權利要求1-3任意一項權利要求所述蒸發源，置于所述掩膜版的下方，在所述蒸發源的凹曲面內置有待蒸鍍的有機材料；

加熱裝置，置于所述蒸發源的下方，用以加熱所述蒸發源直至所述蒸發源內的有機材料蒸發。

5.根據權利要求4所述的一種蒸鍍系統，其特征在于，所述掩膜版由金屬材料制成，所述金屬材料為無放氣的純金屬材料；

所述蒸發源由金屬材料制成，所述金屬材料為無放氣的純金屬材料。

6.根據權利要求4所述的一種蒸鍍系統，其特征在于，所述加熱裝置為電加熱裝置，所述電加熱裝置的形態與所述蒸發源的凹曲面的曲率一致。

7.根據權利要求6所述的一種蒸鍍系統，其特征在于，所述電加熱裝置包括呈螺旋狀排列的電阻絲。

8.根據權利要求6所述的一種蒸鍍系統，其特征在于，所述加熱裝置的加熱溫度區間為50-300℃，加熱速率為1～10℃/s。

9.根據權利要求4所述的一種蒸鍍系統，其特征在于，所述有機材料的厚度為100-10000A。

10.根據權利要求4所述的一種蒸鍍系統，其特征在于，所述蒸發源與基底的間距為10-300mm。

11.根據權利要求4所述的一種蒸鍍系統，其特征在于，所述支架成階梯狀，在所述支架內設有容納所述基底和掩膜版的腔室，在所述基底的上部壓蓋有一磁力板，在所述磁力板的磁力作用下，使得所述基底和掩膜版保持緊密接觸。

12.根據權利要求4所述的一種蒸鍍系統，其特征在于，所述蒸鍍系統在沉積過程的真空度為10^-4～10^-7Torr。