[發明專利]一種用于無掩膜曝光的照明模組

有效

• 申請號: 202110463944.2
• 申請日: 2021-04-28
• 公開（公告）號: CN113156777B
• 公開（公告）日: 2023-06-27
• 發明（設計）人: 桂立
• 申請（專利權）人: 蘇州賽源光學科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 廣州市越秀區哲力專利商標事務所(普通合伙) 44288
• 代理人: 葛燕婷

本發明公開了一種用于無掩膜曝光的照明模組，包括準直透鏡組以及匯聚透鏡，準直透鏡組包括依次設置的第一準直透鏡，第一準直透鏡為凹凸透鏡；第二準直透鏡，第二準直透鏡為雙凸透鏡；第三準直透鏡，第三準直透鏡為凸凹透鏡；第四準直透鏡，第四準直透鏡為平凸透鏡；匯聚透鏡為雙凸透鏡，通過上述設計，本發明用于無掩膜曝光的照明模組結構簡單、光能透過率更高，照明均勻性更好。

技術領域

本發明涉及光學鏡頭，尤其是涉及一種微納光刻用無掩膜曝光的照明模組。

背景技術

在微電子、光學、線路板等微加工領域，紫外曝光機具有非常重要的應用。傳統掩膜式曝光機使用的是大尺寸平行紫外光源加掩膜的曝光形式。而目前現有無掩膜曝光機采用的是光源、光源準直系統、DMD芯片以及投影模組的結構。但現有的照明模組結構復雜，光的透過率不高，照明均勻性不好。

發明內容

為了克服現有技術的不足，本發明的目的之一在于提供一種結構簡單、光能透過率更高，照明均勻性更好的用于無掩膜曝光的照明模組。

本發明的目的之一采用以下技術方案實現：

一種用于無掩膜曝光的照明模組，包括準直透鏡組以及匯聚透鏡，所述準直透鏡組包括依次設置的第一準直透鏡，所述第一準直透鏡為凹凸透鏡；第二準直透鏡，所述第二準直透鏡為雙凸透鏡；第三準直透鏡，所述第三準直透鏡為凹凸透鏡；第四準直透鏡，所述第四準直透鏡為平凸透鏡；所述匯聚透鏡為雙凸透鏡。

進一步地，所述準直透鏡組前為物面，所述匯聚透鏡后為像面；或者所述準直透鏡組前為像面，所述匯聚透鏡后為物面。

進一步地，所述第一準直透鏡靠近物面為凹面，靠近像面為凸面。

進一步地，凹面的曲率半徑大于凸面的曲率半徑。

進一步地，所述第二準直透鏡靠近物面的曲率半徑大于靠近像面的曲率半徑。

進一步地，所述第三準直透鏡靠近物面為凸面，靠近像面為凹面。

進一步地，凸面的曲率半徑大于凹面的曲率半徑。

進一步地，所述第四準直透鏡靠近物面為平面，靠近像面為凸面。

進一步地，所述匯聚透鏡靠近物面的曲率半徑與靠近像面的曲率半徑相等。

進一步地，所述物面與DMD芯片重合。

相比現有技術，本發明用于無掩膜曝光的照明模組結構簡單、光能透過率更高，照明均勻性更好。

附圖說明

圖1為本發明用于無掩膜曝光的照明模組的光路示意圖；

圖2為圖1的用于無掩膜曝光的照明模組的畸變圖；

圖3為圖1的用于無掩膜曝光的照明模組的彌散斑示意圖；

圖4為圖1的用于無掩膜曝光的照明模組的像面遠心度曲線圖。

圖中：60、準直透鏡組；61、第一準直透鏡；62、第二準直透鏡；63、第三準直透鏡；64、第四準直透鏡；70、匯聚透鏡。

具體實施方式

下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發明保護的范圍。