[發(fā)明專利]一種具有多層結(jié)構(gòu)的掩膜板在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110455191.0 | 申請日： | 2021-04-26 |
| 公開（公告）號： | CN113186490A | 公開（公告）日： | 2021-07-30 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 茆勝 | 申請（專利權(quán)）人： | 睿馨（珠海）投資發(fā)展有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/04 | 分類號： | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56 |
| 代理公司： | 上海洞鑒知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31346 | 代理人： | 劉少偉 |
| 地址： | 519000 廣東省珠海市橫琴新*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 具有 多層 結(jié)構(gòu) 掩膜板 | ||
1.一種具有多層結(jié)構(gòu)的掩膜板，所述掩膜板包括至少兩層，并且具有至少一個開口；其特征在于，第一掩膜層與基板的距離小于第二掩膜層與基板的距離；
所述第一掩膜層的開口橫截面小于第二掩膜層的開口橫截面；這樣蒸發(fā)的材料通過所述第二掩膜層進入所述第一掩膜層，最后沉積在所述基板上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有多層結(jié)構(gòu)的掩膜板，其特征在于，所述第一掩膜層的圖形與所述第二掩膜層的圖形相似。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有多層結(jié)構(gòu)的掩膜板，其特征在于，所述第二掩膜層的開口橫截面為錐形。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有多層結(jié)構(gòu)的掩膜板，其特征在于，所述第二掩膜層的開口橫截面與所述第一掩膜層的開口橫截面形成階梯形。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有多層結(jié)構(gòu)的掩膜板，其特征在于，所述第二掩膜層的厚度大于所述第一掩膜層的厚度，所述第二掩膜層為支撐層。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有多層結(jié)構(gòu)的掩膜板，其特征在于，所述第二掩膜層的厚度為50～200μm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有多層結(jié)構(gòu)的掩膜板，其特征在于，所述第一掩膜層的厚度為1～20μm。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于睿馨（珠海）投資發(fā)展有限公司，未經(jīng)睿馨（珠海）投資發(fā)展有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110455191.0/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
- 卡片結(jié)構(gòu)、插座結(jié)構(gòu)及其組合結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)平臺結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)支撐結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)支撐結(jié)構(gòu)
- 單元結(jié)構(gòu)、結(jié)構(gòu)部件和夾層結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)扶梯結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)隔墻結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)連接結(jié)構(gòu)
- 螺紋結(jié)構(gòu)、螺孔結(jié)構(gòu)、機械結(jié)構(gòu)和光學(xué)結(jié)構(gòu)
- 螺紋結(jié)構(gòu)、螺孔結(jié)構(gòu)、機械結(jié)構(gòu)和光學(xué)結(jié)構(gòu)
