[發明專利]一種對位模塊及真空蒸鍍裝置

在審

• 申請號: 202110453590.3
• 申請日: 2021-04-26
• 公開（公告）號: CN113136545A
• 公開（公告）日: 2021-07-20
• 發明（設計）人: 茆勝
• 申請（專利權）人: 睿馨（珠海）投資發展有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/54;C23C14/24
• 代理公司: 上海洞鑒知識產權代理事務所(普通合伙) 31346
• 代理人: 劉少偉

本發明涉及一種對位模塊及真空蒸鍍裝置，其中，對位模塊，用以實現掩膜版上對位孔與硅基板上對位標志的對位配合，包括：置于所述對位孔正下方的鏡面；以及置于所述鏡面外側的圖像采集裝置。有益效果是：將原本位于腔室內部的對位攝像頭改到腔室外部，通過腔室內的鏡面將對位畫面反射到攝像頭實現對位，可以避免攝像頭鏡頭被蒸發的OLED材料污染；避免攝像頭被加熱源長時間烘烤的問題，大大延長了攝像頭的使用壽命；便于維修或更換，可以讓設備快速恢復工藝狀態，提高生產效率。

技術領域

本發明涉及真空蒸鍍技術領域，尤其是涉及一種對位模塊及真空蒸鍍裝置。

背景技術

OLED即有機發光二極管OLED(Organic Light-Emitting Diode)，是一種利用多層有機薄膜結構產生電致發光的器件。OLED顯示技術具有全固態、自發光、對比度高、功耗低、色域廣、視角廣、響應速度塊、工作溫度范圍廣等一系列優點，被業界公認為是繼液晶顯示器(LCD)之后的第三代顯示技術，能極大地滿足消費者對顯示技術的新需求。全球越來越多的顯示器廠家紛紛投入研發及量產，大大的推動了OLED的產業化進程。

硅基OLED微型顯示器，是半導體技術和OLED顯示技術的結合，不但具備OLED顯示器的上述優點，同時還具備半導體芯片微型化和高度集成的優點。其尺寸一般在1英寸以內，像素密度可高達5000PPI以上，遠高于玻璃基板OLED顯示器，在即將爆發的近眼顯示領域有廣闊的應用前景。

硅基OLED微型顯示器，通常包括具有驅動電路的硅基板和基板之上的OLED發光結構，而OLED發光結構一般是通過真空蒸鍍工藝制成。具體地，在制作好CMOS驅動電路的硅基板上先制備金屬陽極像素，然后使用金屬掩模版掩膜，將多種OLED材料及陰極層蒸鍍到基板的特定區域，從而在硅基板上得到可驅動的OLED器件，最后再使用密封工藝對OLED器件進行保護。

在上述有機發光結構的制作過程中，要保證金屬掩模版和硅基板精確對位，才可以確保有機材料準確地蒸鍍到基板上的目標區域形成OLED發光器件。目前，較常用的一種對位手段是通過在金屬掩模版上設置數個對位孔、在硅基板上設置數個對位標志，由CCD攝像頭采集上述兩者的對位畫面，結合高精度對準平臺驅動硅基板或掩模版移動實現對位。

具體地，參照圖1所示，在現有硅基OLED蒸鍍設備上，包括腔室100’、蒸發源105’、蒸發源擋板106’、基板101’、掩膜版102’、攝像頭103’和承載及驅動組件104’。對位攝像頭103’置于腔室100’內的承載及驅動組件104’上；進行對位時，承載及驅動組件104’驅動攝像頭103’移動到掩模版102’對位孔的下方，開始采集對位畫面及偏差數據，對準平臺驅動硅基板101’或掩模版102’移動實現對位；對位結束后，硅基板101’和掩模版102’的位置被固定裝置鎖死，攝像頭103’移動到外側初始位置，避免對蒸鍍路徑形成阻擋，然后可進行蒸鍍工藝。

但是，現有的CCD對位系統有幾點不足，其一，攝像頭容易被蒸發的OLED材料污染，導致畫面對比度下降，需要定期清理；其二，腔室內加熱源產生的熱量容易損傷攝像頭內的電子元器件，特別是蒸鍍金屬電極的高溫加熱源，產生大量的熱量長時間作用于上方的攝像頭，易導致攝像頭受損或使用壽命大幅縮短；其三，為避免對蒸鍍路徑形成阻擋，攝像頭需要在對位時從初始位置移動到對位位置，對位結束后再移回初始位置，往返移動增加了對位時間，降低了生產效率，同時，移動裝置也使得系統的復雜性增加，可靠性降低；其四，攝像頭及配套的活動裝置占用了鍍膜腔室內較大的空間，讓空間有限的腔室內部更加擁擠，不利于維護和清理工作的進行。

因此，本發明提出了一種對位模塊、真空蒸鍍裝置。

發明內容

本發明提供一種對位模塊、真空蒸鍍裝置，可將CCD攝像頭放置在鍍膜腔室外部，既能避免攝像頭被污染和受熱損壞，又能簡化腔室內部設計，提高設備穩定性和維護便利性。

本發明所解決的技術問題采用以下技術方案來實現：