[發明專利]一種對位模塊及真空蒸鍍裝置在審
| 申請號： | 202110453590.3 | 申請日： | 2021-04-26 |
| 公開（公告）號： | CN113136545A | 公開（公告）日： | 2021-07-20 |
| 發明（設計）人： | 茆勝 | 申請（專利權）人： | 睿馨（珠海）投資發展有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/04 | 分類號： | C23C14/04;C23C14/54;C23C14/24 |
| 代理公司： | 上海洞鑒知識產權代理事務所(普通合伙) 31346 | 代理人： | 劉少偉 |
| 地址： | 519000 廣東省珠海市橫琴新*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 對位 模塊 真空 裝置 | ||
1.一種對位模塊，用以實現掩膜版上對位孔與硅基板上對位標志的對位配合，其特征在于，包括：
置于所述對位孔正下方的鏡面；以及
置于所述鏡面外側的圖像采集裝置。
2.根據權利要求1所述的一種對位模塊，其特征在于，所述鏡面為平面式反射鏡，具有一定的傾斜角度，所述傾斜角度為30°～60°。
3.根據權利要求2所述的一種對位模塊，其特征在于，所述平面式反射鏡的傾斜角度為45°，所述圖像采集裝置水平放置于所述平面式反射鏡的外側。
4.根據權利要求1所述的一種對位模塊，其特征在于，所述鏡面為直角全反射棱鏡，其棱鏡面具有一定的傾斜角度，所述傾斜角度為30°～60°。
5.根據權利要求4所述的一種對位模塊，其特征在于，所述直角全反射棱鏡的棱鏡面的傾斜角度為45°，所述圖像采集裝置水平放置于所述平面式反射鏡的外側。
6.根據權利要求1所述的一種對位模塊，其特征在于，所述圖像采集裝置包括CCD攝像頭。
7.一種真空蒸鍍設備，包括：腔室、蒸發源、蒸發源擋板、基板、以及掩膜版，其特征在于，還包括如權利要求1-6任意一項權利要求所述的對位模塊；
所述對位模塊的鏡面固定在所述掩膜版下方的支架上，所述對位模塊的圖像采集裝置位于所述腔室的外側，在所述腔室上開設有觀察孔，所述觀察孔位于所述圖像采集裝置和鏡面之間的，并保證所述圖像采集裝置通過該觀察孔經過所述鏡面反射后觀察到所述掩膜版和基板的對位狀態。
8.根據權利要求7所述的一種真空蒸鍍設備，其特征在于，所述對位模塊至少為2個，分別位于所述腔室內的不同位置。
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