[發明專利]一種封裝結構、封裝方法及顯示裝置

在審

• 申請號: 202110453565.5
• 申請日: 2021-04-26
• 公開（公告）號: CN113193145A
• 公開（公告）日: 2021-07-30
• 發明（設計）人: 茆勝
• 申請（專利權）人: 睿馨（珠海）投資發展有限公司
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52;H01L27/32;H01L51/56
• 代理公司: 上海洞鑒知識產權代理事務所(普通合伙) 31346
• 代理人: 劉少偉

1.一種封裝結構，用以對有機發光器件的密封保護，其特征在于，包括：在所述有機發光器件的表面自下而上依次設置的第一阻隔層、緩沖層、活性層、以及第二阻隔層；其中，所述第一阻隔層和第二阻隔層采用原子沉積方式形成的氮氧化物或氧化物；

所述緩沖層覆蓋于所述第一阻隔層的表面，采用化學氣相沉積形成的高分子層，以補償所述第一阻隔層表面針孔缺陷；

所述活性層采用原子層沉積形成的具有活性的不完全氧化物層，以補償所述第二阻隔層的針孔缺陷。

2.根據權利要1所述的一種封裝結構，其特征在于，所述緩沖層的材料為聚合物，所述緩沖層的材料為聚對二甲苯。

3.根據權利要1所述的一種封裝結構，其特征在于，所述第一阻隔層和第二阻隔層的氧化物包括Al₂O₃(氧化鋁)，SiO₂(氧化硅)，TiO₂(氧化鈦)中的任意一種氧化物。

4.根據權利要1所述的一種封裝結構，其特征在于，所述第一阻隔層和第二阻隔層的氮氧化物包括SiNxOy(氮氧化硅)，其中，x0，0y2。

5.根據權利要1所述的一種封裝結構，其特征在于，所述不完全氧化物層包括SiOx(其中0.8x2)、MoOx(其中0＜x＜3)中的任意一種氧化物。

6.根據權利要1所述的一種封裝結構，其特征在于，在所述第二阻隔層的表面還設有保護層，所述保護層采用剛性材料。

7.一種封裝方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1在有機發光器件通過ALD(原子層沉積)方式形成第一阻隔層；

S2在所述第一阻隔層上通過CVD(化學氣相沉積)方式沉積形成緩沖層；

S3在所述緩沖層的表面通過PE-CVD(等離子體增強化學氣相沉積)、物理氣相沉積(PVD)或陰極濺射方式沉積形成活性層；

S4在所述活性層的表面通過ALD(原子層沉積)方式形成第二阻隔層；

S5在所述第二阻隔層上貼片有玻璃蓋片。

8.根據權利要7所述的一種封裝方法，其特征在于，步驟S3中的所述活性層為具有活性的不完全氧化物層，所述具有活性的不完全氧化物層會與水氧發生活化反應，形成完全氧化物，實現對所述第二阻隔層的修復。

9.根據權利要8所述的一種封裝方法，其特征在于，所述具有活性的不完全氧化物層的材料包括SiOx(其中0.8x2)、MoOx(其中0＜x＜3)中的任意一種氧化物。

10.根據權利要7所述的一種封裝方法，其特征在于，所述緩沖層的材料為聚合物，所述緩沖層的材料為聚對二甲苯。

11.根據權利要7所述的一種封裝方法，其特征在于，所述第一阻隔層和第二阻隔層的材料包括Al₂O₃(氧化鋁)，SiO₂(氧化硅)，TiO₂(氧化鈦)中的任意一種氧化物，或者SiNxOy(氮氧化硅)，其中，x0，0y2。

12.一種顯示裝置，其特征在于，包括：基底、有機發光器件、以及如根據權利要1-6任意一項權利要求所述的封裝結構。