[發明專利]硅通孔陣列有效
| 申請號: | 202110450323.0 | 申請日: | 2021-04-25 |
| 公開(公告)號: | CN113192928B | 公開(公告)日: | 2023-02-03 |
| 發明(設計)人: | 張衛;劉子玉;蔣涵;陳琳;孫清清 | 申請(專利權)人: | 復旦大學 |
| 主分類號: | H01L23/528 | 分類號: | H01L23/528;H01L23/552 |
| 代理公司: | 北京英創嘉友知識產權代理事務所(普通合伙) 11447 | 代理人: | 曹寒梅 |
| 地址: | 200433 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 硅通孔 陣列 | ||
1.一種硅通孔陣列,其特征在于,該硅通孔陣列包括信號硅通孔和屏蔽接地硅通孔,其中,所述信號硅通孔和所述屏蔽接地硅通孔交錯排布成正N邊形,N≥5;
其中,所述信號硅通孔為差分信號硅通孔,而且所述屏蔽接地硅通孔 被布置在兩對所述差分信號硅通孔之間;
其中,一對所述差分信號硅通孔的中心距比一對單端信號硅通孔的中心距小。
2.根據權利要求1所述的硅通孔陣列,其特征在于,所述一對單端信號硅通孔的中心距為至少40微米。
3.根據權利要求1所述的硅通孔陣列,其特征在于,一對所述差分信號硅通孔的中心距為一對單端信號硅通孔的中心距的一半。
4.根據權利要求1所述的硅通孔陣列,其特征在于,所述信號硅通孔和所述屏蔽接地硅通孔的深度為至少30微米。
5.根據權利要求1至4中任一權利要求所述的硅通孔陣列,其特征在于,所述N為8。
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