[發明專利]一種適于接觸式光刻機的曝光裝置

在審

• 申請號: 202110449124.8
• 申請日: 2021-04-25
• 公開（公告）號: CN113176712A
• 公開（公告）日: 2021-07-27
• 發明（設計）人: 張俊杰
• 申請（專利權）人: 上海圖雙精密裝備有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海海貝律師事務所 31301
• 代理人: 宋振宇

本發明公開了一種適于接觸式光刻機的曝光裝置，包括基片以及設置在基片一側的軌道，所述軌道的上方設有安裝座，所述安裝座與軌道之間設有行走結構，所述安裝座的上方轉動安裝有連接架，所述連接架靠近基片的一側安裝有曝光遮擋主體，所述曝光遮擋主體上開設有曝光孔，所述曝光遮擋主體上安裝有用以調整曝光孔大小的調節結構，本發明的曝光遮擋主體的位置可通過行走結構和旋轉的安裝架進行調整，以實現曝光遮擋主體能夠到達基片上的所有位置，并且能夠使得曝光遮擋主體撤離基片，使得本裝置能夠區域曝光和全方位曝光兩種狀態，曝光孔能夠移動到基板的邊角處，實現邊角曝光。

技術領域

本發明涉及光刻機技術領域，具體是一種適于接觸式光刻機的曝光裝置。

背景技術

在接觸式光刻機進行曝光時，有事需要一片基片上曝光一半、四分之一或者更小區域的圖形，以便于區別比較后續工藝,比如刻蝕、濺射等等；

申請號為201620238897.6的專利中提出了適于接觸式光刻機的分區域曝光裝置，其通過設置四個可調節位置的擋板，但是其存在缺陷，當需要在基板的邊角進行投影時，其側面的擋板遮無法移動到中間，導致基板邊角無法投影，并且擋板裝置無法完全撤離基板，導致基板無法全方位投影。

發明內容

本發明的目的在于提供一種適于接觸式光刻機的曝光裝置，以解決現有技術中側面的擋板遮無法移動到中間，導致基板邊角無法投影，并且擋板裝置無法完全撤離基板，導致基板無法全方位投影的問題。

為實現上述目的，本發明提供如下技術方案：一種適于接觸式光刻機的曝光裝置，包括基片以及設置在基片一側的軌道，所述軌道的上方設有安裝座，所述安裝座與軌道之間設有行走結構，所述安裝座的上方轉動安裝有連接架，所述連接架靠近基片的一側安裝有曝光遮擋主體，所述曝光遮擋主體上開設有曝光孔，所述曝光遮擋主體上安裝有用以調整曝光孔大小的調節結構。

優選的，所述行走結構包括轉動安裝在安裝座下表面四個拐角處的齒輪、開設在軌道上表面與齒輪對應的滑槽、安裝在滑槽下底面的齒條以及安裝在安裝座上用以驅動行走結構轉動的馬達，所述齒輪與齒條嚙合。

優選的，所述安裝座的上表面中部嵌入電機，電機的動力輸出端與連接架遠離曝光遮擋主體當一端固接。

優選的，所述連接架靠近曝光遮擋主體的一側下方安裝有斜撐桿，斜撐桿的另一端安裝有滑塊，所述安裝座的圓周外部與滑塊對應的位置設有導向槽，滑塊能夠在導向槽的內部滑動。

優選的，所述調節結構包括設置在曝光孔一側可轉動的X軸絲桿，X軸絲桿上螺紋連接有與X軸絲桿垂直的安裝架，安裝架靠近曝光孔的一側固接有第二遮擋板。

優選的，所述曝光遮擋主體的一側安裝有X軸驅動結構，X軸驅動結構驅動X軸絲桿正反轉動。

優選的，所述安裝架上轉動安裝有Y軸絲桿，Y軸絲桿上螺紋連接有螺母，螺母靠近曝光孔的一側固接有第一遮擋板。

優選的，所述安裝架上安裝有Y軸驅動結構，Y軸驅動結構驅動Y軸絲桿正反轉動。

與現有技術相比，本發明的有益效果是：

1、本發明的曝光遮擋主體的位置可通過行走結構和旋轉的安裝架進行調整，以實現曝光遮擋主體能夠到達基片上的所有位置，并且能夠使得曝光遮擋主體撤離基片，使得本裝置能夠有使用曝光遮擋主體以及不使用曝光遮擋主體兩種狀態，即區域曝光和全方位曝光兩種狀態；

2、本發明的曝光孔能夠移動到基板的邊角處，實現邊角曝光；

3、本發明的曝光孔大小能夠調整，以實現曝光的區域大小調節。

附圖說明

附圖用來提供對本發明的進一步理解，并且構成說明書的一部分，與本發明的實施例一起用于解釋本發明，并不構成對本發明的限制。在附圖中：